技術編號:9422363
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。 隨著半導體技術的進步,縮小器件尺寸變成越來越復雜的任務。補充計量工具,允 許測量能力的類似改進,對于這種發展的連續進程至關重要。 光學計量能夠獲取關于對具有小尺寸的圖案特征(臨界尺寸)的圖案化結構進行 表征的幾何和材料性質的高度精準的信息。幾個物理量通常由光學計量來測量并且尤其由 光學臨界尺寸(OCD)技術來測量。例如,光學反射測量法在單個(或一小組)入射方向和 不同的偏振之上測量寬光譜的反射強度。此外,橢圓測量法允許訪問關于在不同的偏振狀 態之間的相對...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發人員的辛勤研發付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。