抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物及抗蝕劑下層膜的制作方法

本發明涉及干式蝕刻耐受性及耐熱性優異、且堿溶解性的控制容易的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物、及使用該組合物得到的抗蝕劑下層膜。

背景技術：

近年來，伴隨lsi的高集成化和高速度化，其圖案加工要求更加微細化，在使用arf準分子激光(193nm)的光刻中，通過工藝的改良而超越了源自光源波長的本質上的分辨極限。

在光致抗蝕劑的領域中，開發了各種用于形成更微細的布線圖案的方法，其中之一為多層抗蝕劑法。多層抗蝕劑法中，在基板上形成1層或多層被稱為抗蝕劑下層膜的層后，在其上通過通常的光刻形成抗蝕圖案，接著通過干式蝕刻向基板加工轉印布線圖案。多層抗蝕劑法中重要的構件之一是前述抗蝕劑下層膜，對于該下層膜要求干式蝕刻耐受性高且抗蝕圖案線邊緣粗糙度(ler)低、光反射性低、耐熱解性高等。另外，對于抗蝕劑下層膜，從以溶劑稀釋的狀態制膜的方面出發，抗蝕劑下層膜用的樹脂材料必須可溶于通用有機溶劑，進而，根據抗蝕圖案形成的方式，要求固化前的樹脂組合物可溶于堿顯影溶液、在光致抗蝕劑的顯影時能夠同時去除等的性能。為了表現出這種性能，已知有含有具有芴骨架和酚性羥基的酚醛清漆樹脂的組合物(例如，參照專利文獻1。)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-252323號公報

技術實現要素：

發明要解決的問題

專利文獻1記載的具有芴骨架和酚性羥基的酚醛清漆樹脂在通用有機溶劑中的溶解性優異，另外，使用含有該樹脂的樹脂組合物得到的固化涂膜具有光反射率低的優點。但是，該固化涂膜的干式蝕刻耐受性、耐熱性尚不充分。

因此，本發明要解決的課題在于提供干式蝕刻耐受性及耐熱性優異、堿溶解性的控制容易的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物、由該抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成的抗蝕劑下層膜。

用于解決問題的方案

本發明人為了解決上述課題而反復進行了深入研究，結果發現，將酚系三核體化合物與醛類縮合而得到的酚醛清漆型酚醛樹脂的干式蝕刻耐受性及耐熱性高，另外，通過作為酚系三核體化合物組合使用在3個苯環上都具有酚性羥基的三核體化合物與由具有酚性羥基的2個苯環和不具有酚性羥基的苯環構成的三核體化合物，能夠控制所得到的酚醛清漆型酚醛樹脂的羥基量，能夠實現期望的堿溶解性等，從而完成了本發明。

即，本發明涉及一種抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物，其特征在于，含有：使選自由下述通式(1)所示的化合物及下述通式(2)所示的化合物組成的組中的1種以上酚系三核體化合物(a)與醛類(b)在酸催化劑下進行反應而得到的酚醛清漆型酚醛樹脂。

[式(1)中，r¹、r²及r³各自獨立地表示任選具有取代基的碳原子數1～8的烷基。r¹存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同，r²存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同，r³存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同。p及q各自獨立地為1～4的整數，r為0～4的整數，s為1或2。其中，r與s的和為5以下。]

[式(2)中，r¹、r²、r³、p及q與前述式(1)相同，t表示0～5的整數。]

本發明還涉及一種抗蝕劑下層膜，其特征在于，其是將前述抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物固化而形成的。

發明的效果

通過使用本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物，能夠得到干式蝕刻耐受性及耐熱性高、且堿溶解性的控制容易的抗蝕劑下層膜。另外，本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物包含具有較多苯環的樹脂作為酚醛清漆型酚醛樹脂，因此所得到的涂膜的光反射性低。因此，本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物也適用于防反射膜形成用途。

附圖說明

圖1為合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)的gpc圖。

圖2為合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)的¹³c-nmr譜圖。

圖3為合成例2中得到的酚系三核體化合物(2)的gpc圖。

圖4為合成例2中得到的酚系三核體化合物(2)的¹³c-nmr譜圖。

圖5為合成例3中得到的酚醛清漆樹脂(3-a)的gpc圖。

圖6為合成例4中得到的酚醛清漆樹脂(3-b)的gpc圖。

圖7為合成例5中得到的酚醛清漆樹脂(3-c)的gpc圖。

圖8為合成例6中得到的酚醛清漆樹脂(3-d)的gpc圖。

具體實施方式

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的特征在于，含有：使選自由下述通式(1)所示的化合物及下述通式(2)所示的化合物組成的組中的1種以上酚系三核體化合物(a)與醛類(b)在酸催化劑下進行反應而得到的酚醛清漆型酚醛樹脂。作為成為前述酚醛清漆型酚醛樹脂(以下有時稱為“本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂。”)的原料的酚系三核體化合物(a)，以適當的比率組合通式(1)所示的化合物(在3個苯環上都具有酚性羥基的三核體化合物)與通式(2)所示的化合物(由具有酚性羥基的2個苯環和不具有酚性羥基的苯環構成的三核體化合物)，從而能夠控制所得到的酚醛清漆型酚醛樹脂的羥基量，進而容易將堿溶解性控制為期望的程度。

通式(1)及(2)中，p、q各自獨立地為1～4的整數，r為0～4的整數，s為1或2。其中，r與s的和為5以下。通式(2)中，t為0～5的整數。

通式(1)及(2)中，r¹、r²及r³各自獨立地表示任選具有取代基的碳原子數1～8的烷基。r¹存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同，r²存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同，r³存在多個時，它們可以彼此相同也可以不同。

該烷基可以為直鏈狀，也可以為支鏈狀，也可以為具有環狀結構的基團，優選為直鏈狀的基團。本發明中，作為r¹、r²、或r³的烷基，優選碳原子數1～6的烷基、更優選碳原子數1～3的烷基、進一步優選為直鏈狀的碳原子數1～3的烷基。

通式(1)及(2)中的r¹、r²、或r³的烷基中的氫原子也可以被取代基取代。可被取代的氫原子的數量沒有特別限制，優選為1～3個、更優選為1或2個。另外，1個烷基具有多個取代基時，各個取代基可以彼此相同也可以不同。

作為該取代基，可列舉出羥基、碳原子數1～6的烷氧基、任選具有取代基的芳基、鹵素原子等。該烷基所具有的取代基之中，作為碳原子數1～6的烷氧基，例如可列舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、正丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、異戊氧基、己氧基、環己氧基等。另外，作為任選具有取代基的芳基，可列舉出苯基、萘基、茚基、聯苯基等。作為鹵素原子，可列舉出氟原子、氯原子、溴原子。

作為通式(1)及(2)中的r¹、r²及r³的烷基，具體而言，可列舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、己基、環己基、羥基乙基、羥基丙基、氟甲基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基丙基、苯基甲基、羥基苯基甲基、二羥基苯基甲基、甲苯基甲基、二甲苯基甲基、萘基甲基、羥基萘基甲基、二羥基萘基甲基、苯基乙基、羥基苯基乙基、二羥基苯基乙基、甲苯基乙基、二甲苯基乙基、萘基乙基、羥基萘基乙基、二羥基萘基乙基，優選甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、己基，進一步優選為甲基或乙基，更進一步優選甲基。

通式(1)及(2)中的r¹和r²優選為具有相同碳原子數的烷基。另外，優選的是，r¹與r²分別鍵合于在r¹與r²鍵合的各苯環上從該苯環所具有的酚性羥基所鍵合的碳原子來看位于相同位置的碳原子。r¹鍵合的苯環與r²鍵合的苯環上分別鍵合有酚性羥基，該酚性羥基鍵合的位置也優選為在各苯環上相同的位置。進而，p和q也優選為相同的數。作為p和q，優選為2。

