技術編號：7222932
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。帶有介電間隔環的邊緣環組件背景技術在下述說明中，對某些結構及方法進行了參考，但是，這些參 考不應當必然解釋為7 "人這些結構和方法限定為在相關適用的法 規規定下的現有技術。申請人保留證明任何參考的主題不構成現有 技術的權利。在半導體處理領域，等離子體處理室一^用于蝕刻在基片上形 成的一個或多個層。在蝕刻過程中，基片支撐于該室內的基片支撐 件表面上。基片支撐件可包括圍繞該基片支撐件(即，圍繞該基片) 設置的邊緣環，用于將等離子體限制在該基片之上的體積，和/或...
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