技術編號：6934977
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。 背景技術光刻裝置是一種將所需圖案應用于基底靶部上的裝置。光刻裝置可 以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構圖部件，如掩模 可用于產生對應于IC一個單獨層的電路圖案，該圖案可以成像在已涂敷 輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括 一部分， 一個或者多個管芯)。 一般地，單一的晶片將包含相繼曝光的相 鄰靶部的網格。已知的光刻裝置包括所謂的步進器，通過將整個圖案一 次曝光到靶部上而輻...
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