技術編號：6030829
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種氣室，特別是關于一種應用于紅外線分析儀中的多次反射氣室。背景技術目前，應用于紅外線分析儀中的氣室主要包括直通式氣室和多次反射式氣室兩 類，其中直通式氣室結構簡單、氣室容積小、反應速度快，是工業中高濃度氣體分 析常用的方法。但是，直通式氣室受標準機箱大小規格的限制，使其光程不超過200mm，因此直通式氣室僅限于高濃度氣體的測量。多次反射氣室的特點是在有限 的空間內，利用多次反射的原理增大光程，從而增加光學深度，但是由于氣室結構 的原因，現有的多...
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