技術編號：9447563
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 無機的半導體材料在電子工業、數碼工業、太陽能產業中廣泛采用。其污物主要是 表面殘留物、助焊劑、松香、樹脂、油污、指印、灰塵，清洗劑需是易揮發有機體系、且快速、高 效、通常在較低溫度下進行清洗。發明內容 本發明所要解決的技術問題在于，提供一種成本相對較低、使用效果佳、快速、且 在較低溫度下進行清洗的半導體表面清洗劑。 本發明所采用的技術方案為一種半導體表面清洗劑，按重量份包括如下組分 氣碳溶劑10-60份、氨氣酸10-60份、有機醇1-20份、表面活性劑1...
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