通式(1)及(2)中的r為0～4的整數。其中，r優選為0。

作為前述通式(1)所示的化合物，例如可列舉出下述通式(1-1)～(1-18)的任一者所示的化合物。通式(1-1)～(1-18)中，r¹、r²及r³與前述通式(1)相同，r1表示0～4的整數，r2表示0～3的整數。作為通式(1-1)～(1-18)所示的化合物，優選r¹及r²均為甲基或乙基、且r1及r2為0的化合物，更優選r¹及r²均為甲基、且r1及r2為0的化合物。

作為前述通式(1)所示的化合物，從能獲得可得到具有耐熱性和高分辨率的涂膜的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的方面出發，優選通式(1-1)、(1-2)、(1-7)、(1-8)、(1-13)、或(1-14)所示的化合物，更優選通式(1-1)、(1-7)、或(1-13)所示的化合物，進一步優選通式(1-1)所示的化合物。

作為前述通式(2)所示的化合物，例如可列舉出下述通式(2-1)～(2-6)的任一者所示的化合物。通式(2-1)～(2-6)中、r¹、r²、r³及t與前述通式(2)相同。作為通式(2-1)～(2-6)所示的化合物，優選r¹及r²均為甲基或乙基、且t為0的化合物，更優選r¹及r²均為甲基、且t為0的化合物。

作為前述通式(2)所示的化合物，從能獲得可得到具有耐熱性和高分辨率的涂膜的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的方面出發，優選通式(2-1)或(2-2)所示的化合物，更優選通式(2-1)所示的化合物。

前述通式(1)所示的化合物例如通過使烷基取代苯酚(c1)與含羥基芳香族醛(c2)在能利用烷基取代苯酚(c1)的芳香族烴基上的碳原子的反應活化能的差異的條件下進行縮合而得到。具體而言，例如，前述通式(1)所示的化合物通過使烷基取代苯酚(c1)與含羥基芳香族醛(c2)在酸催化劑存在下縮聚而得到。

前述通式(2)所示的化合物例如通過使烷基取代苯酚(c1)與不具有羥基的芳香族醛(不含羥基的芳香族醛)(c’2)在能利用烷基取代苯酚(c1)的芳香族烴基上的碳原子的反應活化能的差異的條件下進行縮合而得到。具體而言，例如，前述通式(1)所示的化合物通過使烷基取代苯酚(c1)與不含羥基的芳香族醛(c’2)在酸催化劑存在下縮聚而得到。

前述烷基取代苯酚(c1)是苯酚的苯環上鍵合的一部分或全部氫原子被烷基取代的化合物。作為該烷基，可列舉出碳原子數1～8的烷基，特別優選甲基。作為前述烷基取代苯酚(c1)，例如可列舉出鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、對辛基苯酚、對叔丁基苯酚、鄰環己基苯酚、間環己基苯酚、對環己基苯酚等單烷基苯酚；2,5-二甲酚、3,5-二甲酚、3,4-二甲酚、2,4-二甲酚、2,6-二甲酚等二烷基苯酚；2,3,5-三甲基苯酚、2,3,6-三甲基苯酚等三烷基苯酚等。另外，這些烷基取代苯酚之中，從耐熱性與堿溶解性的平衡優異的方面出發，優選烷基在苯酚的苯環上的取代數為2，作為具體例，優選2,5-二甲酚、2,6-二甲酚。這些烷基取代苯酚(c1)可以僅使用1種也可以組合使用2種以上，優選僅使用1種。

前述含羥基芳香族醛(c2)是芳香環上具有至少1個醛基和至少1個羥基的化合物。作為前述含羥基芳香族醛(c2)，例如可列舉出水楊醛、間羥基苯甲醛、對羥基苯甲醛等羥基苯甲醛；2,4-二羥基苯甲醛、3,4-二羥基苯甲醛等二羥基苯甲醛；香草醛、鄰香草醛、異香草醛、乙基香草醛等香草醛系化合物；等。這些含羥基芳香族醛(c2)之中，從工業獲取容易度、耐熱性與堿溶解性的平衡優異出發，優選對羥基苯甲醛(4-羥基苯甲醛)、2,4-二羥基苯甲醛、3,4-二羥基苯甲醛，更優選對羥基苯甲醛。

前述不含羥基的芳香族醛(c’2)是在芳香環上具有至少1個醛基、且不具有酚性羥基的化合物。作為前述不含羥基的芳香族醛(c’2)，例如可列舉出苯甲醛；甲基苯甲醛、乙基苯甲醛、二甲基苯甲醛、二乙基苯甲醛等烷基苯甲醛；甲氧基苯甲醛、乙氧基苯甲醛等烷氧基苯甲醛；等。這些不含羥基的芳香族醛(c’2)之中，優選苯甲醛。

前述通式(1)或(2)所示的化合物例如通過使前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)或不含羥基的芳香族醛(c’2)在酸催化劑存在下縮聚而得到。例如，通過使2,5-二甲酚與4-羥基苯甲醛在酸催化劑存在下縮聚，得到前述通式(1-1)之中r¹及r²均為甲基且r為0的化合物。通過使2,6-二甲酚與4-羥基苯甲醛在酸催化劑存在下縮聚，得到前述通式(1-2)之中r¹及r²均為甲基且r為0的化合物。

作為該酸催化劑，例如可列舉出乙酸、草酸、硫酸、鹽酸、苯酚磺酸、對甲苯磺酸、醋酸鋅、醋酸錳等。這些酸催化劑可以僅使用1種，也可以組合使用2種以上。另外，這些酸催化劑之中，從活性優異的觀點出發，優選硫酸、對甲苯磺酸。酸催化劑可以在反應前加入，也可以在反應中途加入。

前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)或不含羥基的芳香族醛(c’2)的縮聚可以根據需要在有機溶劑的存在下進行。作為該有機溶劑，例如可列舉出甲醇、乙醇、丙醇等一元醇；乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、三亞甲基二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油等多元醇；2-乙氧基乙醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單戊醚、乙二醇二甲醚、乙二醇甲乙醚、乙二醇單苯醚等二醇醚；1,3-二噁烷、1,4-二噁烷等環狀醚；乙二醇乙酸酯等二醇酯；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮等。這些有機溶劑可以僅使用1種也可以組合使用2種以上。另外，這些有機溶劑之中，從所得到的化合物的溶解性優異的觀點出發，優選2-乙氧基乙醇。

作為使前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)或不含羥基的芳香族醛(c’2)縮聚時的反應溫度，例如為60～140℃。另外，反應時間例如為0.5～100小時。

前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)的投料比率[(c1)/(c2)]及前述烷基取代苯酚(c1)與前述不含羥基的芳香族醛(c’2)的投料比率[(c1)/(c’2)]從未反應的烷基取代苯酚(c1)的去除性、產物的收率及反應產物的純度優異的方面出發分別優選為以摩爾比計1/0.2～1/0.5的范圍、更優選為1/0.25～1/0.45的范圍。

前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)或不含羥基的芳香族醛(c’2)的縮聚的反應溶液中，有可能與作為縮聚物的前述通式(1)或(2)所示的化合物一起殘留有未反應物。另外，也有可能生成了前述通式(1)或(2)所示的化合物以外的不期望的縮合物。因此，優選在用作本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的原料(酚系三核體化合物(a))之前，預先從縮聚反應后的反應溶液中將前述通式(1)或(2)所示的化合物純化。用作酚系三核體化合物(a)的前述通式(1)或(2)所示的化合物的純度優選為85％以上、更優選為90％以上、進一步優選為94％以上、特別優選為98％以上。通式(1)或(2)所示的化合物的純度可以在gpc圖中由面積比求出。

