技術編號：7123310
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。背景技術 熱處理室是指一種利用諸如輻射能量的能量加熱諸如半導體晶片的對象的裝置。此類裝置典型地包括用于支撐半導體晶片的襯底座(substrateholder)和發射加熱晶片所用的光能的光源。為了在熱處理期間監視半導體晶片的溫度，熱處理室典型地還包括輻射探測裝置，例如高溫計，它們探測由半導體晶片在選定波長處發射的輻射。通過探測晶片所發射的熱輻射，可以以適當的準確度計算晶片的溫度。不過，在設計具有光學測溫系統的快速熱處理室時一個重要的問題在于，防止加熱燈發出的...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。