一種曝光機的制作方法

本實用新型涉及曝光設備技術領域，尤其是一種曝光機。

背景技術：

曝光機主要用于半導體制造、光電電子、平板、射頻微波、衍射光學、微機電系統、凹凸或覆晶設備和其他要求精細印制和精度對準的技術領域，對曝光精度要求比較高，傳統的曝光機在空氣中進行曝光，然而空氣中的灰塵會對曝光的精度產生影響。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于提供一種曝光機，具備提供干凈的真空環境，提高曝光的精確度的優點，以解決上述背景技術中提出的在曝光時空氣中的灰塵對圖像信息的采集產生影響，降低了曝光的精確度的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種曝光機，包括箱體，其特征在于：所述箱體內開設有曝光室，曝光室內設置有晶片臺、玻璃臺、傳動裝置、第一支撐平臺、第二支撐平臺、第一支撐桿和第二支撐桿，所述傳動裝置為兩組，且對稱安裝在第一支撐平臺的兩側，傳動裝置內安裝有氣缸，傳動裝置與外接電源電性連接，所述第一支撐平臺和玻璃臺四周邊沿上端設置有真空墊圈，晶片臺和第一支撐平臺四周邊沿的下端設置有橡膠桿，晶片臺的下端還安裝有真空計，所述第一支撐平臺水平安裝在傳動裝置的上端，第一支撐平臺上端還設置有第一支撐桿，第一支撐桿的上端與晶片臺固定焊接，所述第二支撐平臺固定安裝在曝光室內，第二支撐平臺上端設置有第二支撐桿，第二支撐桿固定安裝有玻璃臺，所述第一支撐平臺下端開設有出氣口，第一支撐平臺的一側的箱體內安裝有抽真空裝置，抽真空裝置包括活塞幫浦、管路、接頭、活門和墊片，管路的一端與出氣口無縫連接，管路的另一端與接頭無縫連接，接頭與活門旋轉連接，活門的另一端與活塞幫浦無縫連接，活塞幫浦與外接電源電性相連，箱體的側上端還設置有操作控制裝置。

作為本實用新型進一步的方案：所述箱體下方設置有多個底腳，底腳的下端設置有橡膠墊。

作為本實用新型進一步的方案：所述真空墊圈內涂有潤滑油。

作為本實用新型進一步的方案：所述玻璃臺外設置有拉手。

作為本實用新型進一步的方案：所述箱體上安裝有蜂鳴器。

與現有技術相比，本實用新型有益效果：

本曝光機，通過設置底腳、橡膠墊、真空墊圈、橡膠桿和抽真空裝置，底腳和橡膠墊對箱體起到了很好地穩固作用，防止因為晃動對曝光采集到的結果產生影響，橡膠墊和真空墊圈使得晶片臺和玻璃臺之間形成密封空間，通過抽真空裝置的工作抽除密封空間內的空氣，給曝光過程提供了一個干凈的真空環境，使得被曝光的物件處在一個干凈的真空環境下，防止了空氣中的灰塵在曝光時對曝光產生影響，提高了曝光的精確度。通過操作控制裝置來進行控制運行，整個過程操作方便，簡單高效。

附圖說明

圖1為本實用新型的曝光機的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型的曝光機的主視圖；

圖3為本實用新型的曝光機的俯視圖；

圖4為本實用新型的抽真空裝置的結構示意圖。

圖中：1-箱體；2-曝光室；3-晶片臺；4-玻璃臺；41-拉手；5-傳動裝置；6-第一支撐平臺；7-第二支撐平臺；8-第一支撐桿；9-第二支撐桿；10-真空墊圈；11-橡膠桿；12-真空計；13-抽真空裝置；131-活塞幫浦；132-管路；133-接頭；134-活門；135-墊片；14-出氣口；15-操作控制裝置；16-底腳；161-橡膠墊；17-蜂鳴器。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1-4，本實用新型實施例中，一種曝光機，包括箱體1，箱體1下方設置有多 個底腳16，底腳的下端設置有橡膠墊161，通過設置多個底腳16及套上橡膠墊161，使得箱體更加穩固，避免了因為晃動而使圖像的采集受到影響，影響曝光的精度，箱體1內開設有曝光室2，曝光室內設置有晶片臺3、玻璃臺4、傳動裝置5、第一支撐平臺6、第二支撐平臺7、第一支撐桿8和第二支撐桿9，傳動裝置5位兩組，對稱安裝在第一支撐平臺6的兩側，傳動裝置5可方便拉動第一支撐平臺6控制晶片臺3的位置，方便放置檢測物件，傳動裝置5與外接電源電性相連，第一支撐平臺6和玻璃臺4四周邊沿上端設置有真空墊圈10，真空墊圈10內添加有油，可以更好地起到密封的效果，晶片臺3和第一支撐平臺6四周邊沿的下端設置有橡膠桿11，真空墊圈10和橡膠桿11通過添加油連接可以更好地起到密封的效果，晶片臺3的下端安裝有真空計12，用來檢測晶片臺3與玻璃臺4密封時空間內真空的壓力，第一支撐平臺6水平安裝在傳動裝置5的上端，第二支撐平臺7固定安裝在曝光室2內，第一支撐平臺6上端設置有第一支撐桿8，第一支撐桿8的上端固定焊接有晶片臺3，第二支撐平臺7上端設置有第二支撐桿9，第二支撐桿9固定安裝有玻璃臺4，玻璃臺4外設置有拉手41，第一支撐平臺6的一側的箱體1內安裝有抽真空裝置13，抽真空裝置包括活塞幫浦131、管路132、接頭133、活門134和墊片135，第一支撐平臺6下端開設有出氣口14，管路132與出氣口14無縫連接，管路132一端無縫連接有接頭133，接頭133與活門134旋接，活門134的另一端與活塞幫浦131的出口端無縫連接，活塞幫浦131與外接電源電性相連，箱體1的側上端設置有操作控制裝置15和蜂鳴器17，可控制操作控制裝置15來控制該曝光機的工作，當真空計12檢測到壓力到達指定值時，關閉活塞幫浦131和活門134。

綜上所述，通過設置底腳16、橡膠墊161、真空墊圈10、橡膠桿11和抽真空裝置13，底腳16和橡膠墊161對箱體起到了很好地穩固作用，防止因為晃動對曝光采集到的結果產生影響，橡膠墊161和真空墊圈10使得晶片臺3和玻璃臺4之間形成密封空間，通過抽真空裝置13的工作抽除密封空間內的空氣，給曝光過程提供了一個干凈的真空環境，防止了空氣中的灰塵對曝光的精度產生影響，提高了曝光的精度。

對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。

此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。