拉伸膜、偏振膜以及包含該偏振膜的偏振板的制作方法

本發明涉及拉伸膜、偏振膜以及包含該偏振膜的偏振板。

背景技術：

偏振板被廣泛用于以液晶顯示裝置為代表的圖像顯示裝置等。作為偏振板，一般是在使碘等二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系樹脂膜而成的偏振膜的單面或兩面貼合保護膜的結構的偏振板。近年來，隨著圖像顯示裝置面向便攜設備、薄型電視等的進展，越發要求偏振板、甚至偏振膜的薄膜化。

日本專利第4691205號公報(專利文獻1)中記載，通過在基材膜上形成聚乙烯醇系樹脂層，并將其與基材膜一體地拉伸、染色而得到偏振膜，與利用聚乙烯醇系樹脂膜單層體的偏振膜的制造方法相比，能夠更均勻地制造薄型偏振膜。

技術實現要素：

由于構成偏振膜的聚乙烯醇系樹脂是親水性的，因此有在使拉伸的膜浸漬于染色液中等制造工序中容易溶解于水溶液中(以下，也稱“溶解性”)的問題。若聚乙烯醇系樹脂溶液發生溶解，則引起外觀不良、膜強度的下降、偏振性能的下降等。在基材膜上形成聚乙烯醇系樹脂層，并將其與基材一體地拉伸、染色而得到偏振膜的方法中，通過具有基材，能夠防止聚乙烯醇系樹脂層的完全斷裂，但并不能解決聚乙烯醇系樹脂溶解的問題。

專利文獻1中公開了，為了防止聚乙烯醇系樹脂層在染色工序中溶解，在浸漬于染色液前，進行將事先拉伸的層疊體浸漬于硼酸水溶液中的不溶化工序。

然而，在設置不溶化工序的情況下，制造工序變得繁雜，而且由經 過不溶化工序的聚乙烯醇系樹脂而成的拉伸膜在染色工序中染色液的浸透性(以下，也稱“染色性”)下降。若為了使其充分浸透染色液而延長染色時間，則有時生產率下降，而且膜強度下降。

本發明的目的在于，提供溶解性得到抑制且具有優異的染色性的拉伸膜、使用該拉伸膜制造的偏振膜及偏振板。

本發明提供以下所示拉伸膜、偏振膜及偏振板。

[1]一種用于制造偏振膜的拉伸膜，其是包含含有層狀型結晶的聚乙烯醇系樹脂的拉伸膜，

所述拉伸膜的使用由差示掃描量熱測定的結晶熔解峰溫度T(K)通過下述式(1)算出的所述層狀型結晶的厚度L(nm)為13.0nm以上且45.0nm以下。

L＝0.66×{516/(516-T)} ···(1)

[2]如[1]所述的拉伸膜，其中，上述聚乙烯醇系樹脂包含調整上述層狀型結晶的厚度L(nm)的單體作為構成單體。

[3]如[1]或[2]所述的拉伸膜，其是將基材膜上設置的聚乙烯醇系樹脂層拉伸而得到的。

[4]一種偏振膜，其是將[1]～[3]中任一項所述的拉伸膜用二色性色素染色而得到的。

[5]如[4]所述的偏振膜，其每單位厚度的穿刺強度為6.0g/μm以上。

[6]一種偏振板，其包含：

[4]或[5]所述的偏振膜、和

在上述偏振膜的至少一面上層疊的保護膜。

根據本發明，可以提供溶解性得到抑制且具有優異的染色性的拉伸膜、使用該拉伸膜制造的偏振膜及偏振板。

附圖說明

圖1是表示構成層狀型結晶的聚合物鏈的一部分的示意圖。

圖2是表示本發明涉及的偏振板的層結構的一例的示意性截面圖。

圖3是表示本發明涉及的偏振板的層結構的另一例的示意性截面圖。

圖4是表示本發明涉及的偏振板的制造方法的優選一例的流程圖。

圖5是表示樹脂層形成工序中得到的層疊膜的層結構的一例的示意性截面圖。

圖6是表示拉伸工序中得到的拉伸層疊膜的層結構的一例的示意性截面圖。

圖7是表示染色工序中得到的偏振性層疊膜的層結構的一例的示意性截面圖。

圖8是表示第1貼合工序中得到的貼合膜的層結構的一例的示意性截面圖。

具體實施方式

<拉伸膜>

本發明涉及的拉伸膜用于制造偏振膜。拉伸膜包含含有層狀型結晶的聚乙烯醇系樹脂。聚乙烯醇系樹脂中所含層狀型結晶的特征在于，使用由差示掃描量熱(DSC)測定的結晶熔解峰溫度T(K)通過下述式(1)求出的厚度L(nm)為13.0nm以上且45.0nm以下。需要說明的是，可以通過下述式(1)算出層狀型結晶的厚度L(nm)是公知的。

L(nm)＝0.66×{516/(516-T)} ···(1)

拉伸膜是將聚乙烯醇系樹脂制膜并拉伸后的膜。將聚乙烯醇系樹脂制膜的方法沒有特別限定，可以采用公知的方法制膜，但從容易得到厚度小的偏振膜、工序中的薄膜的偏振膜的操作性也優異的方面出發，優選將聚乙烯醇系樹脂的溶液涂布于基材膜上的制膜方法。將聚乙烯醇系樹脂制膜后進行拉伸的方法沒有限定，但優選為單軸拉伸。

拉伸膜的厚度根據在制造偏振膜的工序中是否進一步進行拉伸來適當選擇，例如可以為30μm以下，進一步可以為20μm以下，但從偏振板的薄型化的觀點出發優選為10μm以下，更優選為8μm以下。拉伸膜的厚度通常為2μm以上。需要說明的是，進一步拉伸來制造偏振膜的情況下，即使是比上述的厚度更厚的拉伸膜也可以適宜地使用。

(聚乙烯醇系樹脂)

構成拉伸膜的聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度優選為100～10000，更優選為1500～8000，進一步優選為2000～5000。聚乙烯醇系樹脂的平均 聚合度也可以依照JIS K 6726(1994)來求出。

(層狀型結晶)

已知聚乙烯醇系樹脂形成一般被稱為層狀型結晶的聚合物鏈多重折返而形成的折疊結構的結晶。圖1是表示構成層狀型結晶的聚合物鏈的一部分的示意圖。層狀型結晶50通過如下方式構成，即，聚合物鏈51在寬度方向多重折返而形成折疊結構，而且所述折疊結構在深度方向也排成多重而形成。層狀型結晶50的厚度L是形成折疊結構的聚合物鏈51的長度方向的距離。層狀型結晶50的寬度X是聚合物鏈51的折疊方向的距離，隨著折返次數而變大。層狀型結晶2的深度Y是基于聚合物鏈51的折疊結構的深度方向的距離。

