本發明涉及一種計算型視覺成像光線調制裝置和方法,屬于計算型視覺成像領域。
背景技術:
計算型視覺技術的顯著特點是具有對成像光線的空間調制功能。目前對成像光線的空間調制方法是利用ccd與dmd的物像關系,通過dmd微鏡翻轉完成與ccd對應像元相關的成像光線調制。這種成像光線的空間調制方法要求ccd與dmd所在面理想共軛,以實現dmd微鏡元與ccd像元之間的點對點調制。這樣增加了成像光線的空間調制難度,且絕對物像關系條件不具有普遍意義,會帶入成像光線調制的原理誤差。
技術實現要素:
針對上述現有技術,本發明提供一種計算型視覺成像光線調制裝置和方法,用以解決上述存在的問題。
本發明計算型視覺成像光線調制裝置予以實現的技術方案是:該裝置包括物鏡、dmd、壓電位移器、中繼透鏡和ccd;所述的物鏡、物方工作面和dmd基準面三者符合斜置場面成像條件,即物鏡主面、物方工作面和dmd基準面相交于一線,物方工作面和dmd基準面互為共軛;所述的dmd通過控制時間占空比調制投射其上的光線強度;所述的壓電位移器帶動dmd沿中繼透鏡光軸前后運動,與dmd基準面構成正、負位移差;所述的中繼透鏡將經dmd調制的光線成像到ccd上;所述的ccd分別對dmd在正、負兩種位移差狀態下的調制光線感光成像。
本發明提出的一種計算型視覺成像光線調制方法,是利用上述計算型視覺成像光線調制裝置,并按照以下步驟:
設置dmd圖案為二維點陣,調整壓電位移器帶動dmd沿中繼透鏡光軸前后運動,觀察ccd上彌散斑從大變小再變大,記錄下彌散斑尺寸相等的dmd兩個位置p1和p2,分別與dmd基準面構成正、負位移差±δ。
δ=(p2-p1)/2(1)
設中繼透鏡的通光孔徑為2a,ccd相對dmd基準面的垂軸放大率β=l/l’,l是中繼透鏡到ccd的距離,l’是中繼透鏡到dmd基準面的距離,則彌散斑的半徑值r為:
r=aδl/l'2(2)
通過ccd記錄的彌散斑尺寸可以求得中繼透鏡的通光孔徑參數2a。
對于ccd坐標(x,y)的光強由dmd一個圓斑區域上指向(x,y)的成像光線貢獻。
dmd在負位移差-δ狀態下,這個圓斑區域su-,v-以aδ/l’為半徑的區域,以(u0-,v0-)為圓心:
dmd在正位移差δ狀態下,這個圓斑區域su+,v+以aδ/l’為半徑的區域,以(u0+,v0+)為圓心:
與ccd坐標(x,y)共軛的dmd基準面上點(u0,v0):
可得dmd在負位移差-δ狀態下ccd坐標(x,y)的光強為:
也可得dmd在正位移差δ狀態下ccd坐標(x,y)的光強為:
k為成像常數,與系統靈敏度、像元感光面積相關;ed0(u0,v0)為目標物在dmd基準面上的光強分布,反應目標物真實成像特性;(u,v)是dmd的坐標;m-(u,v)為dmd在負位移差-δ狀態下的調制函數;m+(u,v)為dmd在正位移差δ狀態下的調制函數;m-(u,v)和m+(u,v)是已知的可控量。
應用公式(6)或公式(7),在ccd與dmd所在面不共軛的條件下,可以實現dmd對成像光線的調制;在標定過程中,ed0(u0,v0)為已知量,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd記錄,可以得到k值;在測量過程中,k值已知,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd記錄,可以求得ed0(u0,v0)。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:
本發明提供的計算型視覺成像光線調制裝置和方法,通過調整壓電位移器帶動dmd沿中繼透鏡光軸前后運動,得到dmd在正負位移差狀態下的成像光線調制公式(6)和公式(7),在ccd與dmd所在面不共軛的條件下實現dmd對成像光線的調制。與現有技術相比,本發明提供的計算型視覺成像光線調制方法對ccd與dmd所在面共軛精度要求低,光學系統的調配要求低,具有普遍意義,且簡便易行,適用性強。
附圖說明
圖1為本發明提供的計算型視覺成像光線調制裝置結構圖;
圖2為本發明提供的計算型視覺成像光線調制方法原理圖。
圖中:1-物鏡,2-dmd,3-壓電位移器,4-中繼透鏡,5-ccd,6-目標物。
具體實施方式
下面結合具體實施方式對本發明作進一步詳細地描述。
