技術編號：3385065
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。拋光液擋板[0001]本實用新型涉及化學機械拋光設備領域，具體而言，涉及一種拋光液擋板。技術背景[0002]大規模集成電路生產過程中，對晶片表面上的物質進行去除和平坦化是一道必需且使用頻繁的工序。目前，化學機械拋光是最有效的全局平坦化技術。在進行化學機械拋光的過程中，由拋光頭和拋光盤等運動部件旋轉產生的離心力會將拋光液從拋光墊上甩出。 拋光液飛濺到拋光空間的各個部位，難以完全清理。拋光液在拋光空間內結晶出顆粒，即使很微小的顆粒也會成為整個工作環境的污染源，...
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