層狀型結晶50中，厚度L對穩定性造成影響。厚度L越大則層狀型結晶51越穩定。本發明發現，通過將構成拉伸膜的聚乙烯醇系樹脂所包含的層狀型結晶的厚度L設為13.0nm以上且45.0nm以下，從而溶解性得到抑制，且染色性良好。使用本發明的拉伸膜的情況下，可以抑制聚乙烯醇系樹脂向染色水溶液等的溶解，因而可以得到外觀良好、且具有優異的膜強度、優異的偏振性能的偏振膜。另外，由于染色性良好，因而在偏振膜的制造工序中可以維持高生產率。

若層狀型結晶的厚度L低于13.0nm，則聚乙烯醇系樹脂容易溶于染色水溶液中，有時耐水性高的聚乙烯醇-碘(I3)絡合物有選擇地脫落而脫色成藍色，或引起皮膜粗糙，或取向后的聚乙烯醇系樹脂的取向緩和從而引起偏振膜中的偏振性能的下降。層狀型結晶的厚度L優選為14.0nm以上，進一步優選為15.5nm以上。

若層狀型結晶的厚度L超過45.0nm，則在后段的偏振膜的制造過程中，有時染色性下降而有損生產率。層狀型結晶的厚度L更優選為35.0nm以下。

層狀型結晶的厚度L可以通過例如將控制層狀型結晶的厚度L的單體作為構成單體(以下，也稱“層狀成長控制單體單元”)導入，并通過所述層狀成長控制單體單元的位置和頻率進行調整。層狀成長控制單體單元為了具有一定以上的體積，而形成空間位阻，優選為具有1個以上在結晶化時有難以存在于層狀型結晶的結晶晶格內的傾向的取代基的單體單元。 具有這樣的取代基的層狀成長控制單體單元在構成折疊結構的聚合物鏈的折返部分存在的概率變高。因此，層狀成長控制單體單元在聚合物鏈中的位置和頻率會對層狀型結晶的厚度L造成影響。這樣的層狀成長控制單體單元的頻率越高，聚合物鏈的層狀型結晶的厚度L越變短。

層狀成長控制單體單元中的具有一定以上的體積的取代基的長度優選為以上。通常，由于原子間的鍵為在長度以上的取代基的情況下，成為折疊結構的障礙而從折疊結構擠出去的可能性變高。例如，取代基為正丙基的情況下，3個C-C鍵相連接，因此若由C-C鍵的標準長度即來計算，則長度為因此，可知適宜作為具有一定以上的體積的取代基。

層狀成長控制單體單元由具有1個大體積取代基的例如以下的化學式(1)表示。

【化1】

化學式(1)中，取代基X具有一定以上的體積，如上所述長度優選為以上。這樣的取代基X優選為具有2個以上除氫(H)以外的原子的取代基。除氫(H)以外的原子少于2個的情況下，取代基X的體積不足，從層狀型結晶的折疊結構彈開的可能性低。例如，取代基X為CH₃、或H的情況下，即使在聚乙烯醇中所述單元單獨或連續存在也不能成為層狀型結晶的折疊結構的障礙，而不能控制層狀型結晶的折返部分。另外，取代基X過大的情況下，有時阻礙結晶化本身，因此取代基X所具有的除氫(H)以外的原子的數量優選為10個以下。作為除氫(H)以外的原子，可以舉出碳(C)、氧(O)、氯(Cl)等，但并不限于這些。

作為取代基X，例如乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、苯基、芐基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等是適宜的。取代基X除飽和鍵以外還可以包含C＝C、C＝O那樣的不飽和鍵，可以為烯丙基、丙炔基、丁烯基、丁炔基、正丁氧羰基等。取代基X可以在鏈中包含醚鍵、酯鍵、氨酯鍵等鍵，也可以包含羥基等。

層狀成長控制單體單元不限于由上述化學式(1)表示的單體單元，可以是具有2個取代基的例如由以下的化學式(2)表示的單體單元。

【化2】

化學式(2)中，取代基X具有一定以上的體積，正如同對化學式(1)中的取代基X進行的說明那樣。取代基Y可以具有或不具有一定以上的體積。取代基Y具有一定以上的體積的情況下，正如同對化學式(1)中的取代基X進行的說明那樣。在這種情況下，可以是與取代基X相同的取代基，也可以是與取代基X不同的取代基。

需要說明的是，聚合物鏈中的層狀成長控制單體單元控制聚合物鏈的折返部分，并且控制從聚合物鏈的折返部分到下一個折返部分為止連續的乙烯醇單體單元(可以包含不成為結晶晶格的空間位阻的單體單元。下文中也同樣)的數量。即，層狀成長控制單體單元的位置和頻率的調整會反映到聚合物鏈中連續的乙烯醇單體單元的數量中，因而與聚合物鏈中連續的乙烯醇單體單元的數量的平均值(以下，也稱為“平均連續單元數”)相關。有連續的乙烯醇單體單元的數量的平均值越大，則層狀型結晶的厚度L越變大的傾向。

作為調整拉伸膜中的聚乙烯醇系樹脂的層狀型結晶的厚度L的方法，調整聚乙烯醇系樹脂中所含層狀成長控制單體單元的位置和頻率的方法在不會改變偏振元件膜中的偏振度、收縮力這樣的重要的物性值，而可以調整層狀型結晶的厚度L這點上是適宜的。

需要說明的是，作為調整拉伸膜中的聚乙烯醇系樹脂的層狀型結晶的厚度L的方法，還可以采用調整拉伸倍率、熱歷程的方法。有拉伸倍率越高，則層狀型結晶的厚度L越變大的傾向。拉伸倍率優選在偏振性能和收縮力不成為問題的范圍內適當調整。熱歷程的調整為例如調整在聚乙烯醇系樹脂的制膜干燥時施加的熱量，即，調整溫度和時間，或調整拉伸溫度。需要說明的是，與調整層狀成長控制單體單元的位置和頻率的上述方法相比，可以通過熱歷程進行調整的層狀型結晶的厚度L的范圍較 小。因此，作為調整層狀型結晶的厚度L的方法，優選單獨進行調整層狀成長控制單體單元的位置和頻率的上述方法，或對其組合其它方法來進行。

