技術編號：9430663
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及物理氣相沉積離子鍍膜，尤其是涉及一種。背景技術物理氣相沉積(PVD)是通過加熱蒸發，陰極電弧或磁控濺射蒸發等過程，產生金屬粒子并與反應氣體形成化合物沉積在工件表面上。物理氣相沉積主要有蒸發鍍，陰極電弧鍍和磁控濺射鍍三種常用方法，陰極電弧鍍俗稱離子鍍。在離子鍍過程中，利用陰極電弧源(CAE)放電產生金屬離子，在工件上建立的高負偏壓的作用下，金屬離子獲得一定動能轟擊到工件表面上，形成對工件表面預刻蝕和清洗(即主弧轟擊清洗過程)；此方法雖然有很多優點，...
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