作為純化通式(1)或(2)所示的化合物提高純度的方法，例如可列舉出如下的方法：將縮聚反應后的反應溶液投入至通式(1)或(2)所示的化合物不溶或難溶的不良溶劑(s1)中，將所得到的沉淀物過濾后，將所得到的沉淀物溶解于能溶解通式(1)或(2)所示的化合物且能與不良溶劑(s1)混和的溶劑(s2)中，再次投入至不良溶劑(s1)中，將所生成的沉淀物過濾的方法。作為此時使用的前述不良溶劑(s1)，例如可列舉出水；甲醇、乙醇、丙醇等一元醇；正己烷、正庚烷、正辛烷、環己烷等脂肪族烴；甲苯、二甲苯等芳香族烴。這些不良溶劑(s1)之中，從能同時效率良好地進行酸催化劑的去除的方面出發，優選水、甲醇。另一方面，作為前述溶劑(s2)，例如可列舉出甲醇、乙醇、丙醇等一元醇；乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、三亞甲基二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油等多元醇；2-乙氧基乙醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單戊醚、乙二醇二甲醚、乙二醇甲乙醚、乙二醇單苯醚等二醇醚；1,3-二噁烷、1,4-二噁烷等環狀醚；乙二醇乙酸酯等二醇酯；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮等。另外，使用水作為前述不良溶劑(s1)時，作為前述(s2)，優選使用丙酮。需要說明的是，前述不良溶劑(s1)及溶劑(s2)分別可以僅使用1種也可以組合使用2種以上。

關于本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的原料，作為酚系三核體化合物(a)，可以使用1種或2種以上通式(1)所示的化合物，也可以使用1種或2種以上通式(2)所示的化合物，還可以使用1種或2種以上通式(1)所示的化合物和1種或2種以上通式(2)所示的化合物。通過調整酚系三核體化合物(a)之中的通式(1)所示的化合物與通式(2)所示的化合物的比率，能夠調整所得到的酚醛清漆型酚醛樹脂的羥基含量。例如，酚系三核體化合物(a)中的通式(1)所示的化合物的比率越多，羥基越多，能得到堿溶解性高的酚醛清漆型酚醛樹脂。反之，酚系三核體化合物(a)中的通式(2)所示的化合物的比率越多，羥基越少，能得到堿溶解性低的酚醛清漆型酚醛樹脂。

作為用作本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的原料的醛類(b)，例如可以使用下述通式(3)所示的化合物。通式(3)中，r⁴表示氫原子、任選具有取代基的烷基、或任選具有取代基的芳基。需要說明的是，用作原料的醛類(b)可以為1種化合物，也可以組合使用2種以上化合物。

r⁴-cho(3)

前述通式(3)所示的化合物之中，優選：甲醛；乙醛、丙醛、丁醛、異丁醛、戊醛、己醛等烷基醛；水楊醛、3-羥基苯甲醛、4-羥基苯甲醛、2-羥基-4-甲基苯甲醛、2,4-二羥基苯甲醛、3,4-二羥基苯甲醛等羥基苯甲醛；2-羥基-3-甲氧基苯甲醛、3-羥基-4-甲氧基苯甲醛、4-羥基-3-甲氧基苯甲醛、3-乙氧基-4-羥基苯甲醛、4-羥基-3,5-二甲氧基苯甲醛等具有羥基和烷氧基兩者的苯甲醛；甲氧基苯甲醛、乙氧基苯甲醛等烷氧基苯甲醛；1-羥基-2-萘甲醛、2-羥基-1-萘甲醛、6-羥基-2-萘甲醛等羥基萘甲醛；溴苯甲醛等鹵代苯甲醛等，更優選甲醛或烷基醛，進一步優選甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、異丁醛、戊醛、或己醛，特別優選甲醛。作為醛類(b)使用甲醛時，也可以組合使用甲醛與其它醛類。組合使用甲醛與其它醛類時，其它醛類的用量相對于甲醛1摩爾優選設為0.05～1摩爾的范圍。

本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂例如通過使酚系三核體化合物(a)與醛類(b)在酸催化劑的存在下縮合而得到。從能夠抑制過量的高分子量化(凝膠化)，得到作為抗蝕劑下層膜形成用的酚醛樹脂適當的分子量的樹脂的方面出發，酚系三核體化合物(a)與醛類(b)的投料比率[(a)/(b)]優選為以摩爾比計1/0.5～1/1.2的范圍、更優選為1/0.6～1/0.9的范圍。

作為反應中使用的酸催化劑，可列舉出硫酸、鹽酸、硝酸、氫溴酸、高氯酸、磷酸等無機酸、對甲苯磺酸、甲磺酸、苯磺酸等磺酸、草酸、琥珀酸、丙二酸、一氯乙酸、二氯乙酸等有機酸、三氟化硼、無水氯化鋁、氯化鋅等路易斯酸等。其中，從表現出強酸性，以高活性促進酚系三核體化合物(a)與醛類(b)的反應的方面出發，優選硫酸或對甲苯磺酸。這些酸催化劑的用量相對于反應原料的總質量優選以0.1～25質量％的范圍使用。

酚系三核體化合物(a)與醛類(b)的縮合反應可以根據需要在有機溶劑的存在下進行。作為該有機溶劑，可列舉出同前述烷基取代苯酚(c1)與前述含羥基芳香族醛(c2)的縮聚中可使用的有機溶劑一樣的溶劑。該有機溶劑可以僅使用1種也可以組合使用2種以上。另外，從所得到的酚醛清漆型酚醛樹脂的溶解性優異的觀點出發，作為該有機溶劑，優選2-乙氧基乙醇。

作為本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂，例如優選具有選自由下述通式(i-1)所示的結構單元(i-1)、下述通式(i-2)所示的結構單元(i-2)、下述通式(ii-1)所示的結構單元(ii-1)、及下述通式(ii-2)所示的結構單元(ii-2)組成的組中的1種以上結構部位作為重復單元。通式(i-1)、(i-2)、(ii-1)及(ii-2)中，r¹及r²與前述通式(1)相同，r⁴與前述通式(3)相同。作為通式(i-1)、(i-2)、(ii-1)或(ii-2)所示的結構單元，優選r¹及r²均為相同基團、且r⁴為氫原子，更優選r¹及r²均為相同的未取代的碳原子數1～3的烷基、且r⁴為氫原子，進一步優選r¹及r²均為甲基、且r⁴為氫原子。

本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的重均分子量優選為1000～100000、更優選為1000～70000、進一步優選為1000～35000。其中，關于具有前述通式(i-1)所示的結構單元或前述通式(ii-1)所示的結構單元作為重復單元的酚醛清漆型酚醛樹脂的分子量，從得到干式蝕刻耐受性和耐熱性優異的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的方面出發，以重均分子量(mw)計優選為5000～100000、更優選為5000～70000、進一步優選為5000～35000、特別優選為7000～25000。

另外，關于具有前述通式(i-2)所示的結構單元或前述通式(ii-2)所示的結構單元作為重復單元的酚醛清漆型酚醛樹脂的分子量，從能得到干式蝕刻耐受性和耐熱性優異的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的方面出發，以重均分子量(mw)計優選為1000～5000、更優選為2000～4000。

本發明及本申請說明書中，酚醛清漆型酚醛樹脂的重均分子量(mw)及數均分子量(mn)使用凝膠滲透色譜法(以下簡寫為“gpc”。)在下述測定條件下測定。

[gpc的測定條件]

測定裝置：tosohcorporation制造“hlc-8220gpc”

柱：昭和電工株式會社制造“shodexkf802”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf802”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf803”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf804”(8.0mmi.d.×300mm)、

