曝光方法、平板顯示器的制造方法和器件制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及曝光方法、平板顯示器的制造方法和器件制造方法，更具體而言，涉及使圖案保持體相對于能量束而在掃描方向上相對移動的曝光方法、使用所述曝光方法的平板顯示器的制造方法和使用所述曝光方法的器件制造方法。
【背景技術】
[0002]以往，在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等電子器件(微型器件)的光刻工序中，使用了如下步進-掃描式曝光裝置(所謂掃描步進曝光機(也稱作掃描曝光機))等:使掩模(光掩模)或掩模板(以下統稱為“掩模”)和玻璃板或晶片(以下統稱為“基板”)沿著規定的掃描方向(掃描方向)同步移動，并使用能量束將在掩模上形成的圖案轉印到基板上。
[0003]在這種曝光裝置中，使用了如下掩模臺裝置:通過對吸附保持掩模的端部的框狀的部件(稱作掩模架等)進行位置控制，由此進行掩模的位置控制(參照例如專利文獻I)。
[0004]此處，隨著近年來的基板的大型化，掩模也存在大型化的趨勢。由此，掩模的自重引起的燒曲(或振動)可能給曝光精度帶來影響。
[0005]現有技術文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:美國專利申請公開第2008/0030702號說明書
【發明內容】
[0008]用于解決問題的手段
[0009]本發明是鑒于上述情況而完成的，基于第I觀點，成為包含如下步驟的曝光方法:使具有規定圖案的圖案保持體的上表面與支承部件的下表面相對，其中，該支承部件能夠以非接觸方式從重力方向上側懸垂支承該圖案保持體；使所述圖案保持體以非接觸方式懸垂支承在所述支承部件上；使能夠保持所述圖案保持體的保持部件保持懸垂支承在所述支承部件上的所述圖案保持體；使用所述保持部件，使所述圖案保持體至少在規定的2維平面內的掃描方向上相對于能量束移動，并且，相對于所述能量束，在所述掃描方向上驅動曝光對象物體，將所述圖案轉印到所述曝光對象物體上；在維持所述支承部件對所述圖案保持體的懸垂支承的狀態下，解除所述保持部件對所述圖案保持體的保持；使解除了所述保持部件的保持的所述圖案保持體的上表面與所述支承部件的下表面分離。
[0010]由此，在圖案保持體相對于能量束相對移動時，其上表面以非接觸方式懸垂支承在支承部件上，因此，抑制了撓曲(或振動)。此外，在圖案保持體懸垂支承于支承部件的狀態下，進行保持部件對圖案保持體的保持及該保持的解除，因此，與將圖案保持體交接給直接保持部件的情況下和從保持部件直接回收圖案保持體的情況相比，圖案保持體的更換動作變得簡單。
[0011]根據第2觀點，本發明是包含如下步驟的平板顯示器的制造方法:使用本發明的第I觀點的曝光方法，對所述曝光對象物體進行曝光；以及對曝光后的所述曝光對象物體進行顯影。
[0012]根據第3觀點，本發明是包含如下步驟的器件制造方法；使用本發明的第I觀點的曝光方法，對所述曝光對象物體進行曝光；以及，對曝光后的所述曝光對象物體進行顯影。
【附圖說明】
[0013]圖1是概略地示出第I實施方式的液晶曝光裝置的結構的圖。
[0014]圖2是液晶曝光裝置的側面(一部分截面)圖。
[0015]圖3是圖1的液晶曝光裝置具有的掩模臺裝置的正面圖。
[0016]圖4是圖3的A-A線側視圖(從上方觀察掩模臺裝置的圖)。
[0017]圖5是圖3的B-B線側視圖(從下方觀察掩模臺裝置的圖)。
[0018]圖6(A)和圖6(B)是用于說明送入掩模時的掩模裝載裝置的動作的圖(其I和其2)。
[0019]圖7(A)?圖7(C)是用于說明送入掩模時的掩模臺裝置的動作的圖(其I?其3)。
[0020]圖8 (A)和圖8(B)是用于說明使用第2實施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動作的圖(其I和其2)。
[0021]圖9(A)和圖9(B)是用于說明使用第2實施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動作的圖(其3和其4)。
