技術編號：3805454
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及用于零件表面的系統和方法，特別是但不是唯一地涉及涂 覆或修復零件(例如具有復雜形狀的管等)的內表面的系統。背景技術"等離子體增強的化學氣相沉積"(PECVD)是一種用于在多種基體 上形成薄膜的已知^支術。例如，Feltset等的美國專利No.5,224,441描述了 一種用于快速等離子體沉積的裝置。在二氧化硅的等離子體增強的化學氣 相沉積中，包括各種成分(例如，揮發的有機硅化合物、氧和惰性氣體如 氦或氬氣)的氣流以降低的壓力被送到密封的腔室中，并...
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