技術編號：5009622
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及半導體工業及研究中含砷及砷化合物的廢氣的處理方法。在半導體科研及生產中，在采用如化學束外延(CBE)、金屬有機化合物氣相淀積(MOCVD)等方法進行含砷的半導體材料制備過程中，產生含有砷及砷化合物的廢氣。這些成份是有毒的，因此，廢氣必須經處理后才能排放。國家環保標準對排放廢氣中有毒氣體的含量有具體規定，處理后的廢氣必須達到這一標準才能排放。通常是用處理溶液對有毒成份進行吸收，而且通常是用氧化劑來吸收。吸收的方式有兩種，一種是鼓泡，一種是逆向噴淋。...
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