技術編號：7150363
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。,以及襯底處理裝置的制作方法本發明涉及脫水干燥方法、脫水干燥裝置和用于脫水和干燥用在半導體制作工藝等等中，在濕處理中處理過的襯底的襯底處理裝置。背景技術 迄今為止，在半導體制做中，已經習慣通過旋轉-干燥處理或N2氣流處理來脫水和干燥在濕處理中處理過的襯底，在該旋轉-干燥處理中，由旋轉式脫水機以高速旋轉襯底以便在離心力的作用下去除附著在襯底表面的水分將N2氣體吹到襯底上以便干燥襯底。近年來，當半導體設備的處理速度變得更高時，已經將所謂的低k薄膜用作將形成在襯...
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