技術編號：9155964
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種真空陰極電弧源，尤其是涉及一種能使放電時弧斑滿布靶面的真空陰極電弧源。背景技術真空陰極電弧沉積是目前制備工模具硬質保護膜和裝飾性保護膜的離子鍍膜主流技術之一，由于真空陰極電弧沉積具有離化率高、粒子能量大、膜/基結合力好、沉積速度快，可以沉積金屬膜、合金膜，也可以反應鍍合成氮化物、碳化物、氧化物、碳氮化物、DLC等多種膜系，且靶位可以任意配置等優勢，在工模具硬質保護膜沉積應用上特別受到重視，國內外都在開發真空陰極電弧技術上進行了大量工作，其...
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