技術編號：6935577
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明有關一種測量對光罩圖案修正所引起基極與接觸間橋接(bridge)的方法、結構與布局。(2)背景技術由于圖案轉移程序往往不能百分之百地將光罩的圖案轉移至光阻，而且顯影過程與蝕刻程序等也總難免會有耗損，因此實際形成在底材的圖案往往與光罩的圖案不同，而有下列的缺失終端變圓(end rounding)、終端變短(end shorting)、角落變圓(corner rounding)，臨界尺寸偏差(critical dimension offset)以及橋接現...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。