技術編號：8456712
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 本發明涉及一種用于光瞳偏振態測量的光學系統，特別涉及一種用于光刻機照明 光瞳偏振態測量的光學系統。背景技術 光刻機是一種將所需圖形轉移到涂覆有光敏材料的襯底目標位置上的設備。光刻 機可以應用于集成電路（IC)制造、印刷電路板（PCB)制造、液晶面板（LCD)制造等。一般 情況下，所需圖形是在掩模或掩模版（reticle、mask)上，可以將所需圖形轉移到襯底（例 如，硅片）上的目標位置（例如，包括一個或多個芯片的曝光場）上，所述襯底上涂覆有光 敏材料（例...
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