技術編號：5016050
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。背景技術許多工業操作都使用氟化物，經常是氫氟酸或如氟化銨這樣的氟化物鹽。例如，氧化鋁和二氧化硅蝕刻、清潔等和半導體制造都使用大量氫氟酸和其它氟化物。因為本領域公知的原因，作為水排出物中被控制的元素，對產生的廢水必須進行處理以除去氟陰離子。此外，使用氫氟酸(HF)時，半導體制造廠商經常要求超純的氫氟酸。典型的半導體制造廠每天平均可產生10,000加侖的混合酸性氟化物廢物。但是，產生這樣巨大量的氟陰離子廢物帶來顯著的處理問題。氟化物廢物正成為日益嚴厲的環境控制...
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