防偽膜的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及防偽材料技術領域，尤其涉及一種防偽膜。
【背景技術】
[0002]為了扼制假冒偽劣產品對市場經濟帶來的惡劣影響，除了建立注冊商標制度以夕卜，還要發展防偽商標，以規范商品經濟和市場發展。防偽商標是指能夠通過粘貼、印刷等方式轉移到產品包裝或附屬物上，并具有防偽作用的標識。
[0003]目前已有的防偽注冊商標包括激光全息標識、二維電碼防偽、防偽油墨印刷等。這些防偽手段由于其物理原理簡單易懂，能夠工業化生產，因此制作成本較低且利于廣泛推廣。但隨著這些技術的普及與公開化，令其防偽功能明顯下降，讓造假商家有機可乘。
【實用新型內容】
[0004]鑒于此，有必要提供了一種防偽功能較強的防偽膜。
[0005]一種防偽膜，包括圖形層、透明基膜和微透鏡陣列層，所述圖形層和所述微透鏡陣列層分別設置在所述透明基膜的相對的兩個表面；
[0006]所述圖形層包括多個子單元圖案和未被所述子單元圖案覆蓋的區域，所述子單元圖案呈陣列分布，所述圖形層的所述子單元圖案的結構為全息素面光柵結構或平面結構，所述未被所述子單元圖案覆蓋的區域的結構為全息素面光柵結構或平面結構，所述子單元圖案和未被所述子單元圖案覆蓋的區域的結構不同；
[0007]所述微透鏡陣列層包括呈陣列分布的多個微透鏡，所述微透鏡陣列層的所述微透鏡和所述圖形層的所述子單元圖案一一對應。
[0008]在其中一個實施例中，所述子單元圖案的尺寸范圍為5 μπι-30 μπι。
[0009]在其中一個實施例中，所述圖形層的子單元圖案陣列與所述微透鏡陣列層的微透鏡陣列的周期相等，陣列方向相差10° -0.01°。
[0010]在其中一個實施例中，所述圖形層的子單元圖案陣列與所述微透鏡陣列層的微透鏡陣列的陣列方向相同，周期相差10% -0.1%。
[0011 ] 在其中一個實施例中，所述圖形層的表面鍍有一層金屬層。
[0012]在其中一個實施例中，所述微透鏡陣列層的微透鏡陣列為連續面形微透鏡陣列或多臺階結構衍射型微透鏡陣列。
[0013]在其中一個實施例中，所述圖形層的子單元圖案的排列方式為四邊形排列、六邊形排列或環形排列，所述微透鏡陣列層的微透鏡的排列方式為四邊形排列、六邊形排列或環形排列。
[0014]在其中一個實施例中，所述微透鏡的孔徑的范圍為30 μ m-80 μ m，矢高的范圍為8.2 μ m-20 μ m，焦距的范圍為 40 μ m_90 μ m。
[0015]在其中一個實施例中，所述透明基膜的厚度為所述微透鏡的焦距的0.5倍-1.5倍。
[0016]在其中一個實施例中，所述透明基膜的材質為熱塑性樹脂材料或者玻璃，所述熱塑性樹脂材料為聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯或聚丙烯中。
[0017]在其中一個實施例中，所述圖形層的不同位置的所述子單元圖案具有相同或不同的形狀，所述微透鏡陣列層的不同位置的所述微透鏡具有相同或不同的形狀。
[0018]上述防偽膜通過將透明基膜的相對的兩個表面分別設置圖形層和微透鏡陣列層，圖形層的子單元圖案呈陣列分布，微透鏡陣列層的微透鏡呈陣列分布，且和圖形層的單元圖案一一對應。圖形層的子單元圖案和未被子單元圖案覆蓋的區域的結構為全息素面光柵結構或平面結構，子單元圖案和未被子單元圖案覆蓋的區域的結構不同，從而使上述防偽膜能成像莫爾放大圖文，具有垂直動感、平行動感、上浮、下沉、立體、多通道的效果，防偽效果顯著。該防偽膜的微透鏡和底層的圖形層的子單元圖案屬微米級結構，且微透鏡陣列與圖形層的子單元圖案陣列匹配度要求高，因此該防偽膜結構更加精細，技術門檻高，仿造難度更大，防偽能力更強。
