技術編號：3360518
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。示例實施例涉及一種陶瓷涂覆體，更特別的是涉及一種耐等離子陶瓷涂覆體，其 具有孔小于大約的陶瓷層。背景技術在現(xiàn)有的用于執(zhí)行等離子處理的設備(等離子處理設備)中，在處理腔中將諸如 氟化物、氯化物和溴化物之類的各種反應氣體轉化為等離子狀態(tài)，可以通過使用所述等離 子來處理裝載到所述處理腔中的諸如半導體晶片之類的襯底和平板玻璃。但是，所述設備 的處理腔的內表面和任何內部部件也會和所述處理設備中的對象一起被反應氣體的等離 子蝕刻掉。為了防止蝕刻到所述設備的處理腔的內表...
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