本說明書中所說的層狀型結晶的厚度L為拉伸膜的使用由差示掃描量熱(DSC)測定的結晶熔解峰溫度T(K)通過上述式(1)求出的厚度L。差示熱量測定使用差示熱量測定計從50℃到250℃邊以10℃/分鐘掃描溫度邊測定吸收的熱量。聚乙烯醇系樹脂的結晶熔解從超過200℃的附近開始，然后出現結晶熔解峰。將來自于結晶的處于200℃～250℃之間的結晶熔解峰的峰位置的溫度作為結晶熔解峰溫度T(K)。作為差示熱量測定計，可以舉出Seiko Instruments公司制的“DSC6220”等。

層狀型結晶50的寬度X和深度Y不會對層狀型結晶50的熱力學穩定性本身造成影響，而對結晶尺寸及結晶度造成影響，因此對聚乙烯醇系樹脂熔解所需時間造成影響。這是由于結晶尺寸及結晶度與熔解速度是相關的。

層狀型結晶50的寬度X和深度Y例如可以通過聚乙烯醇系樹脂的熱歷程進行調整。熱歷程的調整為例如調整在聚乙烯醇系樹脂的制膜干燥時施加的熱量，即，調整溫度和時間，或調整拉伸溫度。聚乙烯醇系樹脂的結晶度從抑制熔解速度的觀點出發，優選為15％以上，更優選為20％以上，進一步優選為25％以上。因此，優選按照達到上述結晶度的方式選擇聚乙烯醇系樹脂的熱歷程，從而適當調整層狀型結晶50的寬度X和深度Y。

<偏振膜>

本發明的偏振膜是使用上述拉伸膜而制造的偏振膜，是將上述拉伸膜用二色性色素染色而得到的偏振膜。通過使用上述拉伸膜，聚乙烯醇系樹脂向染色水溶液的溶解得到抑制，因而可以得到外觀良好、且具有優異的膜強度、優異的偏振性能的偏振膜。另外，上述拉伸膜的染色性良好，因而在偏振膜的制造工序中可以維持高生產率。

若對偏振膜的偏振性能進一步進行具體說明，則偏振性能通常由被稱作“視覺靈敏度修正單體透射率Ty”、“視覺靈敏度修正偏振度Py”的2種參數進行評價。這些參數分別為按照人類的眼睛的靈敏度最高的 550nm附近的權重變得最大的方式進行修正后的可見范圍(波長380～780nm)內的透射率、偏振度。波長小于380nm的光不能被人類的眼睛看到，因此在Ty和Py中不予考慮。

偏振膜的視覺靈敏度修正單體透射率Ty可以是通常在該偏振膜、應用包含該偏振膜的偏振板的液晶顯示裝置等圖像顯示裝置中要求的值，具體來說優選為40～47％的范圍內。Ty更優選為41～45％的范圍內，在這種情況下，Ty與Py的平衡變得更加良好。若Ty過高則Py下降而圖像顯示裝置的顯示品質下降。Ty過低的情況下，圖像顯示裝置的亮度下降而顯示品質下降，或者為了充分提高亮度而產生增大投入電力的需要。偏振膜的視覺靈敏度修正偏振度Py優選為99.9％以上，更優選為99.95％以上。

偏振膜的厚度可以為例如30μm以下，進一步可以為20μm以下，但從偏振板的薄型化的觀點出發，優選為10μm以下，更優選為8μm以下。偏振膜的厚度通常為2μm以上。

偏振膜優選每單位厚度的穿刺強度為6.0g/μm以上。若穿刺強度為6.0g/μm以上，則可以在熱沖擊試驗等耐久性試驗中顯著抑制偏振膜的破裂的發生率。

<偏振板>

(1)偏振板的層結構

圖2是表示本發明涉及的偏振板的層結構的一例的示意性截面圖。像圖2所示偏振板1那樣，本發明的偏振板可以為具備偏振膜5、和在其一面上層疊的第1保護膜10的帶單面保護膜的偏振板。第1保護膜10可以隔著第1接合劑層15在偏振膜5上層疊。

另外，本發明涉及的偏振板還可以在偏振膜5的另一面貼合保護膜，具體來說，像圖3所示的偏振板2那樣，還可以是具備偏振膜5、在其一面上層疊的第1保護膜10、和在另一面上層疊的第2保護膜20的帶雙面保護膜的偏振板。第2保護膜20可以隔著第2接合劑層25在偏振膜5上層疊。

本發明涉及的偏振板在裝入液晶顯示裝置那樣的圖像顯示裝置中時，可以是在液晶盒那樣的圖像顯示元件的觀看(前面)側配置的偏振板，也可以是在圖像顯示元件的背面側(例如液晶顯示裝置的背光側)配置的 偏振板。

(2)偏振膜

本發明涉及的偏振板包含上述本發明涉及的偏振膜作為偏振膜5。因此，關于偏振膜5的詳細內容，引用上述的記載。

(3)第1保護膜

第1保護膜10可以是包含具有透光性的(優選為光學上透明的)熱塑性樹脂，例如，鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降冰片烯系樹脂等)那樣的聚烯烴系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素那樣的纖維素酯系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸樹脂；聚苯乙烯系樹脂；或它們的混合物、共聚物等的膜。

第1保護膜10還可以是兼具相位差膜、增亮膜那樣的光學功能的保護膜。例如，通過拉伸(單軸拉伸或雙軸拉伸等)包含上述熱塑性樹脂的膜，或者在該膜上形成液晶層等，可以形成賦予任意相位差值的相位差膜。

作為鏈狀聚烯烴系樹脂，可列舉聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂那樣的鏈狀烯烴的均聚物、以及由2種以上的鏈狀烯烴構成的共聚物。

環狀聚烯烴系樹脂是以環狀烯烴為聚合單元的聚合的樹脂的總稱。若舉出環狀聚烯烴系樹脂的具體例，則為環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加聚物、環狀烯烴與乙烯、丙烯那樣的鏈狀烯烴的共聚物(典型的有無規共聚物)、以及用不飽和羧酸或其衍生物對它們進行改性后的接枝聚合物、以及它們的氫化物等。其中，優選使用使用了降冰片烯、多環降冰片烯系單體等降冰片烯系單體作為環狀烯烴的降冰片烯系樹脂。

纖維素酯系樹脂是纖維素與脂肪酸的酯。纖維素酯系樹脂的具體例包括三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素。另外，還可以使用它們的共聚物、羥基的一部分被其它取代基修飾的物質。其中，特別優選纖維素三乙酸酯(三乙酸纖維素：TAC)。

