技術編號：9748483
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及半導體行業光刻，具體而言，涉及一種正交性測試方法和裝置。背景技術光刻技術是指在基底表面上印刷具有特征的構圖，這種基地可以包括用于制造半導體器件、多種集成電路、平面顯示器(液晶顯示器等)、電路板、生物芯片、微機械電子芯片、光電子線路芯片等的芯片。在光刻技術中，極地紡織在精密移動平臺的基地平臺上，通過處于光刻設備內的曝光裝置，在特征構圖投射到基底表面的指定位置。為保證圖形投射位置的精確定位，需要標定一些列參數，其中移動平臺的正交性標定尤其重要。對于直...
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