本實用新型屬于連續鋼構渡槽的施工技術領域,具體涉及一種連續鋼構渡槽GG2#墩地基灌漿系統。
背景技術:
因樁基深度一般較大,挖孔施工過程中必須用護筒等裝置做好防水、防涌砂的預處理。但是對于部分離富水源較近的樁基,在挖孔樁施工時,常規鋼護筒裝置挖不能預防解決大涌水事故,可能導致樁基無法繼續施工,影響施工進度,甚至引發安全事故。例如徐家灣渡槽GG2#主墩高92m,基礎為樁基承臺結構,該墩共有圓形2m直徑樁基12根,采用人工挖孔法施工。樁頂設計高程為1184.76m,樁底設計高程為1168.06m,各樁嵌入巖石飽和單軸抗壓強度不小于35Mpa的弱風化泥質灰巖深度6m以上。單根設計樁長為16.7m,總樁長200.4m。GG2#墩距離阿珠水庫僅21.3m,水庫水位高程為1175.71m,導致樁基挖孔施工時容易出現樁孔內涌水的問題,導致部分樁基挖孔施工無法繼續施工,需對樁基進行水下混凝土灌注才能繼續開挖。
技術實現要素:
本實用新型為了解決距水庫等富水源處較近的樁基因涌水量過大導致無法施工的問題,進而提供了一種連續鋼構渡槽GG2#墩地基灌漿系統。
本實用新型采用如下技術方案:
一種連續鋼構渡槽GG2#墩地基灌漿系統,包括通過輸漿管依次連接的攪拌機、存料桶、注漿泵和進漿閥,進漿閥上連接有射漿管,所述注漿泵的輸出端輸漿管路上設有流量計、壓力表和壓力閥。
所述存料桶上連接有回漿管,回漿管路上設有流量計。
所述流量計和壓力表上連接有自動記錄儀。
所述進漿閥的輸入端輸漿管路上設有泄漿閥。
本實用新型所述灌漿系統中設有控制流量計和分級壓力表以及相關的控制閥等,能夠根據實際輸漿管路和回漿管路中的灌漿壓力和流量作出及時調整,尤其適用于需分段循環灌漿的灌漿孔,利用該系統除了能監控調整灌漿流量和壓力外,還能根據監測數據及時調整漿液濃度。
該系統設有自動記錄儀,可將灌漿時的數據進行記錄保存并分析,為灌漿施工技術的改進以及對樁基施工處水文地質的分析等作有利輔助。
附圖說明
圖1為灌漿系統的連接示意圖;
圖2為GG1#墩地基灌漿孔平面布置示意圖;
圖中: 3-灌漿孔、4-止漿塞、5-注漿管、6-回漿管、7-射漿管、8-進漿閥、9-泄漿閥、10-自動記錄儀、11-流量計、13-壓力表、14-壓力閥、15-注漿泵、16-存料桶、17-攪拌機。
具體實施方式
如圖1所示的連續鋼構渡槽GG2#墩地基灌漿系統,包括通過輸漿管依次連接的攪拌機17、存料桶16、注漿泵15和進漿閥8,進漿閥8上連接有射漿管7,所述注漿泵15的輸出端輸漿管路上設有流量計11、壓力表13和壓力閥14。
所述存料桶16上連接有回漿管6,回漿管路上設有流量計11。利用回漿管可將灌漿孔內的多余漿液進行反排,并利用流量計實時測量并調整回漿管路中的流量。
所述流量計11和壓力表13上連接有自動記錄儀10。可將輸漿管路和回漿管路中的壓力和流量數據進行記錄觀察分析。
所述進漿閥8的輸入端輸漿管路上設有泄漿閥9。當輸漿流量過大或管路內壓力過大時,通過泄漿閥9對輸漿管路卸載。同時,利用回漿管路的流量計進行監控時,當發現灌漿孔內的漿液過多時,也可利用泄漿閥進行釋放,減少輸漿量。
如圖2所示,因連續鋼構渡槽GG2#墩地基的1#、5#、9#挖空樁為近水樁,灌漿孔采用單排布置;孔間距3.0m,總計9孔,孔徑91mm。GG2#墩基礎各灌漿孔開孔高程均為現地面,孔深均為24m,其中單孔有效孔深15m,無效孔深9m;總孔深216m,其中有效孔135m,無效孔深81m。灌漿分為2期施工,第1期為1#~3#孔、7#~9#孔;第2期為4#~6#孔,。每期灌漿分三序施工, 且各灌漿孔采取分段循環灌漿的方式,循環灌漿時的灌漿水泥漿液濃度由稀變濃,逐級變換,所述灌漿水泥漿液水灰重量比采用3:1、2:1、1:1、0.8:1、0.5:1共五個比級,初始比級采用3:1。
所述水泥漿液的變換原則為:
(1)灌漿過程中,某種比級漿液注入量大于300L或者注入時間達1小時,灌漿壓力和注入率均無變化或變化不明顯,改注濃一級的漿液;注漿流量按15~30L/min控制,最大注漿流量不超過50L/min;
(2)當采用最濃級別的水泥漿后,仍然出現灌漿壓力和注入率均無變化或變化不明顯的情況時,采用水玻璃作為速凝劑配置漿液,水玻璃模數2.4-3.4,濃度30-45波美度;
(3)當采用最濃級別的水泥-水玻璃漿液后,仍然出現灌漿壓力和注入率均無變化或變化不明顯的情況時,采用M10普通硅酸鹽水泥(P.O 42.5R)砂漿進行灌注,砂料細度模數2.0-2.2;
(4)當灌漿壓力保持不變而注入率持續減小或者注入率保持不變灌漿壓力持續增大時,不得改變比級;灌漿時發現灌漿壓力、注入率突然改變較大或單孔耗漿量超過20t而無明顯改善時,停止灌漿,并查明原因。
所述灌漿孔的灌漿段分段段長為5m,每個灌漿孔分3個灌漿段,若遇到溶洞、斷層、軟弱夾層等情況,分段段長不能超過3m。
因此,利用本實用新型所述的灌漿系統可有效監控循環灌漿過程中的灌漿壓力和流量,以便對漿液濃度作出及時調整。
其中,灌漿時的射漿管距離灌漿孔孔底不得大于50cm,防止出現局部區域漏灌的現象。
本實用新型中未作特殊說明的構件或裝置等均為現有技術。