技術編號：5266680
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及微電子技術中的深亞微米、納米加工，尤其涉及 一種利用場致發射產生的電子束制作納米級圖形的方法。背景技術隨著半導體產業的飛速發展，器件的特征尺寸已全面地從深亞微米進 入到納米尺度。納米級圖形加工的能力成了決定集成電路繼續按摩爾定律 繼續向下推進的關鍵。同時隨著納米科學的蓬勃興起，納米級圖形加工也 成為了納米技術發展的基礎。目前， 一般采用浸沒式光刻技術、聚焦電子束光刻實現納米級圖形加 工。但是，上述浸沒式光刻技術實現成本高的問題，聚焦電子束光刻技術...
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