記的設置還避免了多余曝光。對準標記同樣具有相對于待曝光襯底的預定位置信息，其用于將待曝光圖案與待曝光襯底對準。本發明采用三級關聯的標記來進行電子束曝光時的套刻，快速簡便地實現了襯底的對準，使得尋標、定標直觀化，保證了定標的成功。
[0026]根據下文結合附圖對本發明具體實施例的詳細描述，本領域技術人員將會更加明了本發明的上述以及其他目的、優點和特征。
【附圖說明】
[0027]后文將參照附圖以示例性而非限制性的方式詳細描述本發明的一些具體實施例。附圖中相同的附圖標記標示了相同或類似的部件或部分。本領域技術人員應該理解，這些附圖未必是按比例繪制的。附圖中:
[0028]圖1為根據本發明一種典型實施例的具有對準標記、引導標記和方位標記的待曝光襯底的結構示意圖；
[0029]圖2為圖1中的水平位置放置的方位標記放大后的結構示意圖；
[0030]圖3為圖1中豎直位置放置的方位標記放大后的結構示意圖；
[0031]圖4為圖1中引導標記放大后的結構示意圖；
[0032]圖5為圖1中對準標記放大后的結構示意圖；以及
[0033]圖6為圖1中具有位置信息的對準標記放大后的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0034]為了解決現有技術中電子束曝光套刻時尋標、定標困難且繁瑣的問題，本發明提供了一種電子束曝光時對準標記定位的方法，用于將待曝光襯底10上的用于與待曝光圖案對準的對準標記20定位到電子束曝光系統中的視場內。該方法具體包括以下步驟:
[0035]步驟S1:在待曝光襯底10上形成方位標記30、引導標記40和對準標記20。引導標記40鄰近于待曝光襯底10的邊緣。并且，記錄引導標記40和對準標記20在待曝光襯底10上的位置信息。
[0036]在本發明的一個實施例中，如圖1所示，待曝光襯底10包括對準標記20、方位標記30和鄰近于待曝光襯底10的邊緣11設置的引導標記40。相比于通常形成在待曝光襯底10中心區域的待曝光圖案，方位標記30優選也形成在待曝光襯底10的邊緣區域。如方位標記30可以是由靠近待曝光襯底10的邊緣且水平方向設置的一個長條形標記和豎直方向設置的一個長條形標記形成，且兩個長條形標記相互垂直布置。具體地，如圖2-3所示，每一長條形標記可以由沿其長度方向排列的一串十字形標記31形成。在實際應用中，還可以采用其他圖形來構成，比如三角形、梯形、五角形、六角形和八角形等多邊形，或者是其它半包圍式或者非包圍式圖形，雖然圖中未示出，在此不應過多限制本發明的保護范圍。
[0037]方位標記30的形狀和尺寸設置成能夠在目測的條件下調節待曝光襯底10，使得待曝光圖案能夠在水平方向上和豎直方向上調到最佳，使得待曝光襯底與電子束視場方向大致一致，從而與托盤保持水平。如果待曝光圖案在水平或者豎直方向上沒有對準，則會發生偏移，一般將偏移量限定為在曝光長度為2_的距離時低于5 μπι。一般的電子束曝光系統的圖形發生器通常能最少校正1.5度的偏移量。
[0038]目測對準的關鍵在于在水平與豎直的移動中，方位標記30要出現在視場內。對于尺寸為200mmX200mm的視場，若使2 ym寬的典型寬度可識別，需要將視場的倍數放大至1mm寬，也就是放大5000倍。此時，200mmX 200mm的視場對應于40 μ mX 40 μ m。為使不造成二次尋標，需要使在水平方向和豎直方向上的誤差均小于20 μπι，假定誤差為ΙΟμπι，則對應20mmX 20mm的圖形區域，角度偏轉為Arctan [10um/20mm] *180 0.03°。對于人眼最敏感的綠光波長0.55 μm，肉眼可見有明顯差別應為波長的十倍左右約5 μπι。因此，適當選擇方位標記30的尺寸，可以使肉眼能滿足10 μm的對準精度。為使對偏移量敏感，方位標記30的尺寸應該為10 μπι的數量級。根據以上計算，如圖2-3中，方位標記30的十字型的線條可以設計成寬度為3 μm，每條臂的長度為100 μm，該尺寸是滿足10 μπι的相對角度偏移量的目測對準的最佳設計。
