技術編號：8603194
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。目前，光學薄膜通常是在光學組件或獨立基板上鍍上一層或多層介電質膜或金屬膜來改變光波傳送特性，廣泛應用于光學儀器。在光學鍍膜過程中，為了制作高純度的薄膜，鍍膜制程須在高真空環境下完成，以電子槍或電阻式加熱薄膜材料，將其由固態轉化為氣態或離子態，進而沉積在基板上逐漸形成薄膜。在半導體元件制造中，需在晶片的背面鍍上反射鏡膜(如分布布拉格反射鏡，英文縮寫為DBR)改變晶片的出光方向。在進行光學鍍膜前，首先需將待鍍晶片固定在傘狀鍍鍋上，然后將鍍鍋安裝于光學鍍膜機腔體...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。