技術編號：8318261
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及半導體器件微納制造，尤其是涉及一種。背景技術在過去的幾年中，微電子技術已發展到深亞微米階段，并正在向納米階段推進。在此期間，與微電子領域相關的微/納加工技術得到了飛速發展，如圖形曝光(光刻)技術、材料刻蝕技術、薄膜生成技術、離子注入技術和粘結互連技術等。在這些加工技術中，圖形曝光技術是微電子制造技術發展的主要推動者，正是由于曝光圖形的分辨率和套刻精度的不斷提高，促使集成電路集成度不斷提高和制備成本持續降低。電子束光刻技術是推動微米電子學和微納米加...
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