柱溫度：40℃、

檢測器：ri(差示折光計)、

數據處理：tosohcorporation制造“gpc-8020modeliiversion4.30”、

展開溶劑：四氫呋喃、

流速：1.0ml/分鐘、

試樣：將以樹脂固體成分換算計0.5質量％的四氫呋喃溶液用微濾器過濾而得到的物質、

注入量：0.1ml、

標準試樣：下述單分散聚苯乙烯

(標準試樣：單分散聚苯乙烯)

tosohcorporation制造“a-500”

tosohcorporation制造“a-2500”

tosohcorporation制造“a-5000”

tosohcorporation制造“f-1”

tosohcorporation制造“f-2”

tosohcorporation制造“f-4”

tosohcorporation制造“f-10”

tosohcorporation制造“f-20”

本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂具有較多苯環，因此能夠由含有該酚醛清漆型酚醛樹脂的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成干式蝕刻耐受性及耐熱性優異的涂膜。因此，由本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成的抗蝕材料的涂膜適宜作為下層膜。

進而，由該抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成的涂膜由于源自該酚醛清漆型酚醛樹脂的苯環吸收光，因此光反射性低。因此，由本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成的涂膜也適宜作為防反射膜。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物可以在本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的基礎上組合使用其它堿溶解性樹脂。其它堿溶解性樹脂只要其自身可溶于堿顯影液、或通過與光產酸劑等添加劑組合而能溶解于堿顯影液，就可以任意使用。

此處使用的其它堿溶解性樹脂例如可列舉出本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂以外的含酚性羥基樹脂；對羥基苯乙烯、對(1,1,1,3,3,3-六氟-2-羥基丙基)苯乙烯等含羥基苯乙烯化合物的均聚物或共聚物；將它們的羥基用羰基、芐氧基羰基等酸分解性基團改性而得到的物質；(甲基)丙烯酸的均聚物或共聚物；降冰片烯化合物、四環十二碳烯化合物等脂環式聚合性單體與馬來酸酐或馬來酰亞胺的交替聚合物等。

本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂以外的含酚性羥基樹脂例如可列舉出苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、萘酚酚醛清漆樹脂、使用了各種酚性化合物的共縮酚醛清漆樹脂、芳香族烴甲醛樹脂改性酚醛樹脂、雙環戊二烯苯酚加成型樹脂、苯酚芳烷基樹脂(xylok樹脂)、萘酚芳烷基樹脂、三羥甲基甲烷樹脂、四羥苯基乙烷樹脂、聯苯改性酚醛樹脂(用二亞甲基連接酚核而成的多元酚化合物)、聯苯改性萘酚樹脂(用二亞甲基連接酚核而成的多元萘酚化合物)、氨基三嗪改性酚醛樹脂(用三聚氰胺、苯并胍胺等連接酚核而成的多元酚化合物)、含烷氧基芳香環改性酚醛清漆樹脂(用甲醛連接酚核及含烷氧基芳香環而成的多元酚化合物)等酚醛樹脂。

前述其它含酚性羥基樹脂之中，從成為耐熱性優異的感光性樹脂組合物的方面出發，優選甲酚酚醛清漆樹脂或甲酚與其它酚性化合物的共縮酚醛清漆樹脂。甲酚酚醛清漆樹脂或甲酚與其它酚性化合物的共縮酚醛清漆樹脂具體而言是以選自由鄰甲酚、間甲酚及對甲酚組成的組中的至少1種甲酚和醛化合物作為必需原料，適當組合使用其它酚性化合物而得到的酚醛清漆樹脂。

前述其它酚性化合物例如可列舉出：苯酚；2,3-二甲酚、2,4-二甲酚、2,5-二甲酚、2,6-二甲酚、3,4-二甲酚、3,5-二甲酚等二甲酚；鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚等乙基苯酚；異丙基苯酚、丁基苯酚、對叔丁基苯酚等丁基苯酚；對戊基苯酚、對辛基苯酚、對壬基苯酚、對枯基苯酚等烷基苯酚；氟苯酚、氯苯酚、溴苯酚、碘苯酚等鹵代苯酚；對苯基苯酚、氨基苯酚、硝基苯酚、二硝基苯酚、三硝基苯酚等1取代苯酚；1-萘酚、2-萘酚等縮合多環式苯酚；間苯二酚、烷基間苯二酚、連苯三酚、鄰苯二酚、烷基鄰苯二酚、對苯二酚、烷基對苯二酚、間苯三酚、雙酚a、雙酚f、雙酚s、二羥基萘等多元酚等。這些其它酚性化合物可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。使用這些其它酚性化合物時，其用量優選為相對于甲酚原料的總計1摩爾，其它酚性化合物成為0.05～1摩爾的范圍的比例。

另外，前述醛化合物例如可列舉出甲醛、多聚甲醛、三噁烷、乙醛、丙醛、聚甲醛、三氯乙醛、六亞甲基四胺、糠醛、乙二醛、正丁醛、己醛、烯丙醛、苯甲醛、巴豆醛、丙烯醛、四氧亞甲基(tetraoxymethylene)、苯乙醛、鄰甲苯甲醛、水楊醛等，可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。其中，從反應性優異的方面出發，優選甲醛，也可以組合使用甲醛與其它醛化合物。組合使用甲醛與其它醛化合物時，其它醛化合物的用量相對于甲醛1摩爾優選設為0.05～1摩爾的范圍。

關于制造酚醛清漆樹脂時的酚性化合物與醛化合物的反應比率，從能得到靈敏度和耐熱性優異的感光性組合物的方面出發，相對于酚性化合物1摩爾，醛化合物優選為0.3～1.6摩爾的范圍、更優選為0.5～1.3的范圍。

前述酚性化合物與醛化合物的反應可列舉出在酸催化劑存在下在60～140℃的溫度條件下進行，接著在減壓條件下去除水、殘留單體的方法。此處使用的酸催化劑例如可列舉出草酸、硫酸、鹽酸、苯酚磺酸、對甲苯磺酸、醋酸鋅、醋酸錳等，可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。其中，從催化活性優異的觀點出發優選草酸。

以上詳細說明的甲酚酚醛清漆樹脂、或甲酚與其它酚性化合物的共縮酚醛清漆樹脂之中，優選單獨使用間甲酚的甲酚酚醛清漆樹脂、或組合使用間甲酚與對甲酚的甲酚酚醛清漆樹脂。另外，后者的間甲酚與對甲酚的反應摩爾比[間甲酚/對甲酚]從成為靈敏度和耐熱性的平衡優異的感光性樹脂組合物的方面出發，優選為10/0～2/8的范圍、更優選為7/3～2/8的范圍。

使用前述其它堿溶解性樹脂時，本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂與其它堿溶解性樹脂的配混比例可以根據期望用途任意調整。其中，從充分表現本發明所發揮的干式蝕刻耐受性及耐熱性優異且容易控制堿溶解性的效果的方面出發，相對于本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂與其它堿溶解性樹脂的總和，優選以60質量％以上使用本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂，更優選以80質量％以上使用。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物優選與本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂一起含有有機溶劑，更優選本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂為溶解于有機溶劑的溶液。作為該有機溶劑，可列舉出乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚等乙二醇烷基醚；二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚等二乙二醇二烷基醚；甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯；丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等丙二醇烷基醚乙酸酯；丙酮、甲乙酮、環己酮、甲基戊酮等酮；二噁烷等環式醚；2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、氧代乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、甲酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯等酯等。這些有機溶劑可以僅使用1種也可以組合使用2種以上。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物優選與本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂一起含有選自由光產酸劑及固化劑組成的組中的1種以上。本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物含有光產酸劑時，可以含有1種光產酸劑，也可以含有2種以上光產酸劑。同樣地，本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物含有固化劑時，可以含有1種固化劑，也可以含有2種以上固化劑。

作為該光產酸劑，例如可列舉出有機鹵素化合物、磺酸酯、鎓鹽、重氮鹽、二砜化合物等。作為它們的具體例，例如可列舉出三(三氯甲基)-均三嗪、三(三溴甲基)-均三嗪、三(二溴甲基)-均三嗪、2,4-雙(三溴甲基)-6-對甲氧基苯基-均三嗪等含鹵代烷基的均三嗪衍生物；

