技術(shù)編號：9689144

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金屬微電極是各種電子器件中必不可少的部分，傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工藝中微電極的制作都是基于昂貴的光刻工藝，光刻工藝具有精度高的優(yōu)點，已經(jīng)商業(yè)化地用于基于硅基地的各種微納電極的制作。光刻的一般工藝流程包括底膜處理，涂膠，前烘，曝光，顯影，堅模，刻蝕，去膠，其中根據(jù)曝光的選擇光源的不同可分為紫外線曝光，電子束曝光。然而該工藝由于其設(shè)備昂貴，對加工環(huán)境要求高，在加工各種圖形的金屬電極之前需要制作復(fù)雜的掩模板，大大增加了工藝的復(fù)雜程度。因此長久以來，人們都在努力研究一套快速...
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