顯示基板曝光方法與流程

所描述的技術大體涉及顯示基板曝光方法，更具體地說，涉及用曝光裝置的圖案掩模順序對準并曝光具有多個區域的顯示基板的方法。

背景技術：

目前已知的平板顯示器包括液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示面板(PDP)、有機發光二極管設備(OLED設備)、場效應顯示器(FED)、電泳顯示設備等。

平板顯示器是通過半導體工藝制造的，在加工期間形成各種圖案，并且為了形成圖案而使用曝光裝置。曝光裝置根據形成在圖案掩模中的圖案曝光目標。

然而，當顯示設備擴大時，由于圖案掩模的大小是有限的，難以由圖案掩模一次曝光顯示基板，其結果是，使用順序對準并曝光顯示基板上的圖案掩模的方法。

然而，由于難以精確地將圖案掩模上的對準標記對準在顯示基板上設置的對準基準點上，因此實際上，圖案掩模以未對準的狀態被對準在顯示基板上。當在顯示基板上順序對準圖案掩模時，形成了在曝光期間未對準度彼此重疊的縫線(stitch line)，其結果是，存在重疊偏差出現在顯示基板上的問題，并且增加了產生諸如顯示設備的斑點的缺陷的可能性。

在此背景技術部分公開的上述信息僅用于增強對所描述技術的背景的理解，因此其可能包含不形成在本國對本領域普通技術人員來說已經知曉的現有技術的信息。

技術實現要素：

所描述的技術已經致力于提供一種對準并曝光圖案掩模的方法，通過在曝光裝置中反映顯示基板和圖案掩模的初始對準結果以在后續圖案掩模對準期間應用初始對準結果，具有在曝光期間減少縫線中的重疊偏差的優點。

一個示例性實施例提供了一種曝光方法，通過圖案掩模將具有多個區域的顯示基板順序曝光，該方法包括：第一曝光步驟，通過基于設置在顯示基板的第一區域的非顯示區中的第一基板對準標記對準形成在圖案掩模中的掩模對準標記來曝光顯示基板的第一區域；第一對準結果計算步驟，計算第一基板對準標記和掩模對準標記的第一對準結果；第二基板對準標記設置步驟，通過反映第一對準結果在顯示基板的第二區域的非顯示區中設置第二基板對準標記；以及第二曝光步驟，通過基于第二基板對準標記對準掩模對準標記來曝光顯示基板的第二區域。

第一基板對準標記可以被設置在顯示基板的第一區域的邊緣的上角和下角。

第二基板對準標記可以被設置在顯示基板的第二區域的邊緣的上角和下角。

顯示基板可以進一步包括除了第一區域和第二區域之外的第三區域，并且在第二曝光步驟之后，該方法可以進一步包括：第二對準結果計算步驟，計算第二基板對準標記和掩模對準標記的第二對準結果；第三基板對準標記設置步驟，通過反映第二對準結果在顯示基板的第三區域的非顯示區中設置第三基板對準標記；以及第三曝光步驟，通過基于第三基板對準標記對準掩模對準標記來曝光顯示基板的第三區域。

第三基板對準標記可以被設置在顯示基板的第三區域的邊緣的上角和下角。

另一示例性實施例提供了一種曝光方法，通過圖案掩模將具有多個區域的顯示基板順序曝光，該方法包括：第一曝光步驟，通過基于設置在顯示基板的第一區域的非顯示區和第二區域的非顯示區中的第一基板對準標記對準形成在圖案掩模中的掩模對準標記并遮蔽第二區域來曝光顯示基板的第一區域；第一對準結果計算步驟，計算第一基板對準標記和掩模對準標記的第一對準結果；第二基板對準標記設置步驟，通過反映第一對準結果在顯示基板的第二區域的非顯示區和第三區域的非顯示區中設置第二基板對準標記；以及第二曝光步驟，通過基于第二基板對準標記對準掩模對準標記來曝光顯示基板的第二區域和第三區域。