[0022]圖10(A)和圖10(B)是用于說明使用第2實施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動作的圖(其5和其6)。
【具體實施方式】
[0023]《第I實施方式》
[0024]以下，基于圖1?圖7(C)，對第I實施方式進行說明。
[0025]圖1概略地示出了第I實施方式的液晶曝光裝置10的結構。液晶曝光裝置10例如是以在液晶顯示裝置(平板顯示器)等中使用的矩形(角型)的玻璃基板P(以下簡單稱作基板P)為曝光對象物的步進-掃描式的投影曝光裝置、即所謂掃描曝光機。
[0026]液晶曝光裝置10具有照明系統12、保持光透過型掩模M的掩模臺裝置14、投影光學系統16、裝置主體18、保持基板P的基板臺裝置20、掩模裝載裝置90 (在圖1中，未圖示。參照圖2)和它們的控制系統等，其中，基板P在表面(在圖1中，朝向+Z側的面)涂布有抗蝕劑(感應劑)。以下，在進行曝光時，設掩模M和基板P相對于投影光學系統16分別相對掃描的方向為X軸方向，設在水平面內與X軸垂直的方向為Y軸方向，設與X軸和Y軸垂直的方向為Z軸方向、設繞X軸、Y軸和Z軸的旋轉方向為0x、0y* Θ z方向來進行說明。此外，設與X軸、Y軸和Z軸方向相關的位置分別為X位置、Y位置和Z位置來進行說明。
[0027]照明系統12與例如美國專利第5，729，331號說明書等公開的照明系統同樣地構成。照明系統12使從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經由未圖示的反射鏡、分色鏡、快門、波長選擇濾光片、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)IL而照射于掩模M。作為照明光IL，使用例如i線(波長365nm)，g線(波長436nm)，h線(波長405nm)等光(或上述i線、g線、h線的合成光)。
[0028]照明系統12(包含上述各種透鏡等的照明系統單元)支承于設置在潔凈室的地板11上的照明系統框架30。照明系統框架30具有多個腳部32(在圖1中，與紙面進深方向重合)和支承于該多個腳部32的照明系統支承部34。
[0029]掩模臺裝置14是用于相對于照明系統12 (照明光IL)而在X軸方向(掃描方向)上以規定的長度行程來驅動掩模M,并在Y軸方向和Θ z方向上微細地驅動掩模M的工件。掩模M例如由石英玻璃形成的俯視時呈矩形的板狀部件構成，在朝向圖1中的-Z側的面(下表面部)形成有規定的電路圖案(掩模圖案)。圖3所示，在掩模M的下表面部，為了保護掩模圖案，安裝有被稱作表膜Pe的防塵膜。此處，在掩模M的下表面的寬度方向(Y軸方向)兩端部，設置有未形成有掩模圖案的區域(以下稱作余白區域)。因此，表膜Pe的寬度方向尺寸被設定為小于掩模M的寬度方向尺寸。關于掩模臺裝置14的詳細結構，將在后面記述。
[0030]返回到圖1，投影光學系統16被配置在掩模臺裝置14的下方。投影光學系統16例如是與美國專利第6，552，775號說明書等公開的投影光學系統相同結構的所謂多透鏡投影光學系統，具有利用例如兩側遠心的放大鏡來形成正立正像的多個投影光學系統。
[0031]在液晶曝光裝置10中，在利用來自照明系統12的照明光IL對掩模M上的照明區域進行照明時，利用通過了掩模M的照明光，經由投影光學系統16，在與基板P上的照明區域共軛的照明光的照射區域(曝光區域)中形成該照明區域內的掩模M的電路圖案的投影像(部分正立像)。進而，使掩模M相對于照明區域(照明光IL)在掃描方向上相對移動，并且，使基板P相對于曝光區域(照明光IL)在掃描方向上相對移動，由此，進行基板P上的I個照射區域的掃描曝光，在該照射區域中轉印出在掩模M上形成的圖案。
[0032]裝置主體18支承上述投影光學系統16，并經由多個防振裝置19設置在地板11上。裝置主體18與例如美國專利申請公開第2008/0030702號說明書公開的裝置主體同樣地構成，具有上臺架部18a、下臺架部18b和一對中臺架部18c。裝置主體18被配置為與上述照明系統框架30在振動方面分離。因此，投影光學系統16與照明系統12在振動方面分離。
[0033]基板臺裝置20包含基座22、XY粗動臺24和微動臺26。基座22由俯視時(從+Z側觀察)矩形的板狀的部件