技術編號：7160583
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明屬于硅基納米材料和器件制造領域，具體涉及一種制備高密度硅納米孔陣列的工藝方法。背景技術硅納米孔被認為是光伏、生物化學傳感器、以及能量存儲領域非常有前途的加工模板。在眾多的制造方法中，金屬輔助化學刻蝕因其可以通過簡單、低廉的工藝步驟在硅片上形成硅納米孔結構，在最近十年里得到了廣泛的關注。金屬輔助化學刻蝕形成硅納米孔的基本機理是首先在硅片上覆蓋一層非連續的重金屬(Au、Ag、Pt或Pd)顆粒，然后將硅片浸沒在含有氫氟酸和氧化劑(雙氧水、硝酸鐵、高錳酸鉀等...
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