第一基板對準標記可以被設置在顯示基板的第一區域的邊緣的上角和第二區域的邊緣的下角。

第二基板對準標記可以被設置在顯示基板的第二區域的邊緣的上角和第三區域的邊緣的下角。

又一示例性實施例提供了一種曝光方法，通過圖案掩模將具有多個區域的顯示基板順序曝光，該方法包括：第一曝光步驟，通過基于設置在顯示基板的第一區域的非顯示區和第二區域的非顯示區中的第一基板對準標記對準形成在圖案掩模中的掩模對準標記并遮蔽第二區域來曝光顯示基板的第一區域；第一對準結果計算步驟，計算第一基板對準標記和掩模對準標記的第一對準結果；第二基板對準標記設置步驟，通過反映第一對準結果在顯示基板的第二區域的非顯示區和第三區域的非顯示區中設置第二基板對準標記；第二曝光步驟，通過基于第二基板對準標記對準掩模對準標記并遮蔽第三區域來曝光顯示基板的第二區域；第二對準結果計算步驟，計算第二基板對準標記和掩模對準標記的第二對準結果；第三基板對準標記設置步驟，通過反映第二對準結果在顯示基板的第三區域的非顯示區和第四區域的非顯示區中設置第三基板對準標記；以及第三曝光步驟，通過基于第三基板對準標記對準掩模對準標記來曝光顯示基板的第三區域和第四區域。

第一基板對準標記可以被設置在顯示基板的第一區域的邊緣的上角和第二區域的邊緣的下角。

第二基板對準標記可以被設置在顯示基板的第二區域的邊緣的上角和第三區域的邊緣的下角。

第三基板對準標記可以被設置在顯示基板的第三區域的邊緣的上角和第四區域的邊緣的下角。

根據示例性實施例，在通過圖案掩模順序曝光大型顯示基板的曝光方法中，通過在曝光裝置中反映顯示基板和圖案掩模的初始對準結果以在后續圖案掩模對準期間應用初始對準結果，能夠在曝光期間減少縫線的重疊偏差，并防止諸如顯示設備的斑點的缺陷。

附圖說明

圖1是示出了根據第一示例性實施例的曝光方法的流程圖。

圖2是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖3是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖4是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第一基板對準標記和掩模對準標記的第一對準狀態的圖。

圖5是示意性示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第二基板對準標記設置狀態的圖。

圖6是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖7是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖8是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第三曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖9是示意性地示出了根據第三示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖10是示意性地示出了根據第三示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

圖11是示意性地示出了根據第四示例性實施例的曝光方法中的第三曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

具體實施例

在下文中將參考其中示出了發明的示例性實施例的附圖更完整地描述本發明。如本領域技術人員將認識到的那樣，所描述的實施例可以以各種不同的方式修改，所有這些都不脫離本發明的精神或范圍。

此外，在示例性實施例中，由于相同的附圖標記指代具有相同構造的相同元件，代表性地描述了第一示例性實施例，在其它示例性實施例中，將只描述不同于第一示例性實施例的構造。

應該注意的是，圖是示意性的，沒有按照比例繪制。為了清楚和方便，圖中部分的相對尺寸和比例被示出為在圖中的尺寸上被夸大或減小了，任何尺寸僅僅是例示，而不是限制。此外，在兩個或更多的圖中示出的相同結構、元件或部件使用相同的附圖標記，以顯示相似的特征。將理解的是，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件“上”時，它可以直接在另一元件上，或者也可以存在中間元件。

示例性實施例詳細顯示了示例性實施例。其結果是，可以預期對圖的各種修改。因此，示例性實施例不限于所示區域的特定方面，例如，通過制造包括一方面的改進。

在下文中，將參考圖1至圖5描述根據第一示例性實施例的曝光方法。

圖1是示出了根據第一示例性實施例的曝光方法的流程圖，圖2是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖，圖3是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖，圖4是示意性地示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第一基板對準標記和掩模對準標記的第一對準狀態的圖，并且圖5是示意性示出了根據第一示例性實施例的曝光方法中的第二基板對準標記設置狀態的圖。

參考圖1和圖2，在根據第一示例性實施例的曝光方法中，顯示基板100被劃分成顯示區和非顯示區，顯示區可被劃分成兩個區域，這兩個區域由圖案掩模50順序曝光。在顯示基板100的第一區域10的非顯示區中設置了第一基板對準標記12、14、16和18。另外，在圖案掩模50中形成了與第一基板對準標記12、14、16和18對準的掩模對準標記52。

