技術編號：5838839
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種。氮氣、氫氣和氧氣是集成電路工業中用作反應介質或者實際反應物的那些氣體。正如所公知的，在制造這些器件的過程中，反應物的純度是最重要的；事實上，反應物或者反應環境中可能存在的污染物會結合到固態器件中，于是就改變了這些器件的電性能，并產生生產廢品。生產過程中所用氣體純度的技術要求對于不同制造者是不同的，這取決于使用氣體的特定工藝過程。一般而言，當氣體中雜質含量不高于10ppb(每十億份的份數)時，認為可將該氣體用于制造過程；優選地，雜質含量要低于...
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