聚酯系樹脂是具有酯鍵的除上述纖維素酯系樹脂以外的樹脂，通常是由多元羧酸或其衍生物與多元醇的縮聚體構成的樹脂。作為多元羧酸或其衍生物可以使用二羧酸或其衍生物，例如可以舉出對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯等。作為多元醇可以使用二醇，例如可以舉出乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。

聚酯系樹脂的具體例包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯。

聚碳酸酯系樹脂由單體單元經由碳酸酯基團而鍵合的聚合物構成。聚碳酸酯系樹脂可以是對主鏈進行修飾后的那樣的被稱為改性聚碳酸酯的樹脂、共聚聚碳酸酯等。

(甲基)丙烯酸樹脂是以具有(甲基)丙烯酰基的化合物為主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸樹脂的具體例包括例如聚甲基丙烯酸甲酯那樣的聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物的共聚物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。優選使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯那樣的聚(甲基)丙烯酸C_1-6烷基酯為主成分的聚合物，更優選使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50～100重量％、優選為70～100重量％)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

在第1保護膜10的與偏振膜5相反側的表面，還可以形成硬涂層、防眩層、防反射層、抗靜電層、防污層那樣的表面處理層(涂層)。另外，第1保護膜10可以含有1種或2種以上的潤滑劑、增塑劑、分散劑、熱穩定劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑那樣的添加劑。

從偏振板的薄型化的觀點出發，第1保護膜10的厚度優選為90μm以下，更優選為50μm以下，進一步優選為30μm以下。從強度和操作性的觀點出發，第1保護膜10的厚度通常為5μm以上。

(4)第1粘接劑層

第1粘接劑層15是用于在偏振膜5的一面粘接固定第1保護膜10的層。形成第1粘接劑層15的粘接劑可以是含有通過紫外線、可見光、電子射線、X射線那樣的活性能量射線的照射而固化的固化性化合物的活性能量射線固化性粘接劑、或使聚乙烯醇系樹脂那樣的粘接劑成分溶解或分散于水中的水系粘接劑。

作為形成第1粘接劑層15的活性能量射線固化性粘接劑，從顯示出良好的粘接性出發，可以優選使用包含陽離子聚合性的固化性化合物和/或自由基聚合性的固化性化合物的活性能量射線固化性粘接劑組合物。活性能量射線固化性粘接劑還可以包含用于引發上述固化性化合物的固化反應的陽離子聚合引發劑和/或自由基聚合引發劑。

作為陽離子聚合性的固化性化合物，例如，可列舉環氧系化合物(在分子內具有1個或2個以上環氧基的化合物)、氧雜環丁烷系化合物(在分子內具有1個或2個以上氧雜環丁烷環的化合物)、或它們的組合。作為自由基聚合性的固化性化合物，例如，可列舉(甲基)丙烯酸系化合物(在分子內具有1個或2個以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性雙鍵的其它乙烯基系化合物、或它們的組合。可以合用陽離子聚合性的固化性化合物與自由基聚合性的固化性化合物。

活性能量射線固化性粘接劑可以根據需要含有陽離子聚合促進劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增粘劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調節劑、增塑劑、消泡劑、抗靜電劑、流平劑、溶劑等添加劑。

第1粘接劑層15的厚度通常為0.001～5μm左右，優選為0.01～3μm。

(5)第2保護膜

圖3所示的帶雙面保護膜的偏振板2具有的第2保護膜20與第1保護膜10同樣，可以是上面例示的包含熱塑性樹脂的膜，可以是兼具相位差膜、增亮膜那樣的光學功能的保護膜。關于第2保護膜20可具有的表面處理層及膜的厚度等，引用上文中對第1保護膜10描述的記載。第1保護膜10和第2保護膜20可以是彼此由同種樹脂構成的保護膜，也可以是由不同種類的樹脂構成的保護膜。

(6)第2粘接劑層

第2粘接劑層25是用于在偏振膜5的另一面粘接固定第2保護膜20的層。關于第2粘接劑層25的詳細內容，引用上文中對于第1粘接劑層15的記載。形成第2粘接劑層25的粘接劑可以具有與形成第1粘接劑層15的粘接劑相同的組成，也可以具有不同組成。

(7)粘合劑層

在圖2所示的帶單面保護膜的偏振板1中的偏振膜5上、或圖3所 示的帶雙面保護膜的偏振板2中的第1保護膜10或第2保護膜20上，可以層疊用于將偏振板貼合于其它部件(例如應用于液晶顯示裝置時的液晶盒)的粘合劑層。形成粘合劑層的粘合劑通常由以(甲基)丙烯酸樹脂、苯乙烯系樹脂、有機硅系樹脂等為基礎聚合物，并向其中加入異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物那樣的交聯劑的粘合劑組合物構成。還可以使其進一步含有微粒而成為顯示光散射性的粘合劑層。粘合劑層的厚度通常為1～40μm，優選為3～25μm。

(8)其它光學層

本發明涉及的偏振板可以進一步包含其第1和/或第2保護膜10、20和在偏振膜5上層疊的其它光學層。作為其它光學層，可以舉出透射某種偏振光，而反射顯示與其相反性質的偏振光的反射型偏振膜；在表面具有凹凸形狀的帶防眩功能的膜；帶表面防反射功能的膜；在表面具有反射功能的反射膜；兼具反射功能和透射功能的半透射反射膜；視場角補償膜等。

<拉伸膜、偏振膜及偏振板的制造方法>

本發明的拉伸膜、偏振膜及偏振板可以根據圖4所示方法適宜地制造。圖4所示制造方法依次包括下述工序：

(1)樹脂層形成工序S10，在基材膜的至少一面涂布含有聚乙烯醇系樹脂的涂布液后，使其干燥從而形成聚乙烯醇系樹脂層而得到層疊膜；

(2)拉伸工序S20，拉伸層疊膜而得到在基材膜上具有被拉伸的聚乙烯醇系樹脂層即拉伸膜的拉伸層疊膜；

(3)染色工序S30，將拉伸層疊膜的拉伸膜用碘染色而形成偏振膜(偏振元件層)從而得到偏振性層疊膜；

(4)第1貼合工序S40，在偏振性層疊膜的偏振膜上貼合保護膜而得到貼合膜、

(5)剝離工序S50，從貼合膜剝離除去基材膜而得到帶單面保護膜的偏振板。

在制造圖3所示那樣的帶雙面保護膜的偏振板2的情況下，在剝離工序S50之后，進一步包括

(6)第2貼合工序S60，在帶單面保護膜的偏振板的偏振膜面上貼合保護膜。

以下，邊參照圖5～圖8邊對各工序進行說明。需要說明的是，在樹脂層形成工序S10中，可以在基材膜的兩面形成聚乙烯醇系樹脂層，但以下主要對在單面形成的情況進行說明。

(1)樹脂層形成工序S10

參照圖5，本工序是在基材膜30的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層6而得到層疊膜100的工序。該聚乙烯醇系樹脂層6是經過拉伸工序S20成為拉伸膜6’，進一步經過染色工序S30成為偏振膜5的層。聚乙烯醇系樹脂層6可以通過將含有聚乙烯醇系樹脂的涂布液涂布于基材膜30的單面或雙面，使涂布層干燥從而形成。通過這樣的涂布形成聚乙烯醇系樹脂層的方法在容易得到薄膜的偏振膜5這點上是有利的。

