900英尺/秒的速度噴射氣態混合物的氣流。
[0063] 圖1是根據本發明中一個實施方案，用于對目標進行氧化、凈化、消毒和/或滅菌 的設備1〇〇的側面透視圖。
[0064] 圖1的設備100包括二氧化氯入口 10,其被配置為用于攝入含有50至30, OOOppmv 二氧化氯的氣態混合物。二氧化氯入口 10可以從例如任何二氧化氯源（未示出）攝入氣體 混合物。例如，在一些實施方式中，二氧化氯入口 10被配置為從二氧化氯發生器接受/攝入 二氧化氯，例如，如美國專利號6, 468, 479公開的，二氧化氯入口 10可以直接或間接地連接 至其中。其中，二氧化氯入口 10從發生器攝入二氧化氯，發生器產生在溶液中的二氧化氯， 所述溶液途中穿過汽提塔至設備100。在一些實施方式中，二氧化氯入口 10被配置為從二 氧化氯源接受/攝入二氧化氯，如包含二氧化氯氣體或在溶液中的二氧化氯的容器。其中 所述容器包括一種溶液，該溶液可以通過任何可接受的方式制備（例如，通過發生器）。其 中所述容器包括在溶液中的二氧化氯，該溶液途中穿過汽提塔至設備100。在一些實施方式 中，設備100可以附著（直接地或間接地）至單獨的二氧化氯源，而在其它實施方式中，設 備本身可以包括二氧化氯源。
[0065] 如圖所示，在所述實施方式中，二氧化氯入口 10被配置為用于經由鄰接的部件14 間接攝入氣態混合物至氣體源12,上述部件可以是任何所需的組件（例如管道，管件，柱 等）。氣體源12是噴嘴，被配置為以25至900英尺/秒的速度噴射氣態混合物的氣流。二 氧化氯入口 10被配置為從二氧化氯的源（未示出），如二氧化氯發生器或容器，攝入氣態混 合物。
[0066] 設備100還包括密閉裝置16,其容納氣體源12,并且被配置為用來限定應用區。 雖然密閉裝置16可以是任何所需的形狀，大小和審美，但是設備100的密閉裝置16是透明 的圓錐體，具有柔性密封或刷密封或襯墊（未示出）以幫助提供氣體密閉。根據密閉裝置 16的尺寸和氣體源12和目標（未示出）之間的距離，密閉裝置16可用于密閉應用區（即 基本上或完全將封閉區與其周圍環境分離）。對于本領域的普通技術人員來說是顯而易見 的，在這樣的實施方式中，密閉裝置16 (當存在時）的尺寸可以決定在應用區的二氧化氯的 濃度。
[0067] 在一些實施方式中，密閉裝置16被配置為用來密封與對目標進行滅菌相關的應 用區，意味著，例如，在所描述的實施方式中，密閉裝置16的圓錐體將包括，例如密封（例如 氣密密封），其將接觸到目標和/或目標周圍的環境，以便密封在密閉裝置16內的目標，從 而產生密閉的和密封的應用區，其同時包括氣體源12和目標。
[0068] 設備100還包括真空源18,被配置為其通過在如應用區域內部形成真空，以回收 所消耗的氣態混合物（即已經從氣體源12噴射出來的氣態混合物）。在所描述的實施方 式中，真空源18在應用區內部形成真空。真空將所消耗的氣態混合物（和任何其它存在的 氣體如，在應用區內部的空氣）吸/拉進氣體返回組件20,使得氣體可以再循環，轉移，和/ 或在其它地方處理。氣體返回組件20可以是任何所需的或可接受的組件，包括但不限于一 個或多個管道、管等。
[0069] 在本發明的一些實施方式中，設備被配置為用來再循環所消耗的氣態混合物和/ 或所消耗的氣態混合物中的二氧化氯，以用于后續自氣體源的一或多個噴射周期。例如，在 設備1〇〇的情況下，氣體返回組件20可以包括，或者可以連接（直接或間接地）至二氧化 氯洗滌器。在一些實施方式中，氣體返回組件20連接至二氧化氯發生器，其包括二氧化氯 洗滌器。當本發明的設備和方法包括，和/或連接至和/或采用二氧化氯洗滌器時，洗滌器 能夠從穿過洗滌器的混合物（例如流出物或氣態混合物）中分離二氧化氯。可以采用能從 混合物中去除二氧化氯的任何可接受的洗滌器。例如在一些實施方式中，洗滌器可以包括 活性炭、堿性溶液（例如抗壞血酸，過氧化氫，亞硫酸鈉等）、水等。在一些實施方式中，本 發明包括和/或連接至和/或采用一個或多個洗滌器，其被配置為從混合物中去除其它組 分。在一些實施方式中，本發明的設備包括和/或連接至洗滌器，可以依次將其連接至例如 二氧化氯源，使得所洗滌的二氧化氯可以返回至二氧化氯源，使其可以在后續的噴射周期 中再循環使用。
[0070] 當氣態混合物（通常伴有空氣）返回至洗滌器（例如，由本發明所包括的洗滌器， 獨立的洗滌器，和/或由二氧化氯源如發生器所包括的洗滌器），可以從混合物中洗滌二氧 化氯，用于在以后的噴射周期中再循環。
