技術編號：7175193
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種絕緣裝置，特別是一種多晶硅生產過程中使用的絕緣裝置。 背景技術在SiHCl3合成工序和氫還原制取多晶硅的工序中，會產生大量的副產物SiCl4, 如果不能有效的進行回收利用，不僅造成巨大的資源浪費，增加生產成本，而且會造成嚴重的環境污染和災難性后果。目前，最好的辦法就是將SiCl4經氫化后轉化為三氯氫硅，這樣操作不僅處理了副產物SiCl4，還重新得到了生產多晶硅的原料SiHCl3,目前國內多晶硅企業大多采用熱氫化法進行SiCI4W處理。但是...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。