基材膜30可以由熱塑性樹脂構成，其中優選由透明性、機械強度、熱穩定性、拉伸性等優異的熱塑性樹脂構成。這樣的熱塑性樹脂的具體例包括例如鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降冰片烯系樹脂等)那樣的聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素那樣的纖維素酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚砜系樹脂；聚砜系樹脂；聚酰胺系樹脂；聚酰亞胺系樹脂；以及它們的混合物、共聚物。

基材膜30可以是由包含1種或2種以上的熱塑性樹脂的1層樹脂層構成的單層結構，也可以是將包含1種或2種以上的熱塑性樹脂的樹脂層多層層疊的多層結構。基材膜30優選由在通過后述的拉伸工序S20拉伸層疊膜100時，可以在適宜拉伸聚乙烯醇系樹脂層6的拉伸溫度下進行拉伸那樣的樹脂構成。

基材膜30可以含有添加劑。添加劑的具體例包括紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、增塑劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、以及著色劑。

從強度、操作性等方面出發，基材膜30的厚度通常為1～500μm，優選為1～300μm，更優選為5～200μm，進一步優選為5～150μm。

涂布于基材膜30的涂布液優選為將聚乙烯醇系樹脂的粉末溶于良溶劑(例如水)而得到的聚乙烯醇系樹脂溶液。聚乙烯醇系樹脂的詳細內容如上所述。涂布液可以根據需要含有增塑劑、表面活性劑等添加劑。

將上述涂布液涂布于基材膜30的方法可以從繞線棒涂布法；逆轉涂布、凹版涂布那樣的輥涂法；模涂法；逗點涂布法；唇涂法；旋涂法；絲網涂布法；噴泉式涂布法；浸涂法；噴涂法等方法中適當選擇。

涂布層(干燥前的聚乙烯醇系樹脂層)的干燥溫度及干燥時間根據涂布液中所含溶劑的種類而設定。干燥溫度為例如50～200℃，優選為60～150℃。溶劑包含水的情況下，干燥溫度優選為80℃以上。

聚乙烯醇系樹脂層6可以僅在基材膜30的一面形成，也可以在雙面形成。若在雙面形成則在制造偏振性層疊膜300(參見圖7)時能夠抑制可能發生的膜的彎曲，并且可以由1張偏振性層疊膜300得到2張偏振板，因而在偏振板的生產效率方面也是有利的。

層疊膜100中的聚乙烯醇系樹脂層6的厚度優選為3～30μm，更優選為5～20μm。若為具有該范圍內的厚度的聚乙烯醇系樹脂層6，則經過后述的拉伸工序S20及染色工序S30，可以得到碘的染色性良好、偏振性能優異、且充分薄的(例如厚度10μm以下的)偏振膜5。

在涂布涂布液之前，為了提高基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層6的密合性，可以至少在形成聚乙烯醇系樹脂層6的一側的基材膜30的表面，實施電暈處理、等離子體處理、火焰(flame)處理等。另外，出于同樣的理由，可以在基材膜30上隔著底涂層等形成聚乙烯醇系樹脂層6。

底涂層可以通過在將底涂層形成用涂布液涂布于基材膜30的表面后，使其干燥從而形成。該涂布液在基材膜30和聚乙烯醇系樹脂層6雙方中包含一定程度發揮強密合力的成分，通常包含賦予這樣的密合力的樹脂成分和溶劑。作為樹脂成分，優選使用透明性、熱穩定性、拉伸性等優異的熱可塑樹脂，可以舉出例如(甲基)丙烯酸樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。其中，優選使用賦予良好的密合力的聚乙烯醇系樹脂。更優選為聚乙烯醇樹脂。作為溶劑，通常使用能夠溶解上述樹脂成分的一般的有機溶劑、水系溶劑，優選由以水為溶劑的涂布液形成底涂層。

為了提高底涂層的強度，可以在底涂層形成用涂布液中添加交聯劑。交聯劑的具體例包括環氧系、異氰酸酯系、二醛系、金屬系(例如，金屬鹽、金屬氧化物、金屬氫氧化物、有機金屬化合物)、高分子系的交聯劑。使用聚乙烯醇系樹脂作為形成底涂層的樹脂成分的情況下，優選使用聚酰 胺環氧樹脂、羥甲基化三聚氰胺樹脂、二醛系交聯劑、金屬螯合化合物系交聯劑等。

底涂層的厚度優選為0.05～1μm左右，更優選為0.1～0.4μm。若底涂層的厚度薄于0.05μm，則基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層6的密合力提高的效果小，若厚于1μm，則對偏振板的薄膜化不利。

將底涂層形成用涂布液涂布于基材膜30的方法可以與聚乙烯醇系樹脂層形成用的涂布液同樣。由底涂層形成用涂布液構成的涂布層的干燥溫度為例如50～200℃，優選為60～150℃。在溶劑包含水的情況下，干燥溫度優選為80℃以上。

(2)拉伸工序S20

參見圖6，本工序是拉伸由基材膜30和聚乙烯醇系樹脂層6構成的層疊膜100，得到在被拉伸的基材膜30’上，具有被拉伸的聚乙烯醇系樹脂層即拉伸膜6’的拉伸層疊膜200的工序。拉伸處理通常為單軸拉伸。

層疊膜100的拉伸倍率可以根據所期望的偏振特性和層狀型結晶的厚度L適當選擇。優選相對于層疊膜100的原長為1.1倍～17倍，更優選為1.5倍～8倍。若拉伸倍率超過17倍，則在拉伸時容易發生膜的斷裂，并且拉伸層疊膜200的厚度變得比需要的更薄，后面工序中的加工性和操作性有可能下降。