首先，如圖2所示，顯示基板100的第一區域10通過基于設置在顯示基板100的第一區域10的非顯示區中的第一基板對準標記12、14、16和18對準形成在圖案掩模50中的掩模對準標記52來曝光(S101)。

此后，計算第一基板對準標記12、14、16和18與掩模對準標記52的第一對準結果(S102)。在作為原始目標的第一對準結果中，圖案掩模50被定位成使得掩模對準標記52的中心與第一基板對準標記12、14、16和18的中心的基準點C重合，但實際上，如圖2和圖4所示，圖案掩模50可能以未對準狀態被定位在顯示基板100上。由于未對準狀態，圖案掩模50被定位成平行于與第一區域10和第二區域20的虛擬分割線2未對準的扭曲線4。

在第一對準結果中，第一基板對準標記12、14、16和18與掩模對準標記52之間的未對準度可以以(X，Y)坐標形式繪制。參考圖4，例如，第一對準結果可以是在顯示基板100的左上側的(-0.5μm，-0.3μm)(參見圖4A)和在顯示基板100的右上側的(+0.3μm，+0.5μm)(參見圖4B)。

此后，通過反映第一對準結果，在顯示基板100的第二區域20的非顯示區中設置第二基板對準標記22、24、26和28(S103)。當設置第二基板對準標記22、24、26和28時，應用以(X，Y)坐標形式繪制的第一對準結果，并以顯示基板100的第二區域20的非顯示區中的第一對準結果的(X，Y)坐標以扭曲狀態設置第二基板對準標記22、24、26和28。也就是說，如圖5所示，當應用上述第一對準結果的示例時，第二基板對準標記22、24、26和28可以通過在顯示基板100的左上側移動到(+0.5μm，+0.3μm)(參見圖5A)并在顯示基板100的右上側移動超過原始第二對準標記(-0.3μm，-0.5μm)(參見圖5B)來設置。

此后，通過基于新設置的第二基板對準標記22、24、26和28對準掩模對準標記52來曝光顯示基板100的第二區域20(S104)。

同時，第一基板對準標記12、14、16和18被設置在顯示基板100的第一區域10的邊緣的上角和下角，并且第二基板對準標記22、24、26和28被設置在顯示基板100的第二區域20的邊緣的上角和下角。

圖6是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖，圖7是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖，圖8是示意性地示出了根據第二示例性實施例的曝光方法中的第三曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

參考圖6至圖8，除了根據上述第一示例性實施例的曝光方法中的顯示基板100的第一區域10和第二區域20之外，顯示基板100進一步包括第三區域30。由于根據第一示例性實施例的曝光方法的第一曝光步驟(S101)、第一對準結果計算步驟(S102)、第二基板對準標記設置步驟(S103)和第二曝光步驟(S104)與根據第二示例性實施例的曝光方法的這些步驟是共同的，其描述將被省略。

根據第二示例性實施例的曝光方法在第二曝光步驟之后(S104)進一步包括計算第二基板對準標記22、24、26和28與掩模對準標記52的對準結果的第二對準結果計算步驟。在上述的第二曝光步驟中，第二基板對準標記22、24、26和28與掩模對準標記52的第二對準結果可能進一步扭曲。

此后，通過反映第二對準結果，在顯示基板100的第三區域30的非顯示區中設置第三基板對準標記32、34、36和38。由于第三基板對準標記32、34、36和38的設置方法與上述的第二基板對準標記22、24、26和28的設置方法相同，其描述被省略。

此后，通過基于第三基板對準標記32、34、36和38對準掩模對準標記52來曝光顯示基板100的第三區域30。

同時，第三基板對準標記32、34、36和38可以被設置在顯示基板100的第三區域30的邊緣的上角和下角。

圖9是示意性地示出了根據第三示例性實施例的曝光方法中的第一曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖，圖10是示意性地示出了根據第三示例性實施例的曝光方法中的第二曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

參考圖9和圖10，根據第三示例性實施例的曝光方法中的顯示基板100包括作為顯示區的第一區域10、第二區域20和第三區域30，并且圖案掩模50被形成為對應于兩個區域的尺寸。

首先，參考圖9，形成在圖案掩模50中的掩模對準標記52基于設置在顯示基板100的第一區域10的非顯示區和第二區域20的非顯示區中的第一基板對準標記12、14、16和18對準。另外，顯示基板100的第一區域10通過遮蔽第二區域20來曝光。

