本發明屬于液晶顯示技術領域,具體涉及一種彩色濾光片及其制造方法。
背景技術:
tft-lcd中的液晶面板包括彩膜基板和陣列基板,在彩膜基板和陣列基板之間填充有液晶,其中,在彩膜基板上的制作的隔墊物主要起到支撐的作用。目前彩膜基板通常采用雙隔墊物設計,同時包括較高的主隔墊物和較低的輔助隔墊物,主隔墊物與輔助隔墊物之間存在高度差,在沒有外力的情況下只有主隔墊物起支撐作用,當液晶面板受到外部壓力時,輔助隔墊物與主隔墊物共同起支撐作用,所以主隔墊物和輔助隔墊物之間的高度差能夠允許液晶面板具有一定的變形量,以緩沖外部壓力。
傳統的隔墊物制程是通過一張透過率不同的半色調掩模板來完成,通過調節開口部的透過率來形成主隔墊物和輔助隔墊物的高度差,然而這種工藝對于隔墊物材料光反應特征要求較高。制作隔墊物時,大的曝光量會降低輔助隔墊物與主隔墊物之間的高度差異,小的曝光率會造成輔助隔墊物區域的材料光化學反應不完全,膜厚均一性難控制。另外,如圖1所示,傳統彩膜基板中,主隔墊物和輔助隔墊物同基底設計,使得輔助隔墊物的絕對高度低于主隔墊物,高度的下降會降低隔墊物的彈性,從而降低液晶面板的面抗壓能力。
技術實現要素:
針對上述問題,本發明提出一種彩色濾光片及其制造方法,能夠穩定控制輔助隔墊物的均一性,不增加掩膜版成本,且不會產生新的影響液晶面板畫面質量問題,從而能夠減少由于均一性差而造成的產品質量問題;并在保證主隔墊物和輔助隔墊物高度差為設置值的前提下,提高輔助隔墊物的絕對高度,以提高隔墊物的彈性和液晶面板的面抗壓能力。
實現上述技術目的,達到上述技術效果,本發明通過以下技術方案實現:
一種彩色濾光片,包括黑色矩陣層、設置在所述黑色矩陣層之間的彩色濾光層、以及覆蓋所述黑色矩陣層和彩色濾光層的平坦層;還包括主隔墊物和輔助隔墊物;所述主隔墊物設置在所述平坦層上;所述平坦層上設有容置孔,所述輔助隔墊物設置在所述容置孔內,且容置孔的深度等于所述主隔墊物和輔助隔墊物在平坦層頂面以上部分的高度差。
進一步地,所述容置孔貫穿平坦層,所述輔助隔墊物的底面與所述黑色矩陣的表面貼合,且輔助隔墊物的外側壁與容置孔內側壁貼合。
進一步地,所述容置孔為凹槽狀,所述輔助隔墊物的底面以及外側壁均與容置孔貼合。
進一步地,所述黑色矩陣層限定出多個子像素區域;所述彩色濾光層中的相鄰色塊區的邊緣非接觸,黑色矩陣設置在相鄰色塊區邊緣之間。
進一步地,所述主隔墊物和輔助隔墊物分別位于黑色矩陣的垂直上方。
進一步地,所述主隔墊物和輔助隔墊物均采用開口全曝光方法獲得;所述輔助隔墊物的數量為多個,所述平坦層上的容置孔的數量與輔助隔墊物的數量對應。
一種彩色濾光片的制造方法,包括以下步驟:
s1:形成黑色矩陣層;
s2:在黑色矩陣層上形成彩色濾光層;
s3:在彩色濾光層上形成平坦層;
s4:在平坦層上形成多個容置孔;
s5:在平坦層的表面上形成主隔墊物、以及形成在容置孔內的輔助隔墊物主隔墊物和輔助隔墊物在平坦層頂面以上部分的高度差等于所述容置孔的深度。
進一步地,所述步驟s2具體為:將制造彩色濾光層的光刻膠涂布于黑色矩陣層上,將掩膜版置于光刻膠上。
進一步地,所述步驟s3具體為:將制造平坦層的光刻膠涂布于有彩色濾光層上,將掩膜版置于光刻膠上。
進一步地,所述步驟s4具體為:將制造隔墊物的光刻膠涂布于平坦層頂面及容置孔內,將掩膜版置于光刻膠上。
本發明的有益效果:
(1)本發明能夠確保輔助隔墊物具有高度的均一性,且在維持主隔墊物和輔助隔墊物高度差的同時提高了輔助隔墊物的絕對高度,同時提高了taperangle的角度,從而提高了輔助隔墊物的彈性和液晶面板的面抗壓力。
(2)本發明中的彩色濾光片的主隔墊物和輔助隔墊物可以通過使用一張掩膜版采用全口曝光一次完成制作,不需要經過分別曝光,無需制作多張掩膜版或者使用開口部透過率不同的半色調掩膜版,從而大大降低了工藝流程和生產成本。
附圖說明
圖1為傳統彩色濾光片的結構剖視圖;
圖2為進行黑色矩陣層制程后的彩色濾光片剖視圖;
圖3為進行彩色濾光層制程后的彩色濾光片剖視圖;
圖4為進行平坦層制程后的彩色濾光片剖視圖;
圖5為進行主隔墊物和輔助隔墊物制程后的彩色濾光片剖視圖。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
下面結合附圖對本發明的應用原理作詳細的描述。