1,2,3,4-四溴丁烷、1,1,2,2-四溴乙烷、四溴化碳、碘仿等鹵素取代鏈烷烴系烴化合物；六溴環己烷、六氯環己烷、六溴環十二烷等鹵素取代環烷烴系烴化合物；

雙(三氯甲基)苯、雙(三溴甲基)苯等含鹵代烷基苯衍生物；三溴甲基苯基砜、三氯甲基苯基砜等含鹵代烷基砜化合物；2,3-二溴環丁砜等含鹵素環丁砜化合物；三(2,3-二溴丙基)異氰脲酸酯等含鹵代烷基異氰脲酸酯化合物；

三苯基氯化锍、三苯基锍甲磺酸鹽、三苯基锍三氟甲磺酸鹽、三苯基锍對甲苯磺酸鹽、三苯基锍四氟硼酸鹽、三苯基锍六氟砷酸鹽、三苯基锍六氟膦酸鹽等锍鹽；

二苯基碘鎓三氟甲磺酸鹽、二苯基碘鎓對甲苯磺酸鹽、二苯基碘鎓四氟硼酸鹽、二苯基碘鎓六氟砷酸鹽、二苯基碘鎓六氟膦酸鹽等碘鎓鹽；

對甲苯磺酸甲酯、對甲苯磺酸乙酯、對甲苯磺酸丁酯、對甲苯磺酸苯酯、1,2,3-三(對甲苯磺酰氧基)苯、對甲苯磺酸苯偶姻酯、甲磺酸甲酯、甲磺酸乙酯、甲磺酸丁酯、1,2,3-三(甲烷磺酰氧基)苯、甲磺酸苯酯、甲磺酸苯偶姻酯、三氟甲磺酸甲酯、三氟甲磺酸乙酯、三氟甲磺酸丁酯、1,2,3-三(三氟甲烷磺酰氧基)苯、三氟甲磺酸苯酯、三氟甲磺酸苯偶姻酯等磺酸酯化合物；二苯基二砜等二砜化合物；

雙(苯磺酰基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯磺酰基)重氮甲烷、雙(環己基磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(3-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(4-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(3-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(4-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(3-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(4-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(3-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(4-氟苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(3-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(4-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(3-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(4-氯苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(3-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(4-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(3-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(4-三氟甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(3-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(4-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(3-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(4-三氟甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2,4,6-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2,3,4-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2,4,6-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、環己基磺酰基-(2,3,4-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2,4,6-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2,3,4-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2,4,6-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、環戊基磺酰基-(2,3,4-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(3-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(4-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、雙(2-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、雙(3-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、雙(4-甲氧基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2,4,6-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2,3,4-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2,4,6-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2,3,4-三乙基苯磺酰基)重氮甲烷、2,4-二甲基苯磺酰基-(2,4,6-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、2,4-二甲基苯磺酰基-(2,3,4-三甲基苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(2-氟苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(3-氟苯磺酰基)重氮甲烷、苯磺酰基-(4-氟苯磺酰基)重氮甲烷等砜二疊氮化合物；

對甲苯磺酸鄰硝基芐基酯等鄰硝基芐基酯化合物；n,n’-二(苯磺酰基)肼等磺酰肼化合物等。

關于這些光產酸劑的添加量，從成為感光度高的感光性組合物的方面出發，相對于本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂100質量份，優選以0.1～20質量份的范圍使用。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物也可以含有用于中和在曝光時由前述光產酸劑生成的酸的有機堿化合物。有機堿化合物的添加具有防止因由光產酸劑生成的酸的移動而導致的抗蝕圖案的尺寸變動的效果。此處使用的有機堿化合物例如可列舉出選自含氮化合物中的有機胺化合物。具體而言，可列舉出嘧啶、2-氨基嘧啶、4-氨基嘧啶、5-氨基嘧啶、2,4-二氨基嘧啶、2,5-二氨基嘧啶、4,5-二氨基嘧啶、4,6-二氨基嘧啶、2,4,5-三氨基嘧啶、2,4,6-三氨基嘧啶、4,5,6-三氨基嘧啶、2,4,5,6-四氨基嘧啶、2-羥基嘧啶、4-羥基嘧啶、5-羥基嘧啶、2,4-二羥基嘧啶、2,5-二羥基嘧啶、4,5-二羥基嘧啶、4,6-二羥基嘧啶、2,4,5-三羥基嘧啶、2,4,6-三羥基嘧啶、4,5,6-三羥基嘧啶、2,4,5,6-四羥基嘧啶、2-氨基-4-羥基嘧啶、2-氨基-5-羥基嘧啶、2-氨基-4,5-二羥基嘧啶、2-氨基-4,6-二羥基嘧啶、4-氨基-2,5-二羥基嘧啶、4-氨基-2,6-二羥基嘧啶、2-氨基-4-甲基嘧啶、2-氨基-5-甲基嘧啶、2-氨基-4，5-二甲基嘧啶、2-氨基-4,6-二甲基嘧啶、4-氨基-2,5-二甲基嘧啶、4-氨基-2,6-二甲基嘧啶、2-氨基-4-甲氧基嘧啶、2-氨基-5-甲氧基嘧啶、2-氨基-4，5-二甲氧基嘧啶、2-氨基-4,6-二甲氧基嘧啶、4-氨基-2,5-二甲氧基嘧啶、4-氨基-2,6-二甲氧基嘧啶、2-羥基-4-甲基嘧啶、2-羥基-5-甲基嘧啶、2-羥基-4,5-二甲基嘧啶、2-羥基-4,6-二甲基嘧啶、4-羥基-2,5-二甲基嘧啶、4-羥基-2,6-二甲基嘧啶、2-羥基-4-甲氧基嘧啶、2-羥基-4-甲氧基嘧啶、2-羥基-5-甲氧基嘧啶、2-羥基-4,5-二甲氧基嘧啶、2-羥基-4,6-二甲氧基嘧啶、4-羥基-2,5-二甲氧基嘧啶、4-羥基-2,6-二甲氧基嘧啶等嘧啶化合物；

吡啶、4-二甲基氨基吡啶、2,6-二甲基吡啶等吡啶化合物；

二乙醇胺、三乙醇胺、三異丙醇胺、三(羥基甲基)氨基甲烷、雙(2-羥基乙基)亞氨基三(羥基甲基)甲烷等用碳原子數1以上且4以下的羥基烷基取代了的胺化合物；

2-氨基苯酚、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚等氨基苯酚化合物等。它們可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。其中，從曝光后的抗蝕圖案的尺寸穩定性優異的方面出發，優選前述嘧啶化合物、吡啶化合物、或具有羥基的胺化合物，特別優選具有羥基的胺化合物。

添加前述有機堿化合物時，其添加量相對于光產酸劑的含量優選為0.1～100摩爾％的范圍、更優選為1～50摩爾％的范圍。

作為本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物任選含有的固化劑，例如可列舉出用選自羥甲基、烷氧基甲基、酰氧基甲基中的至少1個基團取代而得到的三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物、尿素化合物、甲階酚醛樹脂、環氧化合物、異氰酸酯化合物、疊氮化合物、含有烯醚基等的雙鍵的化合物、酸酐、噁唑啉化合物等。

作為前述三聚氰胺化合物，例如可列舉出六羥甲基三聚氰胺、六甲氧基甲基三聚氰胺、六羥甲基三聚氰胺的1～6個羥甲基發生甲氧基甲基化而成的化合物、六甲氧基乙基三聚氰胺、六酰氧基甲基三聚氰胺、六羥甲基三聚氰胺的1～6個羥甲基發生酰氧基甲基化而成的化合物等。