[0039]在本發明的一個具體實施例中，如圖4所示，引導標記40包括由多根橫線和多根豎線交叉形成的網格。形成網格狀的引導標記40是為了使其在待曝光襯底10上覆蓋較大的區域而又不用占用大的曝光面積。網格中的多個交叉點用作引導標記40的對應的多個子引導標記41。引導標記40在待曝光襯底10上的位置信息包括各個子引導標記41在待曝光襯底10上的位置信息。并且，子引導標記41的位置信息形成在待曝光襯底10上并且鄰近對應的子引導標記41，由此各個子引導標記41的位置信息被記錄，并且各個子引導標記41結合其位置信息能夠被相互區分。在本發明的一個優選實施例中，網格中線條的寬度為I μ m，長度為1000 μ m。
[0040]關于引導標記40，實際上，由于橫線和豎線的連續延伸，因此每一根橫線和豎線也起到了引導尋找交叉點或者說尋找子引導標記41的作用。由于存在多個子引導標記41，則需要對它們進行區分，以便在視場中看到一個子引導標記41時，就能夠知道該子引導標記41的位置信息，因此需要在子引導標記41處增加區分標識。也就是說可以在引導標記40上記錄其在待曝光襯底10上的位置信息，即將子引導標記41的位置信息或者說其坐標作為區分標識形成在子引導標記41的附近。
[0041]在本發明的一個優選實施例中，可以通過在待曝光襯底10上形成引導標記40和對準標記20的同時同步形成各個子引導標記41的位置信息或者說坐標，一方面實現了在步驟SI中的記錄位置信息，另一個方面可以通過坐標來區分不同的子引導標記41。在其它實施例中，如果引導標記40是單個標記，那么其位置信息可以形成在待曝光襯底10上，也可以記錄在電子束曝光系統中，因為此時不需要對引導標記進行區分。
[0042]同樣，在對準標記20上也記錄有其在待曝光襯底10上的位置信息。對準標記20可以是包括多個按照預定方式布置的多個子對準標記21。具體地，如圖5-6所示，對準標記20可以是由4個十字排成的四方或菱形結構。其中，十字的尺寸要求與方位標記中的十字的尺寸相同。當對準標記20的十字之間間距減小，則可以大大減少套刻時對準的時間并增加定標的成功率。優選兩個相鄰的十字間距為200 μπι。
[0043]如上所述，對準標記20在待曝光襯底10上的位置信息包括各個子對準標記21在待曝光襯底10上的位置信息。并且，子對準標記21的位置信息形成在待曝光襯底10上并且鄰近對應的子對準標記21，由此各個子對準標記21的位置信息被記錄，并且各個子對準標記21結合其位置信息能夠被相互區分。圖6中示出了方形的對準標記20的四個子對準標記21的坐標或者說位置信息。
[0044]在形成引導標記40和對準標記20的各個子標記的位置信息或者說坐標時，為了方便準確地尋標和定標，在本發明的一個實施例中，一般尋找待曝光襯底10的中心位置作為坐標原點O，并在引導標記40和對準標記20上形成相對于同一個待曝光襯底10的坐標原點O的坐標，即在各個子引導標記41和各個對準標記20上形成坐標或者說位置信息。
[0045]步驟S2:將待曝光襯底10平置于電子束曝光系統的樣品臺50上，基于方位標記30調節待曝光襯底10在樣品臺50上的朝向或轉動角度，并且使得待曝光襯底10的引導標記40鄰近于樣品臺50的預定位置51。
[0046]步驟S3:調