由于現有技術中的彩色濾光片的輔助隔墊物在制作過程中未達到飽和曝光量,所以其均一性較差,且輔助隔墊物的頂部寬度和底部寬度較小,因而其彈性恢復率較差,因此,本發明提出一種彩色濾光片及其制造方法,使其能夠在制程過程中改善輔助隔墊物的均一性,從而解決由于均一性不佳帶來的各種不良問題。
實施例一
如圖2-5所示,一種彩色濾光片,包括襯底基板1、黑色矩陣層2、設置在所述黑色矩陣層之間的彩色濾光層3、以及覆蓋所述黑色矩陣層和彩色濾光層的平坦層4,還包括主隔墊物5和輔助隔墊物6;
所述主隔墊物5設置在所述平坦層4上;所述平坦層4上設有容置孔,所述輔助隔墊物6設置在所述容置孔內,且容置孔的深度等于所述主隔墊物5和輔助隔墊物6在平坦層頂面以上部分的高度差δ,從而使得主隔墊物5和輔助隔墊物6的實際高度值相同。
在本發明實施例式中,所述容置孔貫穿平坦層4,所述輔助隔墊物6的底面與所述黑色矩陣的表面貼合,且輔助隔墊物6的外側壁與容置孔內側壁貼合;
優選地,所述黑色矩陣層2形成在襯底基板1上,限定出多個子像素區域;所述彩色濾光層3中的相鄰色塊區的邊緣非接觸,黑色矩陣設置在相鄰色塊區邊緣之間;所述主隔墊物5和輔助隔墊物6分別位于黑色矩陣的垂直上方。
在本發明實施例中,所述主隔墊物5和輔助隔墊物6均由不透光材料制成,且主隔墊物5和輔助隔墊物6均采用開口全曝光方法獲得,因此,所有的輔助隔墊物曝光區域會有相同的曝光量,且在相同的曝光時間內提高了隔墊物感光樹脂的光化學反應率,這樣使得在顯影時曝光的邊緣位置處留下更多的光化學反應后的固化感光材料,曝光的邊緣taperangled(錐角)的角度方向更加靠近垂直方向,從而能夠有效提高輔助隔墊物的均一性,并使得其taperangle的角度更易接近垂直。
實施例二
本實施例與實施例一的區別在于:所述容置孔為凹槽狀,所述輔助隔墊物6的底面以及外側壁均與容置孔貼合。
其與部分均與實施例一相同。
實施例三
如圖2-5所示,一種彩色濾光片的制造方法,包括以下步驟:
s1:在襯底基板上形成黑色矩陣層,具體見圖2;
所述步驟s1具體為:將制造黑色矩陣層的光刻膠涂布于玻璃基板上,將掩膜版置于光刻膠上,掩膜版在對應所需形成黑色矩陣的位置開設有光孔,光孔的形狀與黑色矩陣相適應,然后正面曝光進行光反應、顯影形成黑色矩陣。
s2:在黑色矩陣層上形成彩色濾光層,具體見圖3;
所述步驟s2具體為:將制造彩色濾光層的光刻膠涂布于黑色矩陣層上,將掩膜版置于光刻膠上,掩膜版在彩色濾光層各色塊區對應的子像素區域的位置開設有光孔,光孔的形狀與像素開口相適應,然后正面曝光進行光反應、顯影形成像素所需的樣式。
s3:在彩色濾光層上形成具有平坦層,并在平坦層上形成多個容置孔,具體見圖4;
所述步驟s3具體為:將制造平坦層的光刻膠涂布于有彩色濾光層上,將掩膜版置于光刻膠上,掩膜版在對應平坦層需留有容置孔的位置開設有光孔,光孔的形狀與容置孔的大小和角度相適應,然后正面曝光進行光反應、顯影形成所需的容置孔。
s4:在平坦層上形成主隔墊物、以及形成在容置孔內的輔助隔墊物,主隔墊物和輔助隔墊物在平坦層頂面以上部分的高度差等于容置孔的深度,具體見圖5。
所述步驟s4具體為:將制造隔墊物的光刻膠涂布于平坦層頂面及容置孔內,將掩膜版置于光刻膠上,掩膜版在對應主隔墊物和輔助隔墊物的位置開設有光孔,光孔的形狀與主隔墊物和輔助隔墊物相適應,然后正面曝光進行光反應形成主隔墊物和輔助隔墊物。
綜上所述:
(1)本發明能夠確保輔助隔墊物具有高度的均一性,且在維持主隔墊物和輔助隔墊物高度差的同時提高了輔助隔墊物的絕對高度,從而提高了輔助隔墊物的彈性和液晶面板的面抗壓力。
(2)本發明中的彩色濾光片的主隔墊物和輔助隔墊物可以通過使用一張掩膜版采用全口曝光一次完成制作,不需要經過分別曝光,無需制作多張掩膜版或者使用開口部透過率不同的半色調掩膜版,從而大大降低了工藝流程和生產成本。
以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解,本發明不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理,在不脫離本發明精神和范圍的前提下,本發明還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。