技術編號：6873629
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及耐氣體腐蝕性和耐等離子體性優異的鋁構件或鋁合金構 件，特別是涉及適于制造半導體和液晶等的電子制品和機器的裝置等，使 用含有腐蝕性的成分和元素的氣體和等離子體的裝置材料的鋁構件或鋁 合金構件，以及由其構成的真空容器(真空室)、反應容器(反應室)、或 設置在容器內的構件。背景技術在CVD裝置、PVD裝置、干式蝕刻(dry etching)裝置等所使用的 真空室和反應室(以下稱為室)的內部，由于作為反應氣體、蝕刻氣體、 清洗氣會導入C1、 F、 Br等...
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