【附圖說明】
[0019]圖1為一實施方式的防偽膜的一視角的結構示意圖。
[0020]圖2為圖1所示的防偽膜的另一視角的結構示意圖。
[0021]圖3為圖1所示的防偽膜的微透鏡陣列層的俯視圖。
[0022]圖4為圖1所示的防偽膜的圖形層的結構示意圖。
[0023]圖5為圖4所示的圖形層的放大結構示意圖。
【具體實施方式】
[0024]為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清晰，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0025]請參閱圖1-圖5，一實施方式的防偽膜100，包括圖形層10、透明基膜20和微透鏡陣列層30。圖形層10和微透鏡陣列層30分別設置在透明基膜20的相對的兩個表面。圖形層10包括多個子單元圖案14和未被子單元圖案覆蓋的區域16。子單元圖案14呈陣列分布。微透鏡陣列層30包括呈陣列分布的多個微透鏡32。微透鏡32為凸透鏡。微透鏡陣列層30的微透鏡32和圖形層10的子單元圖案14--對應。底層的圖形層10的微米級的子單元圖案14基于莫爾放大原理由微透鏡陣列層30將子單元圖案14放大形成肉眼可觀察的毫米級莫爾放大圖文。
[0026]請參考圖4，圖形層10的子單元圖案14的結構為全息素面光柵結構或平面結構，未被子單元圖案覆蓋的區域16的結構為全息素面光柵結構或平面結構，且子單元圖案14和未被子單元圖案覆蓋的區域16的結構不同。即，當子單元圖案14的結構為全息素面光柵結構時，圖形層10未被子單元圖案覆蓋的區域16為平面結構。當圖形層10未被子單元圖案覆蓋的區域16為全息素面光柵結構時，子單元圖案14的結構為平面結構。圖形層10采用全息素面光柵結構與平面結構在光照下的高對比度，形成圖案。優選的，子單元圖案14的結構為平面結構，圖形層10未被子單元圖案覆蓋的區域16為全息素面光柵結構。此時，莫爾放大圖文具有定向反射性，不同觀察角度可再現純的銀色或暗灰色。非莫爾放大圖文區即圖形層10未被子單元圖案覆蓋的區域16具有光柵衍射的彩虹色，從而提高莫爾放大圖文的對比度。
[0027]子單元圖案14的尺寸范圍可以為5 μ m-30 μ m。
[0028]在本實施方式中，圖形層10的子單元圖案陣列與微透鏡陣列層30的微透鏡陣列的周期相等，陣列方向相差10° -0.01°。在其他實施方式中，也可以是圖形層10的子單元圖案陣列與微透鏡陣列層30的微透鏡陣列的陣列方向相同，周期相差10% -0.1%。
[0029]圖形層10的不同位置的子單元圖案14可以具有相同或不同的形狀。具體的，圖形層10的子單元圖案14的形狀可以為三角形、四邊形、六邊形、其他多邊形、圓形等。在圖1所示的實施方式中，所有子單元圖案14的形狀均為四邊形。可以理解，在其他實施方式中，子單元圖案14的形狀也可以是其他形狀。不同的子單元圖案14在空間的交集可以為空集或非空集。圖形層10可以為多種子單元圖案陣列。在本實施方式中，圖形層10的子單元圖案14的排列方式為六邊形排列。可以理解，在其他實施方式中，圖形層10的子單元圖案14的排列方式還可以為四邊形排列、環形排列及按照需要的各種其它非規則方式排列。
[0030]圖形層10的表面還可以鍍有一層金屬層(圖未不)。此時，圖形層10即構成反射式圖形層。當圖形層10的表面沒有鍍金屬層時，即為透射式圖形層。金屬層可以采用蒸鍍的方式沉積制備。
[0031]透明基膜20的厚度可以為20 ym?135 μπι。透明基膜20的厚度d可以為微透鏡的焦距F的0.5倍-1.5倍，即:F/2彡d彡1.5F。
[0032]透明基膜20的材質可以為熱塑性樹脂材料或者玻璃，熱塑性樹脂材料可