技術編號：6249517
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種基于二值化方法的、結合了掃描云紋技術和灰度共生矩陣處理方法的納米多孔材料表征方法，通過掃描電子顯微鏡拍攝被測納米多孔材料的云紋條紋圖像，并采用灰度共生矩陣方法處理該云紋條紋圖，通過對獲得的云紋條紋圖進行二值化處理，可將圖像的灰度級別降低為原來的1/128，相應地，由二值化云紋條紋圖所獲得的灰度共生矩陣的維數也減少到原來的1/128。本發明方法具有快速高效等優點，同時兼具靈敏度高、操作簡單，以及可批量處理等優點。專利說明-種二值化的納米多孔材料表征方法 ...
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