作為前述胍胺化合物，例如可列舉出四羥甲基胍胺、四甲氧基甲基胍胺、四甲氧基甲基苯并胍胺、四羥甲基胍胺的1～4個羥甲基發生甲氧基甲基化而成的化合物、四甲氧基乙基胍胺、四酰氧基胍胺、四羥甲基胍胺的1～4個羥甲基發生酰氧基甲基化而成的化合物等。

作為前述甘脲化合物，例如可列舉出1,3,4,6-四(甲氧基甲基)甘脲、1,3,4,6-四(丁氧基甲基)甘脲、1,3,4,6-四(羥基甲基)甘脲等。

作為前述尿素化合物，例如可列舉出1,3-雙(羥基甲基)尿素、1,1,3,3-四(丁氧基甲基)尿素及1,1,3,3-四(甲氧基甲基)尿素等。

作為前述甲階酚醛樹脂，例如可列舉出使苯酚、甲酚、二甲酚等烷基苯酚、苯基苯酚、間苯二酚、聯苯、雙酚a、雙酚f等雙酚、萘酚、二羥基萘等含酚性羥基化合物與醛化合物在堿性催化劑條件下反應而得到的聚合物。

作為前述環氧化合物，例如可列舉出三(2,3-環氧丙基)異氰脲酸酯、三羥甲基甲烷三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、三羥乙基乙烷三縮水甘油醚等。

作為前述異氰酸酯化合物，例如可列舉出甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、環己烷二異氰酸酯等。

作為前述疊氮化合物，例如可列舉出1,1’-聯苯-4,4’-二疊氮、4,4’-亞甲基二疊氮、4,4’-氧二疊氮等。

作為前述含有烯醚基等的雙鍵的化合物，例如可列舉出乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚、1,2-丙二醇二乙烯醚、1,4-丁二醇二乙烯醚、四亞甲基二醇二乙烯醚、新戊二醇二乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚、己二醇二乙烯醚、1,4-環己二醇二乙烯醚、季戊四醇三乙烯醚、季戊四醇四乙烯醚、山梨糖醇四乙烯醚、山梨糖醇五乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚等。

作為前述酸酐，例如可列舉出鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、均苯四酸酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、聯苯四羧酸二酐、4,4’-(亞異丙基)二鄰苯二甲酸酐、4,4’-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸酐等芳香族酸酐；四氫鄰苯二甲酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、內次甲基四氫鄰苯二甲酸酐、十二烯基琥珀酸酐、三烷基四氫鄰苯二甲酸酐等脂環式羧酸酐等。

這些之中，從成為固化性優異、用于抗蝕劑下層膜用途時的干式蝕刻耐受性及耐熱解性更優異的組合物的方面出發，優選甘脲化合物、尿素化合物、甲階酚醛樹脂，特別優選甘脲化合物。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物含有前述固化劑時，該固化劑的配混量優選相對于本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂100質量份成為0.1～50質量份的比例，進一步優選成為0.1～30質量份的比例，更進一步優選成為0.5～20質量份的比例。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物還可以進一步含有通常的抗蝕材料中使用的光敏劑。此處使用的光敏劑例如可列舉出具有二疊氮醌基的化合物。作為具有二疊氮醌基的化合物的具體例，例如可列舉出芳香族(多)羥基化合物與萘醌-1,2-二疊氮基-5-磺酸、萘醌-1,2-二疊氮基-4-磺酸、鄰蒽醌二疊氮磺酸等具有二疊氮醌基的磺酸的完全酯化合物、部分酯化合物、酰胺化物或部分酰胺化物等。

此處使用的前述芳香族(多)羥基化合物例如可列舉出2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4’-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4-三羥基-2’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3’,4,4’,6-五羥基二苯甲酮、2,2’,3,4,4’-五羥基二苯甲酮、2,2’,3,4,5-五羥基二苯甲酮、2,3’,4,4’,5’,6-六羥基二苯甲酮、2,3,3’,4,4’,5’-六羥基二苯甲酮等多羥基二苯甲酮化合物；

雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4’-羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2’,4’-二羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2’,3’,4’-三羥基苯基)丙烷、4,4’-{1-[4-〔2-(4-羥基苯基)-2-丙基〕苯基]亞乙基}雙酚，3,3’-二甲基-{1-[4-〔2-(3-甲基-4-羥基苯基)-2-丙基〕苯基]亞乙基}雙酚等雙[(多)羥基苯基]烷烴化合物；

三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷等三(羥基苯基)甲烷化合物或其甲基取代體；

雙(3-環己基-4-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷，雙(3-環己基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷，雙(3-環己基-4-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷，雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷，雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-2-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-3-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-3-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-3-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-2-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-2-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-2-羥基-4-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-2-羥基-4-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷等雙(環己基羥基苯基)(羥基苯基)甲烷化合物或其甲基取代體等。這些光敏劑可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。

使用前述光敏劑時，關于其配混量，從成為感光度優異的組合物的方面出發，相對于本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物中的樹脂固體成分100質量份，優選以5～50質量份的范圍使用。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物也可以為了提高制膜性、圖案的密合性、降低顯影缺陷等目的而含有表面活性劑。此處使用的表面活性劑例如可列舉出聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯十六烷基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚化合物、聚氧乙烯辛基苯酚醚、聚氧乙烯壬基苯酚醚等聚氧乙烯烷基烯丙基醚化合物、聚氧乙烯/聚氧丙烯嵌段共聚物、失水山梨醇單月硅酸酯、失水山梨醇單棕櫚酸酯、失水山梨醇單硬脂酸酯、失水山梨醇單油酸酯、失水山梨醇三油酸酯、失水山梨醇三硬脂酸酯等失水山梨醇脂肪酸酯化合物、聚氧乙烯失水山梨醇單月硅酸酯、聚氧乙烯失水山梨醇單棕櫚酸酯、聚氧乙烯失水山梨醇單硬脂酸酯、聚氧乙烯失水山梨醇三油酸酯、聚氧乙烯失水山梨醇三硬脂酸酯等聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯化合物等非離子系表面活性劑；具有氟脂肪族基的聚合性單體與[聚(氧亞烷基)](甲基)丙烯酸酯的共聚物等分子結構中具有氟原子的氟系表面活性劑；分子結構中具有有機硅結構部位的有機硅系表面活性劑等。它們可以分別單獨使用，也可以組合使用2種以上。

關于這些表面活性劑的配混量，相對于本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物中的樹脂固體成分100質量份優選以0.001～2質量份的范圍使用。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物還可以進一步含有填充材料。利用填充材料，能夠提高涂膜的硬度、耐熱性。作為本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物所含有的填充材料，可以為有機填充材料，優選無機填充材料。作為無機填充材料，例如可列舉出二氧化硅、云母、滑石、粘土、膨潤土、蒙脫石、高嶺石、鈣硅石、碳酸鈣、氫氧化鈣、碳酸鎂、氧化鈦、氧化鋁、氫氧化鋁、硫酸鋇、鈦酸鋇、鈦酸鉀、氧化鋅、玻璃纖維等。其中，為了能夠降低熱膨脹率，優選使用二氧化硅。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物優選為在本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的基礎上根據需要將其它樹脂、光產酸劑、固化劑、光敏劑、表面活性劑、填充材料、固化劑、有機堿化合物、染料、顏料、固化劑、溶解促進劑等各種添加劑溶解或分散于有機溶劑而得到。通過將在有機溶劑中溶解等而成的物質涂布于基板等，從而能夠形成涂膜。染料、顏料、溶解促進劑可以考慮要使用的用途等而從作為抗蝕材料的添加劑通用的物質中適當選擇來使用。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物可以通過將上述各成分配混，使用攪拌機等進行混合而制備。另外，該抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物含有填充材料、顏料時，可以使用溶解器、均化器、三輥磨等分散裝置進行分散或混合來制備。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物可以用作抗蝕材料。本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物可以將溶解或分散于有機溶劑的狀態的組合物直接以抗蝕劑溶液的形態使用，也可以將使溶解或分散于有機溶劑的狀態的組合物涂布成薄膜狀并脫溶劑而得到的膜以抗蝕膜的形態使用。以抗蝕膜的形態使用時的支撐膜可列舉出聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等合成樹脂膜，可以為單層膜也可以為多層的層疊膜。另外，該支撐膜的表面可以進行電暈處理或涂布有脫模劑。

