掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]目前，隨著液晶生產線代的升級，可生產的基板的尺寸越來越大，其生產良率的要求越來越高，但同時也引發一系列問題。例如:在彩膜基板的制作過程中，由于彩膜基板面積過大而造成面內壓力分布不均成為限制產品設計的主要因素。
[0003]尤其在制作柱狀隔墊物時，如圖1所示，由于彩膜基板I的面積過大，因此，采用的用于制作柱狀隔墊物的掩膜板2的面積也會比較大，由于重力的原因會造成掩膜板2中間區域彎曲下陷，使得四周曝光高度hi比中心曝光高度h2高50?70um，針對使用正性光刻膠的情況而言，被曝光區域是需要顯影掉的，最終保留的柱狀隔墊物位于非曝光區域，因此，形成的柱狀隔墊物的高度是不會受到曝光影響的；然而，使用負性光刻膠的情況不同，最終保留的柱狀隔墊物位于曝光區域，非曝光區域是要顯影掉的，因此，由負性光刻膠形成的柱狀隔墊物的高度會受到曝光程度的影響，從而導致曝光形成的柱狀隔墊物的高度有0.05um的差異，影響彩膜基板的面板均一性。
【發明內容】
[0004]本發明實施例提供一種掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置，用以解決現有技術中存在的由于掩膜板面積過大而導致同一面板中曝光高度不同，進而導致形成的柱狀隔墊物的遠離彩膜基板的一端面不在同一水平面的問題。
[0005]本發明實施例采用以下技術方案:
[0006]—種掩膜板，包括:
[0007]至少兩個透光率等級的曝光區域，其中，所述掩膜板中對應黑矩陣的曝光區域的透光率等級按照由中心區域向四周區域依次升高的規則設置。
[0008]優選地，所述掩膜板的透光率等級的取值范圍為:60% -100%。
[0009]一種彩膜基板的制作方法，所述方法包括:
[0010]提供一彩膜基底；
[0011]在所述彩膜基底上形成圖案化的黑矩陣；
[0012]在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心區域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區域形成的彩色光阻的高度；
[0013]在所述彩色光阻之上、對應所述黑矩陣的區域形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
[0014]優選地，在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，具體包括:
[0015]在形成有黑矩陣的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用具有至少兩個透光率等級的第一掩膜板形成圖案化的第一彩色光阻；
[0016]在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用具有至少兩個透光率等級的第二掩膜板形成圖案化的第二彩色光阻；
[0017]在形成有第二像素單元的彩膜基底上，涂布第三像素材料，利用具有至少兩個透光率等級的第三掩膜板形成圖案化的第三彩色光阻。
[0018]優選地，用于形成柱狀隔墊物的區域的圖形為矩形或圓柱形，所述用于形成柱狀隔墊物的區域的圖形面積大于待形成的柱狀隔墊物在垂直彩膜基底方向上的投影面積。
[0019]優選地，在所述彩色光阻之上、對應所述黑矩陣的區域形成柱狀隔墊物，具體包括:
[0020]在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層；
[0021]利用掩膜板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光，形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
[0022]一種彩膜基板，包括:
[0023]彩膜基底；
[0024]位于所述彩膜基底之上的圖案化的黑矩陣；
[0025]位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，其中，利用權利要求1-2任一所述的掩膜板中心區域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區域形成的彩色光阻的高度；
[0026]位于所述彩色光阻之上、對應所述黑矩陣的區域的柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠離所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。
[0027]優選地，位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，具體包括:
[0028]多個呈條狀圖形、且間隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。
[0029]優選地，所述彩色光阻中用于形成柱狀隔墊物的區域處的彩色光阻的高度差大于O μ m，小于等于0.05 μ m。。
[0030]一種顯示面板，包括所述的彩膜基板。
[0031]一種顯示裝置，包括所述的顯示面板。
[0032]在本發明實施例中，通過在制作彩膜基板的工藝流程中，使用具有至少兩個透光率等級的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中間區域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度低于四周區域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度，從而，補償了后續由于掩膜板面積較大而造成柱狀隔墊物膜層曝光不均勻而導致的柱狀隔墊物的高度不在同一水平面內的缺陷，盡可能的使中間區域形成的柱狀隔墊物的高度與四周區域形成的柱狀隔墊物的高度在同一水平面內，保證了面板的均一性，以便后續對位貼合。
【附圖說明】
[0033]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡要介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域的普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0034]圖1為現有技術中，制作柱狀隔墊物的原理示意圖；
[0035]圖2為本發明實施例提供的一種彩膜基板的制作方法的流程圖；
[0036]圖3(a)-圖3(c)為本發明實施例提供的彩膜基板的制作工藝示意圖；
[0037]圖4(a)-圖4(b)為利用本發明所涉及的彩膜基板制作柱狀隔墊物的工藝示意圖；
[0038]圖5(a)-圖5(b)為利用具有兩個透光率等級的掩膜板制作彩色光阻的示意圖；
[0039]圖6(a)-圖6(b)為利用具有三個透光率等級的掩膜板制作彩色光阻的示意圖。
【具體實施方式】
[0040]為了使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本發明作進一步地詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0041]在本發明實施例中，通過在制作彩膜基板的工藝流程中，使用具有至少兩個透光率等級的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中間區域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度低于四周區域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度，從而，補償了后續由于掩膜板面積較大而造成柱狀隔墊物膜層曝光不均勻而導致的柱狀隔墊物的高度不在同一水平面內的缺陷，盡可能的使中間區域形成的柱狀隔墊物的遠離彩膜基底的一端面與四周區域形成的柱狀隔墊物的遠離彩膜基底的一端面在同一水平面上，保證了面板的均一性，以便后續對位貼合。
[0042]下面通過具體的實施例對本發明所涉及的技術方案進行詳細描述，本發明包括但并不限于以下實施例。
[0043]如圖2所示，為本發明實施例提供的一種彩膜基板的制作方法的流程圖，該方法主要包括以下步驟:
[0044]步驟11:提供一彩膜基底。