技術編號：8082359
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。專利摘要一種LED外延片倒置MOCVD反應爐屬于半導體外延生長設備領域。包括爐體、爐蓋通過插銷裝置固定的基盤承載部，排氣整流罩固定在爐底且通過外置升降汽缸與源料導入管同時進行升降。本技術方案中，襯底片倒掛式放置，基盤、衛星盤圍可實現同時旋轉，基盤可整體利用機械臂搬送。此設計使襯底外延生長面向下，解決了因此問題導致良率過低的問題；基盤旋轉帶動衛星盤圍繞基盤軸心旋轉，同時，衛星盤也圍繞其軸心自轉，消除了氣流場的不均勻性和熱場的不均勻性，使外延生長更加均勻；基盤利用機械臂搬送，相比較頻繁開爐蓋、手動更換襯底工序，節省了大...
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