拉伸處理不限于以一段進行拉伸，還可以以多段進行。在這種情況下，可以在染色工序S30之前連續地進行全部多階段的拉伸處理，可以與染色工序S30中的染色處理和/或交聯處理同時進行第二階段以后的拉伸處理。像這樣以多段進行拉伸處理的情況下，優選按照將拉伸處理的全段合起來達到超過4倍的拉伸倍率的方式進行拉伸處理。

拉伸處理可以是沿膜長度方向(膜傳送方向)拉伸的縱拉伸，除此之外，還可以是沿膜寬度方向拉伸的橫拉伸或斜拉伸等。作為縱拉伸方式，可以舉出使用輥進行拉伸的輥間拉伸、壓縮拉伸、使用卡盤(夾子)的拉伸等，作為橫拉伸方式，可以舉出拉幅法等。拉伸處理可以采用濕潤式拉伸方法、干式拉伸方法中的任一種，從可以從廣闊范圍內選擇拉伸溫度的方面出發優選采用干式拉伸方法。

拉伸溫度設定在聚乙烯醇系樹脂層6和基材膜30整體顯示可拉伸程 度的流動性的溫度以上，優選為基材膜30的相變溫度(熔點或玻璃化轉變溫度)的-30℃到+30℃的范圍，更優選為-30℃到+5℃的范圍，進一步優選為-25℃到+0℃的范圍。在基材膜30由多個樹脂層構成的情況下，上述相變溫度是指該多個樹脂層顯示的相變溫度之中最高的相變溫度。

若使拉伸溫度低于相變溫度的-30℃，則難以達成超過4倍的高倍率拉伸，或者有基材膜30的流動性過低而拉伸處理變得困難的傾向。若拉伸溫度超過相變溫度的+30℃，則有基材膜30的流動性過大而拉伸變得困難的傾向。從更容易達成超過4倍的高拉伸倍率出發，拉伸溫度為上述范圍內，進一步優選為120℃以上。

作為拉伸處理中的層疊膜100的加熱方法，有區域加熱法(例如，在將熱風調整到吹入指定的溫度的加熱爐那樣的拉伸區域內進行加熱的方法。)；使用輥進行拉伸的情況下，加熱輥自身的方法；加熱器加熱法(將紅外線加熱器、鹵素加熱器、面板加熱器等設置于層疊膜100的上下并利用輻射熱進行加熱的方法)等。在輥間拉伸方式中，從拉伸溫度的均勻性的觀點出發，優選區域加熱法。

需要說明的是，在區域加熱法的情況下，拉伸溫度是指區域內(例如加熱爐內)的氣氛溫度，在加熱器加熱法中，在爐內進行加熱的情況下也是指爐內的氣氛溫度。另外，在加熱輥自身的方法的情況下，是指輥的表面溫度。

在拉伸工序S20之前，可以設置預熱層疊膜100的預熱處理工序。作為預熱方法，可以采用與拉伸處理中的加熱方法同樣的方法。預熱溫度優選為拉伸溫度的-50℃到±0℃的范圍，更優選為拉伸溫度的-40℃到-10℃的范圍。

另外，在拉伸工序S20中的拉伸處理之后，可以設置熱固定處理工序。熱固定處理是在邊利用夾子固定拉伸層疊膜200的端部的狀態下維持緊張狀態，邊在結晶化溫度以上進行熱處理的處理。通過該熱固定處理促進拉伸膜6’的結晶化。熱固定處理的溫度優選為拉伸溫度的-0℃～-80℃的范圍，更優選為拉伸溫度的-0℃～-50℃的范圍。

(3)染色工序S30

參見圖7，本工序是將拉伸層疊膜200的拉伸膜6’用碘染色使其吸附 取向，而形成偏振膜5的工序。經過本工序可以得到在基材膜30’的單面或雙面層疊有偏振膜5的偏振性層疊膜300。

染色工序可以通過在含有碘的溶液(染色水溶液)中浸漬拉伸層疊膜200整體來進行。作為染色水溶液，可以使用將碘溶于溶劑的溶液。作為溶劑，一般來說使用水，還可以進一步添加與水具有相溶性的有機溶劑。染色水溶液中的碘的濃度優選為0.01～10重量％，更優選為0.02～7重量％。

從可以提高染色效率出發，優選在染色水溶液中進一步添加碘化物。作為碘化物，可以舉出例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色水溶液中的碘化物的濃度優選為0.01～20重量％。碘化物中，優選添加碘化鉀。添加碘化鉀的情況下，碘與碘化鉀的比例以重量比計，優選為1∶5～1∶100，更優選為1∶6～1∶80。染色水溶液的溫度優選為10～60℃，更優選為20～40℃。

染色工序S30可以包括繼染色處理之后實施的交聯處理工序。交聯處理可以通過將染色了的膜浸漬于將交聯劑溶于溶劑的溶液(交聯溶液)中來進行。作為交聯劑，例如，可以舉出硼酸、硼砂那樣的硼化合物、乙二醛、戊二醛等。交聯劑可以僅使用1種也可以合用2種以上。作為交聯溶液的溶劑，可以使用水，還可以進一步包含與水具有相溶性的有機溶劑。交聯溶液中的交聯劑的濃度優選為0.2～20重量％，更優選為0.5～10重量％。

交聯溶液可以進一步包含碘化物。通過添加碘化物，可以使偏振膜5的面內的偏振性能更均勻化。碘化物的具體例與上述同樣。交聯溶液中的碘化物的濃度優選為0.05～15重量％，更優選為0.5～8重量％。交聯溶液的溫度優選為1～90℃。

需要說明的是，交聯處理還可以通過將交聯劑混配于染色水溶液中，從而與染色處理同時進行。另外，可以使用組成不同的2種以上的交聯溶液，進行2次以上浸漬于交聯溶液中的處理。

優選在染色工序S30之后、且在后述的第1貼合工序S40之前進行清洗工序和干燥工序。清洗工序通常包括水清洗工序。水清洗處理可以通 過在離子交換水、蒸餾水那樣的純水中浸漬染色處理后的或交聯處理后的膜來進行。水清洗溫度通常為3～50℃，優選為4～20℃。清洗工序可以是水清洗工序與利用碘化物溶液的清洗工序的組合。作為在清洗工序之后進行的干燥工序，可以采用自然干燥、送風干燥、加熱干燥等任意適當的方法。例如在加熱干燥的情況下，干燥溫度通常為20～95℃。

(4)第1貼合工序S40

參見圖8，本工序是通過在偏振性層疊膜300的偏振膜5上、即偏振膜5的與基材膜30’側相反側的面上隔著粘接劑層貼合保護膜從而得到貼合膜400的工序。在圖8中示出隔著第1粘接劑層15貼合第1保護膜10的例子，而在制造帶雙面保護膜的偏振板2的情況下，可以隔著第2粘接劑層25貼合第2保護膜20。關于形成第1粘接劑層15、第2粘接劑層25的粘接劑如上所述。

