內(nèi)容以及權(quán)利要求書,在實踐要求保護(hù)的本發(fā)明時,能夠理解并實現(xiàn)對所公開的實施例的其他變型。
[0108]在權(quán)利要求書中,詞語“包括”不排除其他元件或步驟,并且詞語“一”或“一個”不排除多個。
[0109]單個單元或設(shè)備可以滿足權(quán)利要求中記載的若干項目的功能。盡管在互不相同的從屬權(quán)利要求中記載了特定措施,但是這并不指示不能有利地使用這些措施的組合。
[0110]如對第一圖像和第二圖像中的導(dǎo)管的端部、跟蹤設(shè)備的端部和虛擬輻射源的識另IJ、這些元件之間的空間關(guān)系的確定、導(dǎo)管的總長度的確定、導(dǎo)管的姿態(tài)和形狀的確定、靶區(qū)域的姿態(tài)和形狀的確定、處置計劃的確定等由一個或若干單元或設(shè)備來執(zhí)行的過程可以通過任何其他數(shù)量的單元或設(shè)備來執(zhí)行。根據(jù)所述校準(zhǔn)方法的這些過程和/或?qū)π?zhǔn)裝置的控制,和/或根據(jù)所述處置計劃確定方法的對所述處置計劃確定裝置的控制可以被實現(xiàn)為計算機(jī)程序和/或?qū)S糜布某绦虼a單元。
[0111]計算機(jī)程序可以被存儲/分布在適合的介質(zhì)上,例如與其他硬件一起提供或作為其他硬件的部分提供的光學(xué)存儲介質(zhì)或固態(tài)介質(zhì),但是也可以被以其他形式分布,例如經(jīng)由因特網(wǎng)或其他的有線或無線的電信系統(tǒng)。
[0112]權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記都不應(yīng)被解釋為對范圍的限制。
[0113]本發(fā)明涉及一種用于校準(zhǔn)用于將如輻射源的影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng),具體用于校準(zhǔn)近距離放射治療系統(tǒng)的校準(zhǔn)裝置。第一圖像和第二圖像示出如導(dǎo)管的略長的引入設(shè)備和被盡可能遠(yuǎn)地插入到引入設(shè)備的跟蹤設(shè)備(如電磁可跟蹤導(dǎo)絲),以及引入設(shè)備和具有與影響元件相同的尺寸并且被盡可能遠(yuǎn)地插入到引入設(shè)備中的校準(zhǔn)元件。跟蹤設(shè)備與校準(zhǔn)元件之間的空間關(guān)系是基于用于校準(zhǔn)所述系統(tǒng)的圖像來確定的。對這種空間關(guān)系的知曉允許準(zhǔn)確地確定如近距離放射治療處置計劃的影響計劃,并且根據(jù)所述影響計劃來準(zhǔn)確地對所述影響元件進(jìn)行定位,這繼而允許對所述目標(biāo)的更準(zhǔn)確的影響。
【主權(quán)項】
1.一種用于校準(zhǔn)用于將影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng)(I)的校準(zhǔn)裝置,其中,所述影響元件適于影響所述目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,并且其中,所述校準(zhǔn)裝置(7)包括: -圖像提供單元(8),其用于提供示出略長的引入設(shè)備(12)和跟蹤設(shè)備(16)的第一圖像以及示出所述引入設(shè)備(12)和校準(zhǔn)元件(46)的第二圖像,所述略長的引入設(shè)備適于被插入到所述目標(biāo)⑵中以將所述影響元件(10)引入到所述目標(biāo)(2)中,所述跟蹤設(shè)備適于跟蹤所述引入設(shè)備(12)并且適于被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備(12)中,所述校準(zhǔn)元件具有與所述影響元件(10)相同的尺寸并且要被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備(12)中, -識別單元(70),其用于識別所述第一圖像和所述第二圖像中的所述引入設(shè)備(12)的端部、所述跟蹤設(shè)備(16)和所述校準(zhǔn)元件(46), -空間關(guān)系確定單元(71),其用于根據(jù)所述第一圖像和所述第二圖像來確定所述跟蹤設(shè)備(16)與所述校準(zhǔn)元件(46)之間的空間關(guān)系,在所述第一圖像和所述第二圖像中,所述引入設(shè)備(12)的所述端部、所述跟蹤設(shè)備(16)和所述校準(zhǔn)元件(46)已經(jīng)被識別。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置,其中,所述空間關(guān)系確定單元(71)適于: -根據(jù)所述第一圖像來確定所述引入設(shè)備(12)的所述端部的位置與所述跟蹤設(shè)備(16)的位置之間的距離,在所述第一圖像中所述引入設(shè)備(12)的所述端部和所述跟蹤設(shè)備(16)已經(jīng)被識別, -根據(jù)所述第二圖像來確定所述引入設(shè)備(12)的所述端部的位置與所述校準(zhǔn)元件(46)的位置之間的距離,在所述第二圖像中所述引入設(shè)備(12)的所述端部和所述校準(zhǔn)元件(46)已經(jīng)被識別,并且 -基于所確定的所述引入設(shè)備(12)的所述端部的位置與所述跟蹤設(shè)備(16)的位置之間的距離、以及所述引入設(shè)備(12)的所述端部的位置與所述校準(zhǔn)元件(46)的位置之間的距離來確定所述跟蹤設(shè)備(16)的位置與所述校準(zhǔn)元件(46)的位置之間的距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置,其中,所述校準(zhǔn)裝置(7)還包括: -超聲圖像提供單元(40、42),其用于提供所述引入設(shè)備(12)的所述端部的超聲圖像,以及 -跟蹤設(shè)備位置提供單元(6),其用于在所述跟蹤設(shè)備(16)已經(jīng)被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備(12)中時提供所述跟蹤設(shè)備(16)的位置, 其中,所述識別單元(70)適于識別所述超聲圖像中所述引入設(shè)備(12)的所述端部,并且其中,所述空間關(guān)系確定單元(71)適于基于具有識別出的所述引入設(shè)備(12)的所述端部和所提供的所述跟蹤設(shè)備(16)的位置的所述超聲圖像來更新所述跟蹤設(shè)備(16)與所述校準(zhǔn)元件(46)之間的所述空間關(guān)系。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)裝置,其中,所述跟蹤設(shè)備位置提供單元(6)適于提供以電磁形式或光纖形狀感測形式跟蹤的所述跟蹤設(shè)備(16)的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)裝置,其中,所述跟蹤設(shè)備位置提供單元(6)適于在所述跟蹤設(shè)備(16)在所述引入設(shè)備(12)內(nèi)被朝向和/或遠(yuǎn)離所述引入設(shè)備(12)內(nèi)的最遠(yuǎn)位置移動的同時提供所述跟蹤設(shè)備(16)的位置,并且其中,所述校準(zhǔn)裝置(7)還包括長度確定單元(45),所述長度確定單元用于基于所提供的位置來確定所述引入設(shè)備(12)的長度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置,其中,所述圖像提供單元適于提供放射照相圖像作為所述第一圖像和所述第二圖像。
7.—種用于校準(zhǔn)用于將影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng)(I)的校準(zhǔn)設(shè)備,其中,所述影響元件適于影響所述目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,并且其中,所述校準(zhǔn)設(shè)備(55)包括射線透射的塊(56),所述射線透射的塊具有: -能在放射照相圖像中識別的不透射線的基準(zhǔn)點(58、59),以及-用于接收引入設(shè)備(12)的通道(57),所述引入設(shè)備適于被插入到所述目標(biāo)(2)中以將影響元件(10)引入到所述目標(biāo)(2)中。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校準(zhǔn)設(shè)備,其中,所述基準(zhǔn)點(59)中的至少一些被平行于所述通道(57)布置。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校準(zhǔn)設(shè)備,其中,所述塊(56)包括具有不同直徑的若干通道(57)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校準(zhǔn)設(shè)備,其中,所述塊(56)是超聲波兼容的。
11.一種用于確定影響計劃的影響計劃確定裝置,所述影響計劃用于影響目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,所述裝置包括:-跟蹤設(shè)備位置提供單元¢),其用于提供引入設(shè)備(12)內(nèi)跟蹤設(shè)備(16)的位置,所述引入設(shè)備已經(jīng)被插入到所述目標(biāo)⑵中以將影響元件(10)引入到所述目標(biāo)(2)中,其中,所述位置沿所述引入設(shè)備(12)的長度并在所述引入設(shè)備(12)內(nèi)的最遠(yuǎn)位置處被確定,-引入設(shè)備姿態(tài)和形狀確定單元(44),其用于根據(jù)所提供的所述跟蹤設(shè)備(16)的位置來確定所述引入設(shè)備(12)的姿態(tài)和形狀, -靶區(qū)域姿態(tài)和形狀提供單元(43),其用于提供所述目標(biāo)(2)內(nèi)的所述靶區(qū)域的姿態(tài)和形狀, -影響計劃確定單元(39),其用于依據(jù)所述引入設(shè)備(12)的姿態(tài)和形狀、所述靶區(qū)域的姿態(tài)和形狀、所述引入設(shè)備(12)內(nèi)所述跟蹤設(shè)備的最遠(yuǎn)位置、以及由根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置(7)確定的所述跟蹤設(shè)備(16)與所述校準(zhǔn)元件(46)之間的空間關(guān)系來確定所述影響計劃。