此后，計算第一對準標記12、14、16和18與掩模對準標記52的第一對準結果。由于此示例性實施例中的第一對準結果的計算與上述第一示例性實施例中的第一對準結果的計算方法相同，其描述被省略。

此后，通過反映第一對準結果，第二基板對準標記22、24、26和28被設置在顯示基板100的第二區域20的非顯示區和第三區域30的非顯示區中。由于此示例性實施例中的第二基板對準標記22、24、26和28的設置與上述第一示例性實施例中的第二基板對準標記22、24、26和28的設置方法相同，其描述被省略。

此后，如圖10所示，顯示基板100的第二區域20和第三區域30通過基于第二基板對準標記22、24、26和28對準掩模對準標記52來曝光。

同時，在此示例性實施例中，第一基板對準標記12、14、16和18可以被設置在顯示基板100的第一區域10的邊緣的上角和第二區域20的邊緣的下角。此外，第二基板對準標記22、24、26和28可以被設置在顯示基板100的第二區域20的邊緣的上角和第三區域30的邊緣的下角。

圖11是示意性地示出了根據第四示例性實施例的曝光方法中的第三曝光步驟中的圖案掩模的對準狀態的圖。

參考圖11，根據第四示例性實施例的曝光方法的顯示基板100包括作為顯示區的第一區域10、第二區域20、第三區域30和第四區域40，并且圖案掩模50被形成為對應于兩個區域的尺寸。

首先，形成在圖案掩模50中的掩模對準標記52基于設置在顯示基板100的第一區域10的非顯示區和第二區域20的非顯示區中的第一基板對準標記12、14、16和18被對準。另外，顯示基板100的第一區域10通過遮蔽第二區域20來曝光。

此后，計算第一基板對準標記12、14、16和18與掩模對準標記52的第一對準結果。由于此示例性實施例中的第一對準結果的計算與上述第一示例性實施例至第三示例性實施例中的第一對準結果的計算方法相同，其描述被省略。

此后，通過反映第一對準結果，第二基板對準標記22、24、26和28被設置在顯示基板100的第二區域20的非顯示區和第三區域30的非顯示區中。由于在此示例性實施例中的第二基板對準標記22、24、26和28的設置與上述第一示例性實施例至第三示例性實施例中的第二基板對準標記22、24、26和28的設置方法相同，其描述被省略。

此后，通過基于第二基板對準標記22、24、26和28對準掩模對準標記52并遮蔽第三區域30來曝光顯示基板100的第二區域20。

此后，通過計算第二基板對準標記22、24、26和28與掩模對準標記52并反映第二對準結果，第三基板對準標記32、34、36和38被設置在顯示基板100中的第三區域30的非顯示區和第四區域40的非顯示區中。

此后，如圖11所示，通過基于第三基板對準標記32、34、36和38對準掩模對準標記52來曝光顯示基板100的第三區域30和第四區域40。

同時，在此示例性實施例中，第一基板對準標記12、14、16和18可以被設置在顯示基板100的第一區域10的邊緣的上角和第二區域20的邊緣的下角。此外，第二基板對準標記22、24、26和28可以被設置在顯示基板100的第二區域20的邊緣的上角和第三區域30的邊緣的下角。此外，第三基板對準標記32、34、36和38可以被設置在顯示基板100的第三區域30的邊緣的上角和第四區域40的邊緣的下角。

這樣，根據示例性實施例，在通過圖案掩模順序曝光大型顯示基板的曝光方法中，通過在曝光裝置中反映顯示基板和圖案掩模的初始對準結果以在后續圖案掩模對準期間應用初始對準結果，能夠在曝光期間減少縫線的重疊偏差，并防止諸如顯示設備的斑點的缺陷。

盡管已經結合目前被認為是實用的示例性實施例描述了本公開，但是應該理解的是，本發明不限于所公開的實施例，而是相反，旨在覆蓋包括在所附權利要求的精神和范圍內的各種修改和等同布置。

<符號說明>

100：顯示基板 10：第一區域

12、14、16、18：第一基板對準標記

20：第二區域 22、24、26、28：第二基板對準標記

30：第三區域 32、34、36、38：第三基板對準標記

40：第四區域 50：圖案掩模

52：掩模對準標記