需要說明的是，偏振性層疊膜300在基材膜30’的雙面具有偏振膜5的情況下，通常在雙面的偏振膜5上分別貼合保護膜。在這種情況下，這些保護膜可以是同種保護膜，也可以是不同種類的保護膜。

以使用活性能量射線固化性粘接劑貼合第1保護膜10的情況為例，對保護膜的貼合粘接方法進行說明，在隔著成為第1粘接劑層15的活性能量射線固化性粘接劑將第1保護膜10層疊在偏振膜5上后，照射紫外線、可見光、電子射線、X射線那樣的活性能量射線使粘接劑層固化。其中，紫外線是適宜的，作為這種情況下的光源，可以使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈等。

在偏振膜5上貼合保護膜時，為了提高與偏振膜5的粘接性，可以對保護膜和/或偏振膜5的貼合面進行等離子體處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理那樣的表面處理(易粘接處理)，其中，優選進行等離子體處理、電暈處理或皂化處理。

(5)剝離工序S50

本工序是從貼合膜400剝離除去基材膜30’的工序。經過該工序，可以得到與圖2同樣的帶單面保護膜的偏振板。偏振性層疊膜300在基材膜30’的雙面具有偏振膜5，在這兩張偏振膜5上貼合保護膜的情況下，通 過該剝離工序S50，可以由1張偏振性層疊膜300得到2張帶單面保護膜的偏振板。

剝離除去基材膜30’的方法沒有特別限定，可以采用與通常的帶粘合劑的偏振板中進行的分離膜(剝離膜)的剝離工序同樣的方法剝離。基材膜30’可以在第1貼合工序S40之后，直接立即剝離，也可以在第1貼合工序S40之后，暫時卷繞成輥狀，在其后的工序中邊解卷邊剝離。

(6)第2貼合工序S60

本工序是在帶單面保護膜的偏振板的偏振膜5上、即與通過第1貼合工序S40貼合的保護膜相反側的面上，進一步貼合保護膜，得到圖3所示構成的帶雙面保護膜的偏振板2的工序。在通過第1貼合工序S40貼合第1保護膜10的情況下，通過本工序貼合第2保護膜20，在通過第1貼合工序S40貼合第2保護膜20的情況下，通過本工序貼合第1保護膜10。隔著第2粘接劑層25貼合第2保護膜20可以與第1保護膜10的貼合同樣地進行。

以上，對由在基材膜上涂布的聚乙烯醇系樹脂層形成偏振膜，接著制造偏振板的方法進行了詳述，但并不限于此，還可以在由單體(單獨)膜構成的偏振膜5上貼合第1保護膜10、或第1和第2保護膜10、20來制造偏振板。

由單體(單獨)膜構成的拉伸膜6’和偏振膜5可以通過如下工序進行制造，即，通過例如熔融擠出法、溶劑鑄涂那樣的公知的方法制作聚乙烯醇系樹脂膜的工序；將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸而得到拉伸膜6’的工序；將拉伸膜用碘染色，使其吸附的工序；用硼酸水溶液處理吸附有碘的拉伸膜的工序；以及在利用硼酸水溶液的處理后進行水洗而得到偏振膜5的工序。單軸拉伸可以在碘的染色前、與染色同時、或染色之后進行。在染色之后進行單軸拉伸的情況下，該單軸拉伸可以在硼酸處理之前或硼酸處理中進行。另外，可以在這些多個階段中進行單軸拉伸。

在貼合第1和第2保護膜10、20雙方來制造帶雙面保護膜的偏振板的情況下，這些保護膜可以隔著粘接劑層依次貼合，也可以同時貼合。

(7)拉伸膜中的聚乙烯醇系樹脂的層狀型結晶的厚度L的調整

將拉伸膜中的聚乙烯醇系樹脂的層狀型結晶的厚度L設在上述規定 的范圍內的方法沒有特別限制，但優選采用如上所述使用調整了層狀成長控制單體單元的位置和頻率的聚乙烯醇系樹脂進行制膜的方法。聚乙烯醇系樹脂中的層狀成長控制單體單元的位置和頻率的調整程度可以根據聚乙烯醇系樹脂中連續的乙烯醇單體單元的數量的平均值進行確認。

另外，通過與上述方法組合、或單獨調整聚乙烯醇系樹脂層的拉伸倍率、熱歷程等，可以將拉伸膜中的聚乙烯醇系樹脂的層狀型結晶的厚度L設在上述規定的范圍內。

【實施例】

以下，示出實施例和比較例對本發明進一步進行具體說明，但本發明并不限于這些例子。

<實施例1>

(1)底涂層形成工序

將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業株式會社制的“Z-200”、平均聚合度1100、皂化度99.5摩爾％)溶于95℃的熱水中，制備濃度3重量％的聚乙烯醇水溶液。在所得到的水溶液中將交聯劑(田岡化學工業株式會社制的“Sumirez Resin 650”)以相對于聚乙烯醇粉末6重量份為5重量份的比例混合，得到底涂層形成用涂布液。

接著，準備厚度90μm的未拉伸的聚丙烯(PP)膜(熔點：163℃)作為基材膜，在其單面實施電暈處理后，在其電暈處理面使用小徑凹版涂布機涂布上述底涂層形成用涂布液，在80℃干燥10分鐘，從而形成厚度0.2μm的底涂層。

(2)層疊膜的制作(樹脂層形成工序)

將平均連續單元數為30的聚乙烯醇系樹脂粉末溶于95℃的熱水中，制備濃度7.5重量％的聚乙烯醇水溶液，將其作為聚乙烯醇系樹脂層形成用涂布液。

在上述(1)中制作的具有底涂層的基材膜的底涂層表面使用模涂機涂布上述聚乙烯醇系樹脂層形成用涂布液后，邊吹入70℃的熱風邊實施干燥，在底涂層上形成聚乙烯醇系樹脂層，得到由基材膜/底涂層/聚乙烯醇系樹脂層構成的層疊膜。干燥后的聚乙烯醇系樹脂層的厚度為9.2μm。

(3)拉伸層疊膜的制作(拉伸工序)

對于上述(2)中制作的層疊膜，使用漂浮的縱單軸拉伸裝置(空中拉伸)，在空中拉伸時的最大溫度150℃下實施5.3倍的自由端單軸拉伸，得到在基材膜上設有由聚乙烯醇系樹脂構成的拉伸膜的拉伸層疊膜。拉伸后的由聚乙烯醇系樹脂構成的拉伸膜的厚度為5.1μm。

