技術編號：7106865
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明的實施例涉及一種用于基板處理腔室中的遮蔽件。·背景技術在集成電路及顯示器的工藝中，諸如半導體晶片或顯示面板等基板會放置在處理腔室中，并且設定腔室內的處理條件以在基板上沉積或蝕刻材料。典型的處理腔包含多種腔室部件，所述腔室部件包括用以圈出處理區域的圈圍室壁、提供工藝氣體至腔室中的氣體供應器、激發工藝氣體以處理基板的氣體激發器(energizer)、用以排放及去除用畢氣體且維持腔內壓力的氣體出口，以及用以支撐基板的基板支撐件。此類腔室可包括例如濺射或物理...
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