一種雕刻機改進型機頭保護罩的制作方法

技術領域

本發明涉及一種雕刻機改進型機頭保護罩，屬于機床附件技術領域。

背景技術：

電腦雕刻機有激光雕刻和機械雕刻兩類，這兩類都有大功率和小功率之分。因為雕刻機的應用范圍非常廣泛，因此有必要了解各種雕刻機的最合適的應用范圍： 1、胸牌：小功率激光雕刻機（刻章機）、大功率或小功率電腦雕刻機； 2、建筑模型：大、小功率電腦雕刻機； 3、金屬（模具、章等）加工：大、小功率電腦雕刻機（大功率因每次切削量較多而省時）； 4、水晶字制作：大功率激光雕刻機（50W以上），大功率機械雕刻機； 5、木材、有機玻璃、人造石等標牌制作：大功率機械雕刻機； 6、展示、展覽模型制作：大功率、大幅面機械雕刻機；7、陶瓷、模坯、玉石、工藝品、擺件、掛件、電子治具、手板雕刻：大功率電腦雕刻機。

現有的例如專利號為CN 104339959 A的專利申請文件公開了一種雕刻機針頭保護罩，采用可彈性移動的保護罩結構，能夠在針頭與工件接觸時將針頭與操作者隔開；采用透明保護罩的結構，能夠在物理隔離的前提下觀察針頭的工作狀態。然而該保護罩結構為封閉式的，不利于加工過程中碎屑的及時排出以及刀具的有效散熱。

技術實現要素：

本發明的目的在于，克服現有技術存在的缺陷，解決上述技術問題，提出一種雕刻機改進型機頭保護罩。

本發明采用如下技術方案：一種雕刻機改進型機頭保護罩，其特征在于，包括保護罩體，所述保護罩體內部嵌套設置有套筒，所述套筒的內部設置有驅動軸，所述驅動軸的下端嵌套設置有刀頭，所述驅動軸的下端與所述刀頭的上端配合聯接，所述驅動軸的上端聯接有驅動電機的輸出軸，所述保護罩體上左右兩側對稱設置有冷卻液管，所述套筒的上端與所述保護罩體之間還設置有壓縮彈簧。

優選地，保護罩體包括設置于上部的橫向支架、設置于下部的外翻邊罩，橫向支架與外翻邊罩固定連接。

優選地，橫向支架上開設有與冷卻液管相配合的限位孔一，外翻邊罩上開設有與冷卻液管相配合的限位孔二。

優選地，外翻邊罩的底邊高于刀頭的底端的高度。

優選地，外翻邊罩的底邊與刀頭的底端的高度差不大于套筒的頂端與保護罩體的頂邊的距離。

優選地，外翻邊罩上還開設有若干個等間距分布的貫通的排屑槽。

優選地，排屑槽為沿徑向延伸的條形槽。

優選地，冷卻液管的傾斜角度為30~60度。

本發明所達到的有益效果：本發明通過設置對稱的冷卻液管對刀頭加工過程進行切削熱降溫，通過限制外翻邊罩與刀頭之間的高度差，防止加工碎屑飛濺的高度過高，通過使外翻邊罩的底邊高度高于刀頭的底端高度以及在外翻邊罩上開設排屑槽，加速碎屑的排出，防止碎屑堆積。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

圖2是本發明的保護罩體的結構示意圖。

圖中標記的含義：1-保護罩體，2-套筒，3-驅動軸，4-刀頭，5-壓縮彈簧，6-橫向支架，7-外翻邊罩，8-冷卻液管，9-限位孔一，10-限位孔二，11-排屑槽。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此來限制本發明的保護范圍。

圖1是本發明的結構示意圖。本發明提出一種雕刻機改進型機頭保護罩，包括保護罩體1，保護罩體1內部嵌套設置有套筒2，套筒2的內部設置有驅動軸3，驅動軸3的下端嵌套設置有刀頭4，驅動軸3的下端與刀頭4的上端配合聯接，驅動軸3的上端聯接有驅動電機的輸出軸，保護罩體1上左右兩側對稱設置有冷卻液管8，套筒2的上端與保護罩體1之間還設置有壓縮彈簧5。

作為一種較佳的實施例，保護罩體1包括設置于上部的橫向支架6、設置于下部的外翻邊罩7，橫向支架6與外翻邊罩7固定連接，外翻邊罩7的材料可以采用鋁合金或者合金鋼。

圖2是本發明的保護罩體的結構示意圖。橫向支架6上開設有與冷卻液管8相配合的限位孔一9，外翻邊罩7上開設有與冷卻液管8相配合的限位孔二10。

作為一種較佳的實施例，外翻邊罩7的底邊高于刀頭4的底端的高度，便于冷卻液帶走加工產生的碎屑。

作為一種較佳的實施例，外翻邊罩7的底邊與刀頭4的底端的高度差不大于套筒2的頂端與保護罩體1的頂邊的距離，便于冷卻液帶走加工產生的碎屑，同時防止碎屑飛濺的高度過高。

作為一種較佳的實施例，外翻邊罩7上還開設有若干個等間距分布的貫通的排屑槽11，加速排出碎屑，防止碎屑堆積。

作為一種較佳的實施例，排屑槽11為沿徑向延伸的條形槽。

作為一種較佳的實施例，冷卻液管8的傾斜角度為30~60度。

本發明的工作原理：本發明通過設置對稱的冷卻液管8對刀頭加工過程進行切削熱降溫，通過限制外翻邊罩7與刀頭4之間的高度差，防止加工碎屑飛濺的高度過高，通過使外翻邊罩7的底邊高度高于刀頭4的底端高度以及在外翻邊罩7上開設排屑槽，加速碎屑的排出，防止碎屑堆積。

以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變形，這些改進和變形也應視為本發明的保護范圍。