1.一種具有雙源射流的洗消凈化方法，基于超薄射流技術與等離子體技術建立，其特征在于，包括以下步驟：
將呈薄面狀的洗消液和呈幕狀的等離子體分別以兩個不同的流速射出；且幕狀等離子體的寬度不小于薄面狀洗消液；
呈薄面狀射出的洗消液能夠做離心運動，且幕狀射出的等離子體能夠與做離心運動的呈薄面狀射出的洗消液在位置O處以相切的方式匯流，即在匯流位置O處，等離子體的流速方向與洗消液的流速方向一致；
在匯流位置O處，薄面狀等離子體能夠在薄面狀洗消液表面移動，以將自身動量傳遞給處于此位置的薄面狀洗消液；而薄面狀洗消液與薄面狀等離子體比重的不同，致使兩者在經過匯流位置O處后，產生氣-液分層的薄面狀射流。
2.根據權利要求1所述的具有雙源射流的洗消凈化方法，其特征在于，所述的洗消液能夠從液體導流部件的進液部位到液體導流部件的出液部位逐步延展成薄膜狀，而最終呈薄面狀從液體導流部件的出液部位射出。
3.根據權利要求2所述的具有雙源射流的洗消凈化方法，其特征在于，液體導流部件為內凹弧形導流部件。
4.根據權利要求3所述的具有雙源射流的洗消凈化方法，其特征在于，所述等離子體通過氣體導流部件的導流后呈幕狀射出，且氣體導流部件也為內凹弧形導流部件，同時液體導流部件處于氣體導流部件內凹弧面的內側。
5.根據權利要求4所述的具有雙源射流的洗消凈化方法，其特征在于，所述的液體導流部件為內凹弧面，氣體導流部件為內凹弧形通道。
6.一種超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，包括液體輸送管、氣體輸送管以及雙源噴頭；雙源噴頭具有液體導流部件和氣體導流部件，液體輸送管的出口與液體導流部件連通，氣體輸送管的出口與氣體導流部件連通；其特征在于，液體輸送管、氣體輸送管分別與雙源噴頭固定連接；
液體導流部件設置于雙源噴頭表面，呈內凹弧面設置，該內凹弧面的一端具有進液部位，與液體輸送管的出口連通，另一端則設置成出液部位；
氣體導流部件為一內凹弧面通道，設于雙源噴頭內部；該內凹弧面通道的一端為進氣部位，與氣體輸送管的出口連通，另一端則敞口設置，為內凹弧面通道的出氣部位；
液體輸送管中輸入的洗消液，經內凹弧面的導流后，從內凹弧面的進液部位到內凹弧面的出液部位逐步延展成膜狀液流，最終從內凹弧面的出液部位呈薄面狀液流射出；
等離子體經內凹弧面通道的導流后，從內凹弧面通道的出氣部位呈幕狀噴出；
呈幕狀從內凹弧面通道中噴出的等離子體以及呈薄面狀從內凹弧面射出的洗消液能夠在位置O處呈內切方式匯流，此時等離子體的流速方向與洗消液的流速方向一致；
從內凹弧面噴射而出的薄面狀洗消液，在經過匯流位置O處后，由于前期內凹弧面的導向，使得洗消液能夠繼續保持離心運動；從內凹弧面通道中噴射而出的薄面狀等離子體在匯流位置O處，能夠在薄面狀洗消液表面移動，以將自身動量傳遞給處于此位置的薄面狀洗消液；
薄面狀洗消液與薄面狀等離子體比重的不同，致使兩者在經過匯流位置O處后，產生氣-液分層的薄面狀射流。
7.根據權利要求6所述的超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，其特征在于，所述雙源噴頭具有兩個端部，分別為管體固定端以及流體噴出端，管體固定端與流體噴出端相對設置；液體輸送管、氣體輸送管并列地安裝在雙源噴頭的管體固定端；內凹弧面的進液部位與雙源噴頭的管體固定端相鄰，而內凹弧面的出液部位設置于雙源噴頭的流體噴出端；內凹弧面通道的進氣部位與雙源噴頭的管體固定端相鄰，而內凹弧面通道的出氣部位設置于雙源噴頭的流體噴出端。
8.根據權利要求7所述的超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，其特征在于，所述的內凹弧面為扇形內凹弧面，而內凹弧面通道也為扇形內凹弧面通道；且扇形內凹弧面、扇形內凹弧面通道兩者的扇面均從雙源噴頭的管體固定端至雙源噴頭的流體噴出端逐步展開。
9.根據權利要求7所述的超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，其特征在于，所述液體輸送管的管徑為1-2mm，液體輸送管中洗消液的液壓是15-20MPa；內凹弧面的曲率半徑是4-5cm。
10.根據權利要求7所述的超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，其特征在于，所述內凹弧形通道的曲率半徑相對于內凹弧面曲率半徑的差異，與液體輸送管、氣體輸送管在雙源噴頭管體固定端上的安裝位置相關。
11.根據權利要求7所述的超薄射流與等離子體組合式洗消凈化裝置，其特征在于，所述內凹弧面的曲率半徑與液體輸送管的管徑、流經液體輸送管的洗消液的液壓有關。