技術編號：6876162
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種光刻裝置以及在諸如集成電路(IC)的器件的制造中使用該裝置的方法。特別是，盡管不一定，本發明涉及利用偏振輻射保持并延長光刻裝置中照明系統的壽命，同時仍然提供對于將空間尺寸范圍的特征傳遞到基底上的最佳的輻射。背景技術 光刻裝置是一種將所需圖案應用于基底上的裝置，通常是將所需圖案應用于基底的目標部分上的裝置。光刻裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構圖部件，其可選擇地稱作掩模或中間掩模版，可用于產生在IC一個單獨層上形成的電路圖...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。