本發明的抗蝕劑下層膜的特征在于，其是將本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物固化而形成的。作為形成抗蝕劑下層膜的基板(被加工基板)，例如可列舉出硅晶片、用鋁覆蓋的晶片等。本發明的抗蝕劑下層膜例如可以如下形成：將本發明的抗蝕劑下層膜形成用組合物涂布于前述被加工基板、后述其它下層膜等的表面，從而形成涂膜，對該涂膜進行加熱處理、或紫外光的照射及加熱處理而使其固化，從而形成。作為涂布本發明的抗蝕劑下層膜形成用組合物的方法，例如可列舉出旋涂法、輥涂法、浸漬法等。另外，作為加熱溫度，通常為50～450℃、優選為150～300℃。作為加熱時間，通常為5～600秒。

在前述被加工基板上可以預先形成有與使用本發明的抗蝕劑下層膜形成用組合物形成的抗蝕劑下層膜不同的其它下層膜(以下也稱為“其它下層膜”)。作為該其它下層膜，例如可列舉出日本特公平6-12452號公報、日本特開昭59-93448號公報等中公開的有機系防反射膜等。

作為本發明的抗蝕劑下層膜的膜厚，通常為10～1000nm、優選為10nm～500nm。

本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物也可以用作用于形成抗蝕圖案的抗蝕材料。關于使用所述抗蝕材料的光刻的方法，例如，在形成于被加工基板的抗蝕劑下層膜上涂布抗蝕材料，在60～150℃的溫度條件下預烘。此時的涂布方法可以為旋涂、輥涂、流涂、浸涂、噴涂、刮刀涂布等中的任意方法。接著是抗蝕圖案的制作，該抗蝕材料為正型時，通過規定的掩模對目標抗蝕圖案進行曝光，將經曝光的位置用堿顯影液溶解，從而形成抗蝕圖案。

此處的曝光光源例如可列舉出紅外光、可見光、紫外光、遠紫外光、x射線、電子束等，作為紫外光，可列舉出高壓汞燈的g射線(波長436nm)、h射線(波長405nm)、i射線(波長365nm)、krf準分子激光(波長248nm)、arf準分子激光(波長193nm)、f2準分子激光(波長157nm)、euv激光(波長13.5nm)等。本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物由于感光度及堿顯影性高，因此使用任一光源時均能夠以高分辨率制作抗蝕圖案。

進而，本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物由于耐熱性及干式蝕刻耐受性優異，因此所得到的涂膜也適合作為在最終產品上也殘留的永久膜。構件之間存在空隙的產品中，由于永久膜的構件側與空隙側的受熱時膨脹差異而有時產生應變，但由本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物形成的永久膜具有不易發生這種應變的優異性質。

需要說明的是，永久膜是指，主要在ic、lsi等半導體設備、薄型顯示器等顯示裝置中形成在構成產品的部件上、部件間的由感光性組合物形成的涂膜，其在產品完成后也殘留。作為永久膜的具體例，在半導體設備相關領域，可列舉出阻焊膜、包裝材料、底部填充材料、電路元件等的封裝體粘接層、集成電路元件與電路基板的粘接層，在以lcd、oeld為代表的薄型顯示器相關領域，可列舉出薄膜晶體管保護膜、液晶彩色濾光片保護膜、黑色矩陣、間隔物等。

實施例

以下，舉出實施例等進一步詳細說明本發明，但本發明不受這些實施例等的限定。以下，“份”及“％”在沒有特別說明的情況下為質量基準。

＜樹脂的gpc測定＞

樹脂的分子量分布通過gpc以聚苯乙烯標準法在以下的測定條件下測定。

(gpc的測定條件)

測定裝置：tosohcorporation制造“hlc-8220gpc”、

柱：昭和電工株式會社制造“shodexkf802”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf802”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf803”(8.0mmi.d.×300mm)+昭和電工株式會社制造“shodexkf804”(8.0mmi.d.×300mm)、

檢測器：ri(差示折光計)、

測定條件：柱溫度40℃

展開溶劑四氫呋喃(thf)

流速1.0ml/分鐘

試樣：將以樹脂固體成分換算計1.0質量％的四氫呋喃溶液用微濾器過濾而得到的物質(5μl)、

數據處理：tosohcorporation制造“gpc-8020modelii數據分析version4.30”、

標準試樣：根據前述“gpc-8020modelii數據分析version4.30”的測定手冊，使用分子量已知的下述單分散聚苯乙烯。

(單分散聚苯乙烯)

tosohcorporation制造“a-500”

tosohcorporation制造“a-1000”

tosohcorporation制造“a-2500”

tosohcorporation制造“a-5000”

tosohcorporation制造“f-1”

tosohcorporation制造“f-2”

tosohcorporation制造“f-4”

tosohcorporation制造“f-10”

tosohcorporation制造“f-20”

tosohcorporation制造“f-40”

tosohcorporation制造“f-80”

tosohcorporation制造“f-128”

tosohcorporation制造“f-288”

tosohcorporation制造“f-550”

＜樹脂的¹³c-nmr譜測定＞

樹脂的¹³c-nmr譜的測定使用日本電子株式會社制造“jnm-la300”，分析試樣的dmso-d6溶液來進行結構分析。以下示出¹³c-nmr譜的測定條件。

(¹³c-nmr譜測定條件)

測定模式：sgnne(消除noe的1h完全解耦法)

脈沖角度：45℃脈沖

試樣濃度：30wt％

累計次數：10000次

[合成例1]＜酚系三核體化合物的合成＞

向安裝有冷卻管的2l容積4口燒瓶中投入2,5-二甲酚293.2g(2.4摩爾)、4-羥基苯甲醛122g(1摩爾)、及2-乙氧基乙醇500ml，在2-乙氧基乙醇中使2,5-二甲酚及4-羥基苯甲醛溶解。接著，向該4口燒瓶內的反應溶液中一邊在冰浴中冷卻一邊添加硫酸10ml后，用有罩加熱器在100℃下加熱2小時，邊攪拌邊使其反應。向反應結束后的反應溶液中添加水進行再沉淀操作，得到粗產物。將該粗產物再溶解于丙酮后，進一步用水進行再沉淀操作。將通過再沉淀操作得到的產物過濾，進行真空干燥，得到白色晶體的前體化合物(酚系三核體化合物(1))213g。對于酚系三核體化合物(1)，進行gpc及¹³c-nmr譜測定，結果確認到其為目標化合物，純度以gpc的面積比計為98.2質量％。分別將酚系三核體化合物(1)的gpc圖示于圖1，將¹³c-nmr譜圖示于圖2。

[合成例2]＜酚系三核體化合物的合成＞

使用苯甲醛106.1g(1摩爾)來代替4-羥基苯甲醛122g(1摩爾)，除此之外與合成例1同樣地操作，得到白色晶體的前體化合物(酚系三核體化合物(2))206g。對于酚系三核體化合物(2)，進行gpc及¹³c-nmr譜測定，結果確認到其為目標化合物，純度以gpc的面積比計為98.7質量％。分別將酚系三核體化合物(2)的gpc圖示于圖3，將¹³c-nmr譜圖示于圖4。

