技術(shù)編號：9673152

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快速熱處理(RTP, Rapid thermal processing)使基板受到短暫而強(qiáng)烈的熱沖。RTP技術(shù)可用于改變沉積膜或晶格的特性，且通常包括諸如基板表面的退火、硅化和氧化之類的處理。通常，RTP腔室包括輻射熱源、腔室主體、基板支撐件和處理氣體供給系統(tǒng)。輻射熱源通常安裝于腔室主體的頂部表面上，使得熱源所產(chǎn)生的能量輻照于腔室主體內(nèi)由基板支撐件所支撐的基板上。處理氣體通常從一或更多個(gè)氣體入口供給至腔室。當(dāng)使用兩種處理氣體時(shí)，例如氫(?)和氧(02)，這...
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