如圖1所示,本發明計算型視覺成像光線調制裝置,包括物鏡1、dmd2、壓電位移器3、中繼透鏡4和ccd5;所述的物鏡1、物方工作面和dmd2基準面三者符合斜置場面成像條件,即物鏡1主面、物方工作面和dmd2基準面相交于一線,物方工作面和dmd2基準面互為共軛;所述的dmd2通過控制時間占空比調制投射其上的光線強度;所述的壓電位移器3帶動dmd2沿中繼透鏡4光軸前后運動,與dmd2基準面構成正、負位移差;所述的中繼透鏡4將經dmd2調制的光線成像到ccd5上;所述的ccd5分別對dmd2在正、負兩種位移差狀態下的調制光線感光成像。
本發明提出的一種計算型視覺成像光線調制方法,是利用上述計算型視覺成像光線調制裝置,并按照以下步驟:
如圖2所示,設置dmd2圖案為二維點陣,調整壓電位移器3帶動dmd2沿中繼透鏡4光軸前后運動,觀察ccd5上彌散斑從大變小再變大,記錄下彌散斑尺寸相等的dmd2兩個位置p1和p2,分別與dmd2基準面構成正、負位移差±δ。
δ=(p2-p1)/2(1)
設中繼透鏡4的通光孔徑為2a,ccd5相對dmd2基準面的垂軸放大率β=l/l’,l是中繼透鏡4到ccd5的距離,l’是中繼透鏡4到dmd2基準面的距離,則彌散斑的半徑值r為:
r=aδl/l'2(2)
通過ccd5記錄的彌散斑尺寸可以求得中繼透鏡4的通光孔徑參數2a。
對于ccd5坐標(x,y)的光強由dmd2一個圓斑區域上指向(x,y)的成像光線貢獻。
dmd2在負位移差-δ狀態下,這個圓斑區域su-,v-以aδ/l’為半徑的區域,以(u0-,v0-)為圓心:
dmd2在正位移差δ狀態下,這個圓斑區域su+,v+以aδ/l’為半徑的區域,以(u0+,v0+)為圓心:
與ccd5坐標(x,y)共軛的dmd2基準面上點(u0,v0):
可得dmd2在負位移差-δ狀態下ccd5坐標(x,y)的光強為:
也可得dmd2在正位移差δ狀態下ccd5坐標(x,y)的光強為:
k為成像常數,與系統靈敏度、像元感光面積相關;ed0(u0,v0)為目標物6在dmd2基準面上的光強分布,反應目標物6真實成像特性;(u,v)是dmd2的坐標;m-(u,v)為dmd2在負位移差-δ狀態下的調制函數;m+(u,v)為dmd2在正位移差δ狀態下的調制函數;m-(u,v)和m+(u,v)是已知的可控量。
應用公式(6)或公式(7),在ccd5與dmd2所在面不共軛的條件下,可以實現dmd2對成像光線的調制;在標定過程中,ed0(u0,v0)為已知量,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd5記錄,可以得到k值;在測量過程中,k值已知,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd5記錄,可以求得ed0(u0,v0)。
實施例:
下面舉例進一步對本發明做詳細說明:
設置dmd2圖案為二維3×3點陣,點距100pixel,調整壓電位移器3帶動dmd2沿中繼透鏡4光軸前后運動,觀察ccd5上彌散斑從大變小再變大,記錄下彌散斑直徑20pixel的dmd2兩個位置p1和p2,分別與dmd2基準面構成正、負位移差±δ。
δ=(p2-p1)/2(1)
由公式(2)可以求得中繼透鏡4的通光孔徑參數2a=40l’2/[l·(p2-p1)]。
對于ccd5坐標(x,y)的光強由dmd2一個圓斑區域上指向(x,y)的成像光線貢獻。
dmd2在負位移差-δ狀態下,這個圓斑區域su-,v-以10pixel為半徑的區域,以(u0-,v0-)為圓心:
dmd2在正位移差δ狀態下,這個圓斑區域su+,v+以10pixel為半徑的區域,以(u0+,v0+)為圓心:
與ccd5坐標(x,y)共軛的dmd2基準面上點(u0,v0):
可得dmd2在負位移差-δ狀態下ccd5坐標(x,y)的光強為:
也可得dmd2在正位移差δ狀態下ccd5坐標(x,y)的光強為:
應用公式(6)或公式(7),在ccd5與dmd2所在面不共軛的條件下,可以實現dmd2對成像光線的調制;在標定過程中,ed0(u0,v0)為已知量,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd5記錄,可以得到k值;在測量過程中,k值已知,ec+(x,y)和ec-(x,y)由ccd5記錄,可以求得ed0(u0,v0)。
本發明中,將公式(6)與公式(7)應用于標定過程和測量過程這些均屬于本領域內公知常識,本領域內的技術人員可根據要求再現,在此不再贅述。
盡管上面結合圖對本發明進行了描述,但是本發明并不局限于上述的具體實施方式,上述的具體實施方式僅僅是示意性的,而不是限制性的,本領域的普通技術人員在本發明的啟示下,在不脫離本發明宗旨的情況下,還可以作出很多變形,這些均屬于本發明的保護之內。