技術編號：2967930
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及在襯底上淀積涂敷膜的方法，它是通過在能夠控制減壓氣氛的真空裝置中的濺射而進行的。已經嘗試的現有的技術包括緊靠著安放的二個陰極，分別在陰極上放置由不同材料制成的靶，并且，通過濺射，在襯底上淀積包含靶材料的涂敷膜。在這種情況下，使用給每一個陰極提供負電壓的電源。換言之，這種技術要為各自的陰極使用獨立的電路。在上述的濺射方法中，為了濺射靶材料而生成的輝光放電是不穩定的，即不正常的放電頻繁發生。因此，現有的技術有這樣一個問題不能獲得具有所需厚度的涂敷膜，...
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