(4)偏振性層疊膜的制作(染色工序)

對于上述(3)中制作的拉伸層疊膜，在包含碘和碘化鉀的30℃的染色水溶液(平均每100重量份水包含0.35重量份碘(碘濃度13.8mM)、10.0重量份碘化鉀。)中，按照后面的評價中測定的視覺靈敏度修正單體透射率Ty成為41.5％的方式調整適宜浸漬時間進行拉伸膜的染色處理后，用10℃的純水沖洗多余的染色水溶液。在染色水溶液中的染色時間示于表1。

接著，在包含硼酸的78℃的第1交聯水溶液(平均每100重量份水中包含10.4重量份硼酸。)中浸漬120秒鐘，接著，在包含硼酸和碘化鉀的70℃的第2交聯水溶液(平均每100重量份水中包含5.0重量份硼酸、12.0重量份碘化鉀。)中浸漬60秒鐘，進一步在10℃的純水中浸漬約10秒鐘進行交聯處理。然后立即用鼓風機將附著于雙面的液體除掉，得到包含偏振膜的偏振性層疊膜。

(5)帶單面保護膜的偏振板的制作(第1貼合工序、剝離工序)

在上述(4)中制作的偏振性層疊膜的偏振膜上，隔著包含紫外線固化性粘接劑(ADEKA株式會社制的“KR-75T”)的粘接劑層，貼合保護膜[包含三乙酸纖維素(TAC)的透明保護膜(Konica Minolta Opto株式會社制的“KC-2UAW”)]。接著，通過使用高壓汞燈照射紫外線從而使粘接劑層固化，得到由保護膜/粘接劑層/偏振膜/基材膜的層結構構成的貼合膜(第1貼合工序)。然后，從所得到的貼合膜剝離除去基材膜，得到帶單面保護膜的偏振板(剝離工序)。

<實施例2～13、比較例1～5>

除了在實施例1中使用表1所示平均連續單元數的聚乙烯醇系樹脂粉末作為上述(2)中使用的聚乙烯醇系樹脂粉末這點、將上述(3)中的拉伸時的溫度設為表1所示溫度這點、將上述(3)中的拉伸倍率設為表1所示倍率這點、以及在實施例10～13和比較例3～5中，在上述(4)的第1交 聯水溶液中進行3.0倍或1.1倍的自由端單軸拉伸這點以外，實施例2～13采用與實施例1相同的方法進行。表1所示第1交聯水溶液中的拉伸倍率為“1.0倍”的情況表示未在第1交聯水溶液中進行拉伸。

[層狀型結晶的厚度L的算出]

從上述(3)中得到的拉伸層疊膜剝離基材膜，取出拉伸膜，在23℃55％RH環境下調整濕度1天后，將5mg裝入測定用鋁盤并密閉的樣品作為評價用樣品。作為對照，使用將空的鋁盤密閉的樣品。對于評價用樣品與對照，使用差示掃描量熱計(產品名：DSC6220、Seiko Instruments公司制)，從50℃到250℃邊以10℃/分鐘掃描溫度邊測定吸收的熱量。將來自于結晶的處于200℃～250℃之間的結晶熔解峰的峰位置的溫度設為結晶熔解峰溫度T(K)，通過式(1)算出層狀型結晶的厚度L。結果示于表1。

[染色性的評價]

根據上述(4)中要求的在染色水溶液(碘濃度為13.8mM)中的浸漬時間(染色時間)，將染色時間為300秒鐘以內的情況作為“良好”，將染色時間超過300秒鐘的情況作為“不良”進行評價。結果示于表1。

將染色性評價的基準設為300秒鐘的理由是，因為可獲得一定水準的生產率的線速度為10m/分鐘以上，這種情況下為了確保超過300秒鐘的染色滯留時間，需要將線滯留長設為50m以上，而生產率惡化。在染色后設置交聯槽、補色槽等的情況下，生產線滯留長進一步變長。在染色時間為例如100秒鐘的情況下，可以使生產線滯留長為20m以內，因而可以用一般的染色設備充分實施。

需要說明的是，通過提高染色水溶液的碘濃度可以縮短滯留時間，但由于高濃度的碘會引起設備腐蝕，因此難以長期持續用20.0mM以上的碘濃度的染色水溶液連續地進行生產。另外，若染色水溶液的碘濃度升高則不僅會引起染色水溶液導致的腐蝕，而且有時還會引起從染色水溶液升華的碘蒸氣導致的染色槽外的腐蝕，因而染色水溶液的碘濃度優選為15.0mM以下。

[美觀性的評價]

在上述(4)的染色工序中，通過目視確認染色槽中的聚乙烯醇系樹脂的溶解導致的溶出、脫色。將溶解和脫色都沒有確認到、外觀也良好的情 況作為“良好”，將觀察到溶解或脫色中的任一種的情況作為“不良”。結果示于表1。

[穿刺強度的測定]

從上述(4)中得到的偏振性層疊膜剝離基材膜，取出偏振膜而得到評價用樣品。首先，用接觸式膜厚計(尼康株式會社制的商品名“DIGIMICRO MH-15M”)測定評價用樣品的偏振膜的厚度。然后，使用安裝有頂端徑1mmφ、0.5R的針的Kato-tech公司制的Handy-type壓縮試驗機“KES-G5針貫穿力測定規格”，在溫度23±3℃的環境下，在穿刺速度0.33cm/秒鐘的測定條件下進行向偏振膜的穿刺，測定貫穿偏振膜時作用于針的力。對12張評價樣品進行該測定，將其平均值作為該樣品的測定值。用偏振膜的厚度除以所述測定值從而算出每單位厚度的穿刺強度。結果示于表1。

[Ty和Py的測定]

在上述(5)中得到的帶單面保護膜的偏振板的偏振膜側的面進行電暈處理，同時貼合(甲基)丙烯酸系樹脂系的粘合劑(Lintec公司制的“P-3132”)。將所得到的帶粘合劑層的偏振板使用其粘合劑層貼合于玻璃，得到評價用樣品。對于評價用樣品的偏振板，使用帶積分球的吸光光度計(日本分光株式會社制的“V7100”)，對于所得到的透射率、偏振度通過JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行視覺靈敏度修正，測定視覺靈敏度修正單體透射率Ty和視覺靈敏度修正偏振度Py。測定時，按照向玻璃側照射入射光的方式設置評價用樣品。結果示于表1。

【表1】