[合成例3]＜酚醛清漆型酚醛樹脂的合成＞

向安裝有冷卻管的300ml容積4口燒瓶中投入合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)17.4g(0.05摩爾)、92％多聚甲醛1.6g(0.05摩爾)、2-乙氧基乙醇15ml、及乙酸15ml，在2-乙氧基乙醇與乙酸的混合溶劑中使酚系三核體化合物(1)及多聚甲醛溶解(酚系三核體化合物(1)：酚系三核體化合物(2)＝100：0)。接著，向該4口燒瓶內的反應溶液中一邊在冰浴中冷卻一邊添加硫酸10ml后，在油浴中升溫至80℃，加熱4小時，邊攪拌邊使其反應。向反應結束后的反應溶液中添加水進行再沉淀操作，得到粗產物。使該粗產物再溶解于丙酮后，進一步用水進行再沉淀操作。將通過再沉淀操作得到的產物過濾，進行真空干燥，得到淡紅色粉末的酚醛清漆型酚醛樹脂(酚醛清漆樹脂(3-a))16.8g。將酚醛清漆樹脂(3-a)的gpc圖示于圖5。對于酚醛清漆樹脂(3-a)進行gpc，結果數均分子量(mn)＝2733、重均分子量(mw)＝10984、多分散度(mw/mn)＝4.019。

[合成例4]＜酚醛清漆型酚醛樹脂的合成＞

使用合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)4.2g(0.012摩爾)和合成例2中得到的酚系三核體化合物(2)12.6g(0.038摩爾)(酚系三核體化合物(1)：酚系三核體化合物(2)＝25：75)來代替合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)17.4g(0.05摩爾)，除此之外與合成例3同樣操作，得到淡紅色粉末的酚醛清漆型酚醛樹脂(酚醛清漆樹脂(3-b))16.5g。將酚醛清漆樹脂(3-b)的gpc圖示于圖6。對于酚醛清漆樹脂(3-b)進行gpc，結果數均分子量(mn)＝3654、重均分子量(mw)＝18798、多分散度(mw/mn)＝5.144。

[合成例5]＜酚醛清漆型酚醛樹脂的合成＞

使用合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)8.7g(0.025摩爾)和合成例2中得到的酚系三核體化合物(2)8.3g(0.025摩爾)(酚系三核體化合物(1)：酚系三核體化合物(2)＝50：50)來代替合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)17.4g(0.05摩爾)，除此之外與合成例3同樣操作，得到淡紅色粉末的酚醛清漆型酚醛樹脂(酚醛清漆樹脂(3-c))16.2g。將酚醛清漆樹脂(3-c)的gpc圖示于圖7。對于酚醛清漆樹脂(3-c)進行gpc，結果數均分子量(mn)＝2529、重均分子量(mw)＝11421、多分散度(mw/mn)＝4.516。

[合成例6]＜酚醛清漆型酚醛樹脂的合成＞

使用合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)13.2g(0.038摩爾)和合成例2中得到的酚系三核體化合物(2)4.0g(0.012摩爾)(酚系三核體化合物(1)：酚系三核體化合物(2)＝75：25)來代替合成例1中得到的酚系三核體化合物(1)17.4g(0.05摩爾)，除此之外與合成例3同樣操作，得到淡紅色粉末的酚醛清漆型酚醛樹脂(酚醛清漆樹脂(3-d))16.2g。將酚醛清漆樹脂(3-d)的gpc圖示于圖8。對于酚醛清漆樹脂(3-d)進行gpc，結果數均分子量(mn)＝3313、重均分子量(mw)＝25435、多分散度(mw/mn)＝7.678。

[比較合成例1]＜芴雙酚的酚醛清漆樹脂的合成＞

向具備冷凝器、溫度計及攪拌裝置的反應裝置中投入9,9-雙(4-羥基苯基)芴100g、丙二醇單甲醚乙酸酯(pgmea)100g及多聚甲醛50g，添加草酸2g，邊脫水邊升溫至120℃，使其反應5小時，從而得到由下述式所示的結構單元構成的酚醛清漆型酚醛樹脂(酚醛清漆樹脂(3-e))98g。

[實施例1～4、比較例1]

對于合成例3～6及比較合成例1中合成的酚醛清漆樹脂(3-a)～(3-e)，如表1所示將酚醛清漆樹脂與固化劑(1,3,4,6-四(甲氧基甲基)甘脲、東京化成工業株式會社制造)及pgmea以10/0.5/50(質量份)混合并使其溶解后，使用0.2μm膜濾器進行過濾，得到本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物及比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物。使用這些組合物制作涂膜(抗蝕劑下層膜)，如下評價堿溶解性、耐熱性及干式蝕刻耐受性。將評價結果示于表1。

＜堿溶解性的評價＞

通過測定涂膜的堿溶解速度，評價堿溶解性。具體而言，用旋涂機將本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物或比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物涂布于5英寸硅晶片上，在110℃的熱板上干燥60秒，得到具有約1μm厚度的涂膜(抗蝕劑下層膜)的硅晶片。將所得到的晶片在堿顯影液(2.38％四甲基氫氧化銨水溶液)中浸漬60秒后，在110℃的熱板上干燥60秒。在顯影液浸漬前后測定該抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物或比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的涂膜的膜厚，將其差值除以60而得到的值(adr(nm/s)作為堿溶解性的評價結果。涂膜的膜厚使用膜厚計(filmetricsjapan,inc.制造“f-20”)來測定。

＜耐熱性的評價＞

耐熱性的評價利用涂膜的熱解起始溫度來評價。具體而言，用旋涂機將本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物或比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物涂布于5英寸硅晶片上，在110℃的熱板上干燥60秒，得到具有約1μm厚度的涂膜(抗蝕劑下層膜)的硅晶片。從所得到的晶片上刮取樹脂成分，測定其熱解起始溫度。熱解起始溫度通過使用差熱熱重同步測定裝置(seikoinstrumentsinc.制造、產品名：tg/dta6200)在氮氣氣氛下、溫度范圍：室溫～400℃、升溫溫度：10℃/分鐘的條件下測定以恒定速度升溫時的失重而求出。

＜干式蝕刻耐受性的評價＞

用旋涂機將本發明的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物或比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物涂布于5英寸硅晶片上，在氧氣濃度20容量％的熱板內以180℃干燥60秒，接著在350℃下加熱120秒，得到具有膜厚0.3μm厚度的涂膜(抗蝕劑下層膜)的硅晶片。對于所得到的晶片，使用蝕刻裝置(神鋼精機株式會社制造“exam”)在cf4/ar/o2(cf4：40ml/分鐘、ar：20ml/分鐘、o2：5ml/分鐘、壓力：20pa、rf功率：200w、處理時間：40秒、溫度：15℃)的條件下進行蝕刻處理。在蝕刻處理前后測定該抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物或比較對照用抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的涂膜的膜厚，算出蝕刻速度(nm/分鐘)，評價干式蝕刻耐受性。評價將蝕刻速度為150nm/分鐘以下的情況作為“○”，將蝕刻速度超過150nm/分鐘的情況作為“×”。

[表1]

其結果，含有作為本發明的酚醛清漆型酚醛樹脂的酚醛清漆樹脂(3-a)～(3-d)的抗蝕劑下層膜形成用感光性組合物的涂膜(實施例1～4)的熱解起始溫度為310℃以上，耐熱性優異，并且干式蝕刻耐受性也高。另外可知，對于堿溶解速度(adr)而言，按照實施例2(酚醛清漆樹脂(3-b))、實施例3(酚醛清漆樹脂(3-c))、實施例4(酚醛清漆樹脂(3-d))、及實施例1(酚醛清漆樹脂(3-a))的順序依次變快，酚系三核體化合物(1)在用作原料的酚系三核體化合物整體中所占的含量越多，越能提高堿溶解性，即通過調整酚系三核體化合物(1)與酚系三核體化合物(2)的比率，能夠控制堿溶解性。另一方面，比較例1的熱解起始溫度、adr、及干式蝕刻耐受性均劣于實施例1～4。