[0071] 在一些實施方式中，氣體返回組件20包括或連接至過濾器（例如HEPA過濾器）， 在最終例如再循環、轉移和/或對其處理之前，消耗的氣體穿過過濾器。
[0072] 設備100還包括觸發器22,其進行配置用來例如發起和/或終止噴射時段/周期， 和/或用來控制噴射氣體混合物的速度。
[0073] 圖2示出了根據本發明的實施方式，用于對目標進行氧化，凈化，消毒和/或滅菌 的設備200。
[0074] 圖2的設備200包括二氧化氯入口 10,其被配置為用于攝入含有50至30, OOOppmv 二氧化氯的氣態混合物，而且其連接至用于產生二氧化氯的水溶液固態二氧化氯發生器 (未示出），并從用于產生二氧化氯的水溶液固態二氧化氯發生器（未示出）回收二氧化 氯。當來自發生器的二氧化氯溶液通過汽提塔時可以得到氣體，汽提塔可能是發生器的一 部分，或本發明設備的一部分，或是連接至（直接或間接地）發生器和/或至本發明設備 的單獨的裝置。在所描述的實施方式中，將汽提塔連接至二氧化氯發生器和本發明的設備 200,使得來自發生器的溶液穿過汽提塔，并且隨后流向并通過二氧化氯入口 10。在一實施 方式中，二氧化氯溶液供應到氣體汽提塔，每分鐘使用〇. 78克ClO2或約60%的汽提效率， 和為3克/升的溶液1. 3克總供給等于約每分鐘450mL供給溶液。因此，在一些實施方式中， 需要每分鐘〇. 78克，但是汽提效率低于100% (例如60% )，因此需要供給額外的ClO2(例 如，每分鐘1. 3克）。在一些這樣的實施方式中，在進入汽提塔之前，溶液可以包括，例如每 升3克ClO2，而在一些實施方式中，每分鐘可以使用435mL溶液。
[0075] 設備200的二氧化氯入口 10被配置為用于經由鄰接的組件14直接攝入二氧化氯 至氣體源12,所述氣體源是噴嘴。
[0076] 設備200還包括密閉裝置16,其是包括柔性密封17的透明圓錐體，其被配置為建 立氣密密封。密閉裝置16容納氣體源12,并且被配置為限定任選密閉的和密封的應用區， 其可以包括氣體源12和目標（未示出）。設備200包括真空源18,其從應用區吸/拉進所 消耗的氣態混合物和任選地空氣進入氣體返回組件20,所述氣體返回組件20是管子。而 真空源18吸和/吸收氣體時，真空的實際保持者或提供者（例如風扇、空氣栗等）可以位 于在設備內部或外部的任何地方。在所述的實施方式中，將真空源18連接至氣體返回組件 20,當氣態混合物離開應用區時，通過其將所消耗的氣體混合物抽真空。實際保持者或提供 者可以是任何可接受的方式（例如風扇，氣栗等），其是本發明設備的一部分或從本發明的 設備中分離出來，但是連接（包括可連接到）至本發明的設備。
[0077] 配置設備200的觸發器22以啟動和停止氣態混合物的噴射周期。
[0078] 圖3示出了根據本發明的另一實施方式，用于對目標進行氧化、凈化、消毒和/或 滅菌的設備300。
[0079] 圖3的設備300包括二氧化氯入口 10,其被配置為用于攝入含有50至30, OOOppmv 二氧化氯的氣態混合物，而且將其連接至間歇式二氧化氯源，并且從間歇式二氧化氯源 (未示出）回收二氧化氯。特別是，所描述的設備300包括，或者可以連接至容器（例如0. 5 至5升的容器），其包括二氧化氯氣體或二氧化氯溶液。其中用于設備300的二氧化氯源是 包括二氧化氯溶液的容器，所述設備還采用二氧化氯汽提塔，其可以是所述容器的一部分， 或者是所述設備300的一部分，或是（直接或間接地）連接至所述容器和設備300的單獨的 裝置。在所描述的實施方式中，汽提塔是連接至所述二氧化氯溶液容器和本發明所述的設 備300的單獨裝置，以使來自容器的溶液傳遞至汽提塔，在塔內，用在含有50至30000ppm v 的二氧化氯的氣態混合物中的空氣將二氧化氯氣體從溶液中汽提出來。氣態混合物隨后流 向并通過二氧化氯入口，而且最終作為氣態混合物24經由氣體源12離開所述設備300。
【具體實施方式】
[0080] 配置圖3的生物槍設備，使得通過二氧化氯入口以每分鐘10升的氣流速率供給在 空氣中的含有3, OOOppmv=氧化氯的氣態混合物。在噴射期間，氣態混合物從氣體源離開設 備，所述氣體源是槍式噴嘴，具有〇. 10厘米直徑，并且以700英尺/秒從噴嘴噴射。為了測 試，將噴嘴安置在距離目標2. 54cm處，目標是由SGM Biotech制造