技術編號：7209409
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本申請大體關于半導體處理設備，且具體地說，是關于在相對低溫下用光學技術量測底座(pedestal)及基座(susc印tor)的溫度。背景技術半導體處理設備用于薄膜及涂層的沉積、圖案化及處理中。已知基材處理腔室提供底座或支撐基材(以供處理)的某一等效方式。可通過用電阻性構件加熱底座或通過使用加熱燈以加熱底座及基材，而將熱提供至基材。燈通常位于處理腔室的外部。允許光穿過由高光學透射性材料(諸如石英)制成的視窗(viewport)或圓頂。石英也由于低熱膨脹系數及...
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