12.—種用于校準(zhǔn)用于將影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng)⑴的校準(zhǔn)方法,其中,所述影響元件適于影響所述目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,并且其中,所述校準(zhǔn)方法包括: -由圖像提供單元提供示出略長的引入設(shè)備(12)和跟蹤設(shè)備(16)的第一圖像以及示出所述引入設(shè)備(12)和校準(zhǔn)元件(46)的第二圖像,所述略長的引入設(shè)備適于被插入到活體目標(biāo)⑵中以將影響元件(10)引入所述活體目標(biāo)(2)內(nèi),所述跟蹤設(shè)備適于跟蹤所述引入設(shè)備(12)并且被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備(12)中,所述校準(zhǔn)元件具有與所述影響元件(10)相同的尺寸并且被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備(12)中, -由識別單元(70)識別所述第一圖像和所述第二圖像中的所述引入設(shè)備(12)的端部、所述跟蹤設(shè)備(16)和所述校準(zhǔn)元件(46), -由空間關(guān)系確定單元(71)根據(jù)所述第一圖像和所述第二圖像來確定所述跟蹤設(shè)備(16)與所述校準(zhǔn)元件(46)之間的空間關(guān)系,在所述第一圖像和所述第二圖像中,所述引入設(shè)備(12)、所述跟蹤設(shè)備(16)和所述校準(zhǔn)元件(46)已經(jīng)被識別。
13.一種用于確定影響計劃的影響計劃確定方法,所述影響計劃用于影響目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,所述影響計劃確定方法包括: -由跟蹤設(shè)備位置提供單元(6)提供引入設(shè)備(12)內(nèi)跟蹤設(shè)備(16)的位置,所述引入設(shè)備已經(jīng)被插入到所述目標(biāo)⑵中以將影響元件(10)引入到所述目標(biāo)⑵中,其中,所述位置已經(jīng)沿所述引入設(shè)備(12)的長度并在所述引入設(shè)備(12)內(nèi)的最遠(yuǎn)位置處被確定, -由引入設(shè)備姿態(tài)和形狀確定單元(44)根據(jù)提供的所述跟蹤設(shè)備(16)的位置來確定所述引入設(shè)備(12)的姿態(tài)和形狀, -由靶區(qū)域姿態(tài)和形狀提供單元提供所述目標(biāo)(2)內(nèi)所述靶區(qū)域的姿態(tài)和形狀, -由影響計劃確定單元依據(jù)所述引入設(shè)備(12)的姿態(tài)和形狀、所述靶區(qū)域的姿態(tài)和形狀、各自的引入設(shè)備(12)內(nèi)的所述跟蹤設(shè)備(16)的最遠(yuǎn)位置、以及由根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置(7)確定的所述跟蹤設(shè)備(16)與所述校準(zhǔn)元件(46)之間的空間關(guān)系來確定所述影響計劃。
14.一種用于校準(zhǔn)用于將影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng)的校準(zhǔn)計算機(jī)程序,其中,所述影響元件適于影響所述目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,所述校準(zhǔn)計算機(jī)程序包括程序代碼單元,所述程序代碼單元用于在所述校準(zhǔn)計算機(jī)程序在控制根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)裝置的計算機(jī)上運(yùn)行時,令所述校準(zhǔn)裝置執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求12所述的校準(zhǔn)方法的步驟。
15.一種用于確定影響計劃的影響計劃確定計算機(jī)程序,所述影響計劃用于影響目標(biāo)內(nèi)的靶區(qū)域,所述影響計劃確定計算機(jī)程序包括程序代碼單元,所述程序代碼單元用于在所述影響計劃確定計算機(jī)程序在控制根據(jù)權(quán)利要求11所述的影響計劃確定裝置的計算機(jī)上運(yùn)行時令所述影響計劃確定裝置執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求13所述的影響計劃確定方法的步驟。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于校準(zhǔn)用于將如輻射源的影響元件引入到目標(biāo)中的系統(tǒng),具體用于校準(zhǔn)近距離放射治療系統(tǒng)的校準(zhǔn)裝置。第一圖像和第二圖像示出如導(dǎo)管的略長的引入設(shè)備(12)和被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備的跟蹤設(shè)備(16),如電磁可跟蹤導(dǎo)絲,以及所述引入設(shè)備和具有與所述影響元件相同的尺寸并且被盡可能遠(yuǎn)地插入到所述引入設(shè)備中的校準(zhǔn)元件(46)。所述跟蹤設(shè)備與所述校準(zhǔn)元件之間的空間關(guān)系是基于用于校準(zhǔn)所述系統(tǒng)的圖像來確定的。對這種空間關(guān)系的知曉允許準(zhǔn)確地確定如近距離放射治療處置計劃的影響計劃,并且根據(jù)所述影響計劃準(zhǔn)確地對所述影響元件進(jìn)行定位,這繼而允許對所述目標(biāo)的更準(zhǔn)確的影響。
【IPC分類】A61N5-10
【公開號】CN104837524
【申請?zhí)枴緾N201380063705
【發(fā)明人】S·巴拉特, J·克呂克爾, A·拉維, E·德赫甘馬爾瓦斯特
【申請人】皇家飛利浦有限公司, 新寧健康醫(yī)學(xué)中心
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2013年11月20日
【公告號】WO2014087289A2, WO2014087289A3