技術(shù)編號(hào)：7165030

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本公開這里涉及一種半導(dǎo)體器件，更特別地，涉及存儲(chǔ)器件以及制造半導(dǎo)體器件的方法、存儲(chǔ)系統(tǒng)和多層器件。背景技術(shù)為了滿足消費(fèi)者對(duì)于優(yōu)良性能和成本降低的需求，需要更高集成度的半導(dǎo)體器件。對(duì)于半導(dǎo)體存儲(chǔ)器件，高的集成度尤其重要，因?yàn)榧啥仁谴_定產(chǎn)品價(jià)格的重要因素。 對(duì)于通常的二維或平面的存儲(chǔ)半導(dǎo)體器件，由于它們的集成度主要由單位存儲(chǔ)單元所占據(jù)的電路面積來確定，所以集成度受到形成精細(xì)圖案的能力的極大影響。然而，由于為了進(jìn)一步改進(jìn)圖案精細(xì)度需要非常昂貴的半導(dǎo)體設(shè)備，所以...
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