技術(shù)編號(hào):7214431
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及輻射系統(tǒng)和包括輻射系統(tǒng)的光刻設(shè)備。具體地,本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生輻射束的輻射系統(tǒng),其包括產(chǎn)生EUV輻射的脈沖EUV源。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是將所需圖形施加到襯底上,通常為襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如,光刻設(shè)備可以用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可稱為掩模、標(biāo)線(reticle)等的構(gòu)圖裝置可以用于產(chǎn)生將形成在IC單層上的電路圖形。該圖形可以轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括一個(gè)或幾個(gè)管芯的部分)上。通常通過在提供于襯底上的輻...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。