技術編號：8396942
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 隨著半導體器件尺寸變得越來越小，柵極結(jié)構(gòu)的尺寸也相應地減小。當半導體器 件尺寸小于〇.Iym時，通常需要采用金屬柵(例如鋁柵極)代替多晶硅柵。當半導體器件尺 寸進一步減小時，例如小于20nm技術節(jié)點，通常采用鎢柵極代替鋁柵極。 在鎢柵極的制作過程中，通常需要使用化學機械拋光使表面平坦化。然而，鎢是一 種具有高硬度、高熔點的金屬，并且在化學機械拋光器件很容易發(fā)生低溫脆性斷裂。低溫脆 性斷裂包括穿晶脆斷和沿晶界的晶間脆斷兩種斷裂方式。穿